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研究会
発表日時
開催地
タイトル・著者
抄録
資料番号
SDM
2006-06-21
16:25
広島
広島大学, 学士会館
NiSi/SiO2界面近傍の化学結合状態およびNiSi 層の実効仕事関数評価
○
吉永博路
・
東 大介
・
村上秀樹
・
大田晃生
・
宗高勇気
・
東 清一郎
・
宮崎誠一
（
広島大
）・
青山敬幸
・
保坂公彦
（
富士通研
）・
芝原健太郎
（
広島大
）
不純物(Sb、As 、PおよびB)添加したNi-silicideを熱酸化シリコン酸化膜（SiO2）上に形成し、Si基板を...
[more]
SDM2006-49
pp.43-48
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