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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2022-12-08 13:55 |
愛媛 | 愛媛大学 + オンライン開催 （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
垂直磁化SAF固定層を用いたCPP-GMR膜の電流誘起磁化反転 ○潘 達・曹 哲・大島大輝・加藤剛志（名大）  MRIS2022-19 |
3次元磁気メモリ素子開発を目指し，垂直磁化Co/Pd膜の電流誘起磁化反転を検討した． Ruを介して人工積層フェリ磁性（S... [more] | MRIS2022-19 pp.7-10 |
| RCS, SIP, IT (共催) |
2022-01-20 13:40 |
ONLINE | オンライン開催 | アンソースランダムアクセス通信における繰り返し干渉除去による衝突メッセージの復号 ○大島 大・木村共孝・程 俊（同志社大） IT2021-49 SIP2021-57 RCS2021-217 |
アンソースランダムアクセス通信における連接符号化法に対して，衝突メッセージ復号のための繰り返し干渉除去法を検討する．共通... [more] | IT2021-49 SIP2021-57 RCS2021-217 pp.113-118 |
| CPM | 2016-10-05 13:55 |
東京 | 機械振興会館 | Si基板上へのMnGa(001)配向膜の作製とイオン照射による磁気パターニング ○石川 徹・根来 翼・福田憲吾・大島大輝・加藤剛志・岩田 聡（名大） CPM2016-57 |
熱酸化膜付きSi基板上に(001)配向したL10-MnGa膜の成膜を試み，その構造と磁気特性をMgO(001)単結晶基板... [more] | CPM2016-57 pp.13-17 |
| CPM | 2015-10-14 14:20 |
東京 | 機械振興会館 | 超高密度イオン照射ビットパターン媒体実現のためのMnGa膜の薄膜化 ○松永隆雅・福田憲吾・大島大輝・加藤剛志・岩田 聡（名大）・綱島 滋（名古屋産業科学研） CPM2015-79 |
[more] | CPM2015-79 pp.13-16 |
| CPM | 2014-10-08 14:45 |
東京 | 機械振興会館 | Ag添加した(001)配向CoPt，CoPd膜の構造と磁気特性 ○永田太洋・徳岡良浩・大島大輝・加藤剛志・岩田 聡（名大） CPM2014-95 |
MBE法によりCoPt-Ag，CoPd-Agを成膜し，それらの結晶構造，表面構造，垂直磁気異方性について調査した．CoP... [more] | CPM2014-95 pp.17-20 |
| CPM | 2012-09-25 13:30 |
東京 | 機械振興会館 | 規則合金膜へのイオン照射による磁気特性制御とビットパターン構造の作製 ○大島大輝・谷本昌大・加藤剛志・岩田 聡（名大）・綱島 滋（名古屋産業科学研） CPM2012-86 |
我々はこれまでに，L12-CrPt3規則合金膜に30 keVのKr+イオン照射を行うことでその磁気特性が容易に制御できる... [more] | CPM2012-86 pp.5-9 |
| ITE-MMS, MRIS (連催) |
2010-10-14 15:45 |
秋田 | 秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所 | CrPt3規則合金膜へのイオン照射による微細ビットパターン構造の作製 ○加藤剛志・大島大輝（名大）・Edi Suharyadi（名大/学振）・岩田 聡（名大） MR2010-26 |
CrPt3規則合金膜へ30 keVのKr+イオンを照射することで，CrPt3膜はL12型の規則相からA1型不規則相へ相変... [more] | MR2010-26 pp.25-29 |
| SDM | 2010-02-05 15:15 |
東京 | 機械振興会館 | 次世代LSIパッケージ用チップ及びパッケージレベルのシームレスインターコネクト技術 ○山道新太郎・森 健太郎・菊池 克・村井秀哉・大島大輔・中島嘉樹（NEC）・副島康志・川野連也（NECエレクトロニクス）・村上朝夫（NEC） SDM2009-189 |
インターポーザ基板製造プロセスをベースとするチップ－パッケージ間の多層Cuめっき配線技術を開発した。Cu配線の厚さは5～... [more] | SDM2009-189 pp.43-48 |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2009-03-06 16:45 |
愛知 | 名古屋大学 | CrPt3規則合金膜を利用したイオン照射型ビットパターンメディア 山内幸大・○大島大輝・加藤剛志・岩田 聡・綱島 滋（名大）・松本幸治・森河 剛（山形富士通）・尾崎一幸（富士通研） MR2008-68 |
マグネトロンスパッタ製膜後熱処理することで作製したCrPt3規則合金膜(20 nm厚)にKr＋，Ar＋イオン等を照射し，... [more] | MR2008-68 pp.35-39 |
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