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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED 2015-04-17
09:55
宮城 東北大通研ナノスピン実験施設 加湿酸素プラズマガスを用いた酸化ハフニウム膜の室温原子層堆積の反応機構
鹿又健作大場尚志パンシラ ポープンブン有馬 ボシール アハンマド久保田 繁平原和弘廣瀬文彦山形大ED2015-11
我々はtetrakis(ethylmethylamino)hafnium(TEMAH)とプラズマ励起された酸素含有水蒸気... [more] ED2015-11
pp.53-58
CPM 2014-09-05
12:20
山形 山形大学工学部百年周年記念会館 セミナールーム1,2,3 室温原子層堆積法を用いた防蝕コーティング
廣瀬文彦鹿又健作大場尚志有馬ボシルアハマド久保田 繁平原和弘山形大CPM2014-89
 [more] CPM2014-89
pp.75-77
ED 2014-04-18
09:50
山形 山形大学工学部百周年記念会館 プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化ハフニウム成膜
鹿又健作大場尚志有馬 ボシール アハンマド久保田 繁平原和弘廣瀬文彦山形大ED2014-13
我々はtetrakis(ethylmethylamino)hafnium(TEMAH)とプラズマ励起水蒸気を用いたハフニ... [more] ED2014-13
pp.51-54
ED 2014-04-18
10:15
山形 山形大学工学部百周年記念会館 室温原子層堆積法を用いたHfO2-MOSの試作と評価
大場尚志鹿又健作有馬 ボシール アハンマド久保田 繁廣瀬文彦山形大ED2014-14
ゲート絶縁膜として高誘電率材料であるHfO2が有効であり、これを利用した高性能MOSの製造技術を獲得することを目的とする... [more] ED2014-14
pp.55-58
CPM 2013-10-25
09:30
新潟 新潟大ときめいと プラズマ励起原子層堆積法による室温酸化チタン成膜
鹿又健作大場尚志籾山克章鈴木貴彦ボシール アハンマド久保田 繁平原和弘廣瀬文彦山形大CPM2013-102
我々はtetrakis(dimethylamino)titanium(TDMAT)とプラズマ励起水蒸気を用いたチタン酸化... [more] CPM2013-102
pp.45-48
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