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研究会
発表日時
開催地
タイトル・著者
抄録
資料番号
SDM
2006-06-22
15:30
広島
広島大学, 学士会館
Ni-FUSI/SiO(N)界面不純物効果とFUGE（Fully Germanided）電極の仕事関数決定要因の考察
○
土屋義規
・
吉木昌彦
・
木下敦寛
・
小山正人
・
古賀淳二
・
西山 彰
（
東芝
）
ゲート電極のメタル化技術（メタルゲート技術）における技術的課題である仕事関数（Φeff）制御について、我々の最近の検討結...
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SDM2006-64
pp.125-130
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