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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ICD 2010-04-22
09:00
神奈川 湘南工大 [招待講演]SRAMの技術動向と定負電位書込み回路を用いた32nm 0.149μm2セル低電圧コンフィギュラブルSRAM
藤村勇樹平林 修佐々木貴彦鈴木 東川澄 篤武山泰久櫛田桂一深野 剛片山 明仁木祐介矢部友章東芝ICD2010-1
本稿では、32nm High-k Metal Gate CMOSプロセスにて0.149μm2セルを用い開発した低電圧コン... [more] ICD2010-1
pp.1-6
ICD 2009-04-14
10:15
宮城 大観荘(宮城県松島町) [依頼講演]レベル可変ワード線ドライバを用いてプロセスばらつき耐性を向上した40nmCMOSプロセス0.179μm2セル2電源SRAM
藤村勇樹平林 修川澄 篤鈴木 東武山泰久櫛田桂一佐々木貴彦片山 明深野 剛中里高明志津木 康串山夏樹矢部友章東芝ICD2009-5
デバイススケーリングによる素子特性ばらつき増大への対策として,ロジック電源より200mV高いメモリセル専用電源を導入し,... [more] ICD2009-5
pp.21-26
ICD 2008-04-17
09:25
東京 機械振興会館 [招待講演]非対称ユニットβレシオセルを用いた0.7V,1GHz動作45nm SRAMマクロ
佐々木貴彦川澄 篤矢部友章武山泰久平林 修櫛田桂一東芝)・東畑晃史東芝マイクロエレクトロニクス)・片山 明深野 剛藤村勇樹大塚伸朗東芝ICD2008-1
$0.7V$単一電源により$1GHz$動作する$64kB$SRAMマクロを開発した [1] 。$45nm$テクノロジーを... [more] ICD2008-1
pp.1-6
ICD, SDM
(共催)
2006-08-18
11:40
北海道 北海道大学 hp32 nm ノード以降に向けた周辺回路がBulk Planar FET及びメモリセルがBulk FinFETで構成されたSRAM技術について
川崎博久東芝アメリカ電子部品)・○稲葉 聡岡野王俊金子明生東芝)・八木下淳史東芝アメリカ電子部品)・泉田貴士金村貴永佐々木貴彦大塚伸朗青木伸俊須黒恭一江口和弘綱島祥隆東芝)・石丸一成東芝アメリカ電子部品)・石内秀美東芝
 [more] SDM2006-147 ICD2006-101
pp.127-132
ICD, SDM
(共催)
2005-08-19
14:40
北海道 函館国際ホテル FinFETを用いたhp22nm node SRAMのロバストなデバイス設計
岡野王俊石田達也佐々木貴彦泉田貴士近藤正樹藤原 実青木伸俊稲葉 聡大塚伸朗石丸一成石内秀美東芝
FinFETを用いたhp22nm nodeのSRAMの実現可能性について、Static Noise Margin(SNM... [more] SDM2005-154 ICD2005-93
pp.67-72
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