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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2008-06-10
12:45
東京 東京大学(生産研 An棟) Si(110)面上熱酸化膜形成時におけるSiサブオキサイド時間発展のXPSリアルタイム測定
山本喜久富樫秀晃今野篤史松本光正加藤 篤齋藤英司末光眞希東北大)・寺岡有殿吉越章隆原子力機構
Si(110)表面の熱酸化膜被覆過程およびその界面結合状態をリアルタイム放射光光電子分光により調べた.その結果,酸化開始... [more] SDM2008-53
pp.65-70
SDM 2006-06-22
09:00
広島 広島大学, 学士会館 Si(110)とSi(100)表面の初期酸化過程の違い ~ リアルタイム光電子分光測定から ~
末光眞希加藤 篤富樫秀晃今野篤史東北大)・寺岡有殿吉越章隆原子力機構)・成田 克九工大
Si(110)-16´2 表面の初期酸化過程をリアルタイム光電子分光法により評価し,Si(100)面酸化と比較した.Si... [more] SDM2006-52
pp.61-63
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