| 電子情報通信学会 研究会発表申込システム 研究会 開催スケジュール |
技報閲覧サービス [ログイン] 技報アーカイブ |
すべての研究会開催スケジュール (検索条件: すべての年度)
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| VLD, DC, RECONF, ICD (共催) IPSJ-SLDM (連催) [詳細] |
2022-11-30 10:45 |
熊本 | 金沢市文化ホール （ハイブリッド開催，主：現地開催，副：オンライン開催） |
ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法 ○野中尚貴・小平行秀（会津大）・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア）  VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 |
製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化に... [more] | VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64 pp.127-132 |
| VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM (連催) (併催) [詳細] |
2021-12-02 15:35 |
ONLINE | オンライン開催 | シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 ○小平行秀・中山晴貴・野中尚貴（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 |
半導体プロセスの微細化のために，光リソグラフィ技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウ... [more] | VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 pp.162-167 |
| HWS, VLD (共催) [詳細] |
2020-03-04 16:00 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 （開催中止，技報発行あり） |
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-105 HWS2019-78 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-105 HWS2019-78 pp.65-70 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2019-11-15 16:35 |
愛媛 | 愛媛県男女共同参画センター | 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法 ○小平行秀・東 梨奈（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア） VLD2019-53 DC2019-77 |
製造プロセスの微細化のために，光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する... [more] | VLD2019-53 DC2019-77 pp.197-202 |
| VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB (連催) CPSY, IPSJ-ARC (連催) CPM, ICD, IE (共催) RECONF (併催) [詳細] |
2018-12-07 14:10 |
広島 | サテライトキャンパスひろしま | 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法 ○東 梨奈・小平行秀（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮・野嶋茂樹（東芝メモリ） VLD2018-70 DC2018-56 |
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため，光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている．光リソグ... [more] | VLD2018-70 DC2018-56 pp.209-214 |
| NS, IN (併催) |
2016-03-04 09:50 |
宮崎 | フェニックス・シーガイア・リゾート（宮崎） | ノード故障時においても最大連結成分占有率を維持するための保護ノード決定法 ○松井知美・巳波弘佳（関西学院大） NS2015-214 |
[more] | NS2015-214 pp.267-272 |
| NS, IN (併催) |
2015-03-02 09:50 |
沖縄 | 沖縄コンベンションセンタ | 複数ノード破壊に耐性のある保護ノード決定のための多項式時間近似アルゴリズム ○松井知美・巳波弘佳（関西学院大） NS2014-186 |
インターネットが普及して重要な社会基盤となるにともない，故障の影響を最小限に抑えた信頼性の高いネットワークの構築および運... [more] | NS2014-186 pp.59-64 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2014-05-29 09:55 |
福岡 | 北九州国際会議場 11会議室 | ［招待講演］半正定値緩和を用いたマルチパターニングリソグラフィ ○松井知己（東工大） VLD2014-4 |
リソグラフィ技術の一つであるマルチパターニングリソグラフィにおいて解かれる，レイアウトを2つあるいは3つのマスクに分割す... [more] | VLD2014-4 p.19 |
| VLD, IPSJ-SLDM (連催) |
2014-05-29 11:30 |
福岡 | 北九州国際会議場 11会議室 | 半正定値緩和法を用いたLELECUTトリプルパターニングのためのレイアウト分割手法 ○小平行秀（会津大）・松井知己（東工大）・横山陽子・児玉親亮（東芝）・高橋篤司（東工大）・野嶋茂樹・田中 聡（東芝） VLD2014-6 |
次世代リソグラフィ技術として，2つのマスクをパタン形成のために，3つ目のマスクを形成したパタンを削除するためのカットとし... [more] | VLD2014-6 pp.27-32 |
| NS, IN (併催) |
2014-03-07 10:40 |
宮崎 | 宮崎シーガイア | 複数ノード破壊によるネットワーク分断に耐性のあるネットワーク設計のための保護ノード決定法 ○松井知美・巳波弘佳（関西学院大） NS2013-239 |
インターネットが普及して重要な社会基盤となるにともない,故障の影響を最小限に抑えた信頼性の高い ネットワークの構築および... [more] | NS2013-239 pp.361-366 |
| VLD | 2014-03-04 13:50 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | ダブルパターニングにおけるリソグラフィECOのためのパターン局所修正法 ○宮辺祐太郎・高橋篤司・松井知己（東工大）・小平行秀（会津大）・横山陽子（東芝） VLD2013-149 |
最先端の半導体製造プロセスでは，デザインルールに従いパターンを生成してもリソグラフィーシミュレー ションによってホット... [more] |
VLD2013-149 pp.87-92 |
| NS, IN (併催) |
2013-03-08 13:20 |
沖縄 | 残波岬ロイヤルホテル | ノード破壊によるネットワーク分断を抑制する保護ノード決定法 ○松井知美・山本真也・巳波弘佳（関西学院大） NS2012-266 |
インターネットが普及して重要な社会基盤となるにともない,故障の影響を最小限に抑えた信頼性の高い ネットワークの構築・運用... [more] | NS2012-266 pp.589-594 |
| COMP | 2010-06-25 10:05 |
東京 | 東工大 | 木における消防士問題に対する近似アルゴリズムの改良 岩井川 裕・○神山直之・松井知己（中大） COMP2010-16 |
[more] | COMP2010-16 pp.9-12 |
| COMP | 2004-10-14 16:15 |
宮城 | 東北大学 | 閉ジャクソンネットワークに対するパーフェクトサンプリング法 ○来嶋秀治・松井知己（東大） |
本稿では閉ジャクソンネットワークに対するパーフェクトサンプリング法を提案する。提案するアルゴリズムはマルコフ連鎖を用いた... [more] | COMP2004-42 pp.55-59 |
[研究会発表申込システムのトップページに戻る]