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 28件中 1~20件目  /  [次ページ]  
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2018-03-01
13:45
東京 東京工科大学 ご隠居の学窓ひとりごと
野矢 厚北見工大CPM2017-118
CPM研究会に参加される若い研究者の方に、ご隠居からのメッセージと今後のご活躍をお願いして昔語りをさせて頂きます。 [more] CPM2017-118
pp.11-13
CPM 2016-11-19
10:20
石川 金沢工大 扇が丘キャンパス Cuプラグに適用可能なTiHfN合金膜のバリヤ特性
佐藤 勝北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚武山真弓北見工大CPM2016-70
 [more] CPM2016-70
pp.45-48
SDM 2016-01-22
13:00
東京 東京大学 山上会館 [招待講演]低温作製された窒化物薄膜の特性
武山真弓佐藤 勝北見工大)・小林靖志中田義弘中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大SDM2015-112
 [more] SDM2015-112
pp.17-20
CPM 2015-11-06
14:55
新潟 まちなかキャンパス長岡 室温成膜したSiNx膜の特性評価
佐藤 勝武山真弓北見工大)・小林靖志中田義弘中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大CPM2015-88
 [more] CPM2015-88
pp.23-26
CPM 2015-11-06
15:15
新潟 まちなかキャンパス長岡 ラジカル窒化による遷移金属窒化物の有用性
武山真弓佐藤 勝北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2015-89
我々は、遷移金属窒化物を用いて、スパッタとラジカル処理を組み合わせた新たな手法の有用性と問題点を反応性スパッタによって得... [more] CPM2015-89
pp.27-30
CPM 2015-08-10
14:40
青森 弘前大学 文京町地区キャンパス 総合教育棟 絶縁バリアとしてのSiNx膜の低温作製
武山真弓佐藤 勝北見工大)・小林靖志中田義弘中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大CPM2015-34
 [more] CPM2015-34
pp.15-18
CPM 2014-10-24
17:40
長野 信州大学工学部 地域共同研究センター3階研修 キャンパスマップ17番 薄いSiO2層の介在するNi/Si系におけるシリサイド形成反応
野矢 厚武山眞弓北見工大CPM2014-113
これまでにNi/Si系において、シリサイドの相形成過程では、その反応前段階にNiとSiの混合により形成されるアモルファス... [more] CPM2014-113
pp.45-48
CPM 2014-10-25
09:20
長野 信州大学工学部 地域共同研究センター3階研修 キャンパスマップ17番 低温作製されたZr3N4膜の絶縁バリヤ特性
佐藤 勝武山真弓野矢 厚北見工大CPM2014-114
 [more] CPM2014-114
pp.49-52
CPM 2014-10-25
09:40
長野 信州大学工学部 地域共同研究センター3階研修 キャンパスマップ17番 3D及び2.5D-IC配線に適用可能な低温SiNx膜の特性
武山真弓佐藤 勝北見工大)・小林靖志中田義弘中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大CPM2014-115
微細化により達成してきた従来のLSIの高性能化は、量子限界や微細化限界が切迫し、新たな方向性の検討が盛んに行われている。... [more] CPM2014-115
pp.53-56
CPM 2013-10-24
16:55
新潟 新潟大ときめいと 低温プロセスによるSiNx膜の特性評価
武山真弓佐藤 勝北見工大)・中田義弘小林靖志中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大CPM2013-100
微細化により達成してきた従来のLSIの高性能化は、量子限界や微細化限界が切迫し、新たな方向性の検討が盛んに行われている。... [more] CPM2013-100
pp.35-39
CPM 2013-10-24
17:20
新潟 新潟大ときめいと Cu表面保護膜としてのAl-Nb合金薄膜の酸化特性
野矢 厚武山真弓北見工大CPM2013-101
 [more] CPM2013-101
pp.41-44
CPM 2013-08-01
13:30
北海道 釧路生涯学習センターまなぼっと幣舞 AlおよびAl3Nb薄膜による化学的に不活性な界面の形成
野矢 厚武山真弓北見工大CPM2013-46
あらまし 固相反応が生じない化学的に不活性な界面をAlと遷移金属の化合物であるアルミナイドをAlとの界面に用いた薄膜系... [more] CPM2013-46
pp.35-38
CPM 2013-08-02
11:15
北海道 釧路生涯学習センターまなぼっと幣舞 Cu/SiコンタクトにおけるTaWN3元合金膜のバリヤ特性
武山真弓佐藤 勝野矢 厚北見工大CPM2013-52
Si-LSIの分野においては、高い信頼性のCu配線を実現するために、高い熱的安定性と構造安定性を持つバリヤ材料が求められ... [more] CPM2013-52
pp.69-72
CPM 2012-10-26
17:30
新潟 まちなかキャンパス長岡 Ni/Si系におけるモノシリサイドとジシリサイドのマルチフェーズ形成
野矢 厚武山眞弓佐藤 勝徳田 奨北見工大CPM2012-102
あらまし Ni/Si固相反応系におけるシリサイド形成を調べた。通常この系では反応温度の増加に伴ってNi2Si→NiSi... [more] CPM2012-102
pp.49-53
CPM 2012-10-26
17:55
新潟 まちなかキャンパス長岡 Cu/metal/SiO2/Si構造における界面での拡散・反応挙動(I) ~ Va遷移金属の拡散挙動 ~
武山真弓野矢 厚北見工大CPM2012-103
LSIにおいて、Cu配線と層間絶縁膜との間には、優れたバリヤ特性を有するバリヤが必要不可欠である。しかしながら、これまで... [more] CPM2012-103
pp.55-60
CPM 2012-08-09
09:25
山形 山形大学工学部100周年記念会館セミナー室 反応性スパッタによるZrNxナノ結晶バリヤ膜の形成過程
佐藤 勝武山真弓北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2012-44
Cu多層配線は微細化に伴い、数nmオーダーの膜厚の拡散バリヤ膜が要請され、かつ優れたバリヤ性を実現する必要がある。我々は... [more] CPM2012-44
pp.45-49
CPM 2012-08-09
09:50
山形 山形大学工学部100周年記念会館セミナー室 ラジカル反応を応用した低温でのSiNx膜の作製
武山真弓佐藤 勝北見工大)・中田義弘小林靖志中村友二富士通研)・野矢 厚北見工大CPM2012-45
3次元LSIにおいては、LSIプロセス後にTSVを作製するビア・ラストプロセスが理想的である。そのためには、絶縁膜である... [more] CPM2012-45
pp.51-54
CPM 2011-10-26
16:50
福井 福井大学 産学官連携本部研修室 NiSi相の形成とCuコンタクトへの適用
武山真弓佐藤 勝野矢 厚北見工大CPM2011-117
 [more] CPM2011-117
pp.41-45
CPM 2011-08-10
15:20
青森 弘前大学 文京町キャンパス 組成を変化させたZrBx薄膜の特性評価
武山真弓佐藤 勝野矢 厚北見工大CPM2011-61
我々は、先に検討したZrB2薄膜に固有の電気的・化学的特性が非化学量論組成の薄膜においても保持されるのかどうかを検討する... [more] CPM2011-61
pp.27-30
CPM 2010-07-30
09:30
北海道 道の駅しゃり 会議室 ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製
佐藤 勝武山真弓北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大CPM2010-36
3次元実装によるSi-ULSI の集積度の向上に必要なSi 貫通ビア配線に適用可能な低温での拡散バリヤの新たな成膜手法と... [more] CPM2010-36
pp.29-34
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