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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ET | 2023-12-16 13:15 |
岡山 | 岡山大学 津島キャンパス | 授業中の学生の表情・動作の認識 ～ 生成画像と正面化による認識の効果について ～ ○大関和夫・塩尻(斎藤) 亜希・上條浩一・鈴木雅実（東京国際工科専門職大）  ET2023-39 |
カメラと脳波計を用い，学生の集中度を向上させるための教師の行動を特定する研究を行っている．このうち，カメラから表情や動作... [more] | ET2023-39 pp.19-23 |
| TL | 2019-12-22 09:05 |
愛媛 | 愛媛大学 〒790‐8577 松山市文京町３番 −１ | 英語俳句の作成を通じた授業への連想支援の可能性について ○鈴木雅実（KDDI総合研究所） TL2019-43 |
[more] | TL2019-43 pp.1-5 |
| TL | 2018-12-09 10:30 |
愛媛 | 愛媛大学 校友会館２Fサロン | 異文化間交流と言語学習支援について ～ 言語文化固有の表現の理解促進へ ～ ○鈴木雅実（KDDI総合研究所） TL2018-44 |
異なる言語間の話者同士のコミュニケーションを助ける自動通訳（音声翻訳）システムが実用化段階に入って来ているが，文化や習慣... [more] | TL2018-44 pp.1-6 |
| TL | 2015-02-27 15:20 |
京都 | 京都光華女子大（西京極） | 第二言語におけるコンサイス表現の学習支援について ○鈴木雅実・木村寛明（KDDI研） TL2014-52 |
[more] | TL2014-52 pp.13-17 |
| ET | 2014-03-08 17:30 |
高知 | 高知工業高等専門学校 | 携帯俳句のアプリケーションの開発と文科系学生による評価 ○高田伸彦・吉田一誠（金学院大）・鈴木雅実（KDDI研）・柳澤良一（金学院大） ET2013-135 |
近年、日本で独自に発展していたフィーチャーフォンに代わってスマートフォンは、携帯電話で世の中の主流になりつつある．その中... [more] | ET2013-135 pp.243-248 |
| ET | 2011-11-04 10:30 |
沖縄 | 琉球大学 | 俳句作成支援における季語の推薦について ～ 写真に基づく俳句コミュニケーション ～ ○鈴木雅実・服部 元・小野智弘（KDDI研）・高田伸彦（金沢学院大）・皆川直凡（鳴門教大） ET2011-56 |
本稿では，俳句に親しむ初心者が野外などで実際に詠もうとする際に，その場の状況に適した季語を携帯端末を通じ推薦するための方... [more] | ET2011-56 pp.7-10 |
| ICD, SDM (共催) |
2007-08-24 10:20 |
北海道 | 北見工業大学 | ［特別招待講演］32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化 ○小山正人・小池正浩・上牟田雄一・鈴木正道・辰村光介・土屋義規・市原玲華・後藤正和・長友浩二・東 篤志・川中 繁・中嶋一明・関根克行（東芝） SDM2007-159 ICD2007-87 |
MOSFET性能向上を阻害するゲート絶縁膜薄膜化の物理限界を打破するために、従来のSiO2(SiON)よりも比誘電率の高... [more] | SDM2007-159 ICD2007-87 pp.101-106 |
| SDM | 2007-06-08 10:55 |
広島 | 広島大学（学士会館） | LaAlO/Si基板界面への１原子層SrSi2挿入による界面電気特性改善効果の実証 ○高島 章・西川幸江・清水達雄・鈴木正道・松下大介・吉木昌彦・富田充裕・山口 豪・小山正人・福島 伸（東芝） SDM2007-43 |
high-k絶縁膜/Si基板界面における技術的課題である界面準位密度の低減について、我々の最近の研究成果を報告する。具体... [more] | SDM2007-43 pp.65-70 |
| SDM | 2007-06-08 12:45 |
広島 | 広島大学（学士会館） | 熱処理雰囲気に依存したLaAlO3ゲート絶縁膜上メタルゲート電極の実効仕事関数評価 ○鈴木正道・土屋義規・小山正人（東芝） SDM2007-45 |
High-kゲート絶縁膜LaAlO3上の様々なメタルの実効仕事関数（Φeff）を系統的に評価し、その振る舞いをHfSiO... [more] | SDM2007-45 pp.75-80 |
| AP, SAT (併催) |
2006-05-19 13:00 |
鹿児島 | 鹿児島大学 | 小型指向性制御アンテナの試作検討 ○藤枝智之・谷島 潔・鈴木雅美（パイオニア） AP2006-24 |
近接無給電素子の考え方を用いて径方向の小型化を行い，非励振素子にリアクタンス素子を装荷し，その素子値を適切な値にすること... [more] | AP2006-24 pp.87-91 |
| ICD, SDM (共催) |
2005-08-19 10:00 |
北海道 | 函館国際ホテル | ［特別招待講演］HfSiON ～ その高耐熱性に基づくhigh-kゲート絶縁膜としての期待と残された課題 ～ ○西山 彰・小山正人・上牟田雄一・小池正浩・飯島良介・山口 豪・鈴木正道・井野恒洋・小野瑞城（東芝） |
MOS Trのスケーリングのためゲート絶縁膜の極薄膜化は必須となっているが、量子力学的トンネル電流の増加はSiONに代わ... [more] | SDM2005-146 ICD2005-85 pp.19-24 |
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