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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2023-06-26
11:30
広島 広島大学 ナノデバイス研究所 自己組織化単分子膜を用いた極薄SiO2/SiC界面特性の評価
奥平 諒関西学院大)・川那子高暢東工大)・細井卓治関西学院大SDM2023-29
オクタデシルホスホン酸(ODPA: octadecylphosphonic acid)の自己組織化単分子膜(SAM: s... [more] SDM2023-29
pp.7-10
SDM 2022-06-21
16:40
愛知 名古屋大学 VBL3F [招待講演]WSe2 n/p FETsを用いた低電圧動作CMOSインバータ
川那子高暢松﨑貴広梶川亮介宗田伊理也星井拓也角嶋邦之筒井一生若林 整東工大SDM2022-30
 [more] SDM2022-30
pp.23-26
SDM 2017-06-20
15:35
東京 キャンパス・イノベーションセンター東京 508(AB) 高濃度SOI基板と転写法によるTMDC FETsの作製
川那子高暢居駒 遼高木寛之小田俊理東工大SDM2017-28
 [more] SDM2017-28
pp.35-38
SDM 2016-06-29
16:20
東京 キャンパス・イノベーションセンター東京 [依頼講演]自己組織化単分子膜をゲート絶縁膜に用いた低電圧駆動MoS2 FETの作製
川那子高暢小田俊理東工大SDM2016-45
自己組織化単分子膜をゲート絶縁膜に用いた低電圧駆動MoS2 FETsについて報告する。ゲート絶縁膜は酸素プラズマによって... [more] SDM2016-45
pp.69-74
SDM 2011-07-04
09:00
愛知 名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) 高温熱処理とMIPS構造によるLa-silicate/Si界面特性の改善と低EOTの実現
川那子高暢角嶋邦之Parhat Ahmet筒井一生西山 彰杉井信之名取研二服部健雄岩井 洋東工大SDM2011-50
本論文では、低EOTと良好な界面特性の両立に向けた直接接合La-silicate/Si構造の界面制御について報告する。8... [more] SDM2011-50
pp.1-5
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