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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-25
14:35
ONLINE オンライン開催 ハイドライド気相成長法によってホモエピ成長された高純度GaN膜のフォトルミネッセンス評価
今城大渡山肥田 涼金森弘尚渡邊龍一金沢工大)・木村健司今野泰一郎藤倉序章サイオクス)・山口敦史金沢工大ED2021-22 CPM2021-56 LQE2021-34
GaNやその混晶の基礎材料物性は、完全には明らかにされていない。その要因として、完全な品質の結晶成長ができていないことが... [more] ED2021-22 CPM2021-56 LQE2021-34
pp.37-40
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-26
13:25
ONLINE オンライン開催 界面顕微光応答法によるSiC、GaN、α-Ga₂O₃ショットキー接触の面内均一性評価
川角優斗福井大)・堀切文正福原 昇サイオクス)・三島友義法政大)・四戸 孝FLOSFIA)・塩島謙次福井大ED2021-29 CPM2021-63 LQE2021-41
界面顕微光応答法(SIPM)を用いて,Ni/SiC,Ni/GaN,Cu/Ti/α-Ga2O3ショットキー接触の電極面内に... [more] ED2021-29 CPM2021-63 LQE2021-41
pp.67-70
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-26
16:00
ONLINE オンライン開催 低損傷コンタクトレス光電気化学エッチングを利用したリセスゲート AlGaN/GaN HEMTs の作製
渡久地政周三輪和希北大)・堀切文正福原 昇成田好伸市川 磨磯野僚多田中丈士サイオクス)・佐藤威友北大ED2021-34 CPM2021-68 LQE2021-46
コンタクトレス光電気化学(CL-PEC)エッチングを用いて、リセスゲート型AlGaN/GaN高電子移動度トランジスタ(H... [more] ED2021-34 CPM2021-68 LQE2021-46
pp.87-90
ED, MW
(共催)
2020-01-31
11:45
東京 機械振興会館 地下3階6号室 コンタクトレス光電気化学(PEC)エッチングを用いたリセスゲートHEMTの作製
堀切文正福原 昇サイオクス)・渡久地政周三輪和希北大)・成田好伸市川 磨磯野僚多田中丈士サイオクス)・佐藤威友北大ED2019-98 MW2019-132
GaNは化学的に安定であるが、光電気化学(PEC)反応を用いる事で、低損傷な加工が可能である。通常、PEC反応を用いたエ... [more] ED2019-98 MW2019-132
pp.25-28
ED, CPM, SDM
(共催)
2018-05-24
15:25
愛知 豊橋技科大VBL GaN基板上GaNエピ層のFT-IRによる評価
堀切文正成田好伸吉田丈洋サイオクスED2018-18 CPM2018-5 SDM2018-13
フーリエ変換赤外分光(FT-IR)を用いて、自立GaN基板上GaNホモエピタキシャル層の非破壊膜厚測定を行った。FT-I... [more] ED2018-18 CPM2018-5 SDM2018-13
pp.19-22
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