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 126件中 1~20件目  /  [次ページ]  
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
VLD, HWS, ICD
(共催)
2024-03-01
09:20
沖縄 沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室1・2・3
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
Approximate Computingにおける禁止領域設定による精度を考慮した大規模回路設計手法
中尾 慧小平行秀齋藤 寛富岡洋一会津大VLD2023-120 HWS2023-80 ICD2023-109
近年,画像処理や機械学習などの計算量の多いアプリケーションをLSI やFPGA といった集積回路に実装することで,計算の... [more] VLD2023-120 HWS2023-80 ICD2023-109
pp.107-112
VLD, HWS, ICD
(共催)
2024-03-01
09:45
沖縄 沖縄県男女共同参画センター【てぃるる】会議室1・2・3
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
イジングマシンにおける制約に対するぺナルティ重み自動調整手法
中山晴貴小平行秀会津大VLD2023-121 HWS2023-81 ICD2023-110
近年,イジングマシンが注目を集めている.イジングマシンでは,制約を直接扱うことができない.そのため,制約を満たすときのみ... [more] VLD2023-121 HWS2023-81 ICD2023-110
pp.113-118
HWS, VLD
(共催)
2023-03-01
14:55
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
振幅成分を利用した補正による忠実度の高いマスクパターン生成手法
堀本 遊齊藤颯太高橋篤司東工大)・小平行秀会津大)・児玉親亮キオクシアVLD2022-79 HWS2022-50
 [more] VLD2022-79 HWS2022-50
pp.37-42
HWS, VLD
(共催)
2023-03-01
15:20
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ボロノイ図を用いたSRAF配置とLUTベース光強度評価による高速SRAF最適化手法
齊藤颯太堀本 遊高橋篤司東工大)・小平行秀会津大)・児玉親亮キオクシアVLD2022-80 HWS2022-51
近年,集積回路の微細化に伴い光リソグラフィにおいて転写パターンの忠実度の低下やプロセス変動耐性の低下が問題となっている.... [more] VLD2022-80 HWS2022-51
pp.43-48
HWS, VLD
(共催)
2023-03-02
09:30
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
スマートミュージアムにおけるサーモグラフィを用いた低消費エネルギー人検出システムの開発
手塚進悟小平行秀吉岡廉太郎会津大VLD2022-85 HWS2022-56
Deep LearningなどのMachine Learning(ML)の進歩により,人検出の技術が進展しており,様々な... [more] VLD2022-85 HWS2022-56
pp.73-78
HWS, VLD
(共催)
2023-03-03
11:00
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
Approximate Computingにおける回路の高速化のためのネット対のマージ手法
矢野悠生野崎慎二相澤朋英小平行秀会津大VLD2022-103 HWS2022-74
近年,画像処理や機械学習などの計算量の多いアプリケーションに対して,精度に重大な影響を及ぼさない範囲で誤差を含むことを許... [more] VLD2022-103 HWS2022-74
pp.161-166
VLD, DC, RECONF, ICD
(共催)
IPSJ-SLDM
(連催) [詳細]
2022-11-30
10:45
熊本 金沢市文化ホール
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
ボロノイ分割と繰り返し改善によるマスク最適化手法
野中尚貴小平行秀会津大)・高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64
製造プロセスの1 つである光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化に... [more] VLD2022-41 ICD2022-58 DC2022-57 RECONF2022-64
pp.127-132
SC 2022-05-27
15:25
ONLINE オンライン開催 [ポスター講演]GPT-2モデルでのコード特徴の追加によるコード生成の向上
佐久間大空ワン ジュンウェイ白 寅天会津大SC2022-13
 [more] SC2022-13
pp.77-82
VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM
(連催)
(併催) [詳細]
2021-12-02
15:35
ONLINE オンライン開催 シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法
小平行秀中山晴貴野中尚貴会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53
半導体プロセスの微細化のために,光リソグラフィ技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち,ウ... [more] VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53
pp.162-167
EMM, IE, LOIS
(共催)
ITE-ME, IEE-CMN, IPSJ-AVM
(共催)
(連催) [詳細]
2021-08-26
10:20
ONLINE オンライン開催(FIT2021と併催) [招待講演]Surface-Based FTVの提案
谷本正幸名古屋産業科学研)・黒川弘国会津大
 [more]
VLD, DC, RECONF, ICD, IPSJ-SLDM
(連催)
(併催) [詳細]
2020-11-18
09:55
ONLINE オンライン開催 LSIにおけるセル配置手法を用いた身体的距離を考慮した座席レイアウト手法
小平行秀会津大VLD2020-34 ICD2020-54 DC2020-54 RECONF2020-53
新型コロナウィルスの感染拡大に伴い,人と人との身体的距離の確保が求められている.そこで本稿では,決められた空間の中に,で... [more] VLD2020-34 ICD2020-54 DC2020-54 RECONF2020-53
pp.127-131
HWS, VLD
(共催) [詳細]
2020-03-04
16:00
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行あり)
ラグランジュ緩和法と境界Flippingによるプロセスばらつきを考慮したピクセルベースマスク最適化手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-105 HWS2019-78
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-105 HWS2019-78
pp.65-70
ET 2019-12-07
15:50
東京 東京農工大学 Scratchを用いた小学校算数科におけるプログラミング教育実践とその学習分析
中澤 真会津大短大部)・梅澤克之湘南工科大ET2019-68
小学校におけるプログラミング必修化に伴い,一般教科の中にどのようにプログラミングの要素を組み込むかということが課題となり... [more] ET2019-68
pp.51-56
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2019-11-15
16:35
愛媛 愛媛県男女共同参画センター 劣勾配法によるプロセスばらつきを考慮したマスク最適化手法
小平行秀東 梨奈会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮キオクシアVLD2019-53 DC2019-77
製造プロセスの微細化のために,光リソグラフィによる半導体加工技術の進展が求められている.光リソグラフィの解像度を改善する... [more] VLD2019-53 DC2019-77
pp.197-202
SC 2019-05-31
16:15
茨城 物質・材料研究機構(千現地区) [ショートペーパー]A LEGO Robot Visual Programming Editor for Model-driven BBCoM Environment
Takumi SatoMasayuki TakanoRuth CortezAlexander P. VazheninUniv. of AizuSC2019-4
 [more] SC2019-4
pp.25-26
HWS, VLD
(共催)
2019-02-27
15:20
沖縄 沖縄県青年会館 一般同期方式における低電力化のための多電源回路の設計フロー
青木誠孝小平行秀会津大VLD2018-102 HWS2018-65
クロックを各記憶素子に同時に分配することを前提としない一般同期方式では,物理遅延を従来のクロック同期方式である完全同期方... [more] VLD2018-102 HWS2018-65
pp.55-60
VLD, DC, IPSJ-SLDM, IPSJ-EMB
(連催)
CPSY, IPSJ-ARC
(連催)
CPM, ICD, IE
(共催)
RECONF
(併催) [詳細]
2018-12-07
14:10
広島 サテライトキャンパスひろしま 0-1二次計画法によるプロセスばらつきを考慮したモデルベースマスク補正手法
東 梨奈小平行秀会津大)・松井知己高橋篤司東工大)・児玉親亮野嶋茂樹東芝メモリVLD2018-70 DC2018-56
半導体製造における回路パターンの限界寸法の縮小のため,光リソグラフィによる半導体加工技術の進歩が求められている.光リソグ... [more] VLD2018-70 DC2018-56
pp.209-214
CS, IE
(共催)
IPSJ-AVM, ITE-BCT
(共催)
(連催) [詳細]
2018-11-29
15:25
徳島 徳島大学 工業会館 [特別招待講演]6DoF-FTV
谷本正幸名古屋産業科学研)・黒川弘国会津大CS2018-77 IE2018-56
 [more] CS2018-77 IE2018-56
pp.55-60
ITE-ME, ITE-AIT
(共催)
IE
(連催) [詳細]
2018-10-19
11:10
長崎 長崎総合科学大学 [招待講演]広視野・広視域FTVの実現に向けて
谷本正幸名古屋産業科学研)・黒川弘国会津大
 [more]
CAS, SIP, MSS, VLD
(共催)
2018-06-14
16:15
北海道 北海道大学フロンティア応用科学研究棟 機械学習を用いた配線長予測による解析的配置手法の高速化
干場 樹小平行秀会津大CAS2018-14 VLD2018-17 SIP2018-34 MSS2018-14
近年のLSI設計において,回路規模の増大,設計プロセス技術の微細化,要求される性能の向上により,設計制約を満たした配置配... [more] CAS2018-14 VLD2018-17 SIP2018-34 MSS2018-14
pp.75-80
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