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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
EE, IEE-SPC
(連催)
2022-07-14
13:55
愛知 ウインクあいち
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
1990年代以降の日本エレクトロニクス企業の財務の劣化と銀行の貸出動向
新井大輔米澤 遊今岡 淳山本真義名大EE2022-8
本稿は,過去のEE研(2021年11月18日,2022年1月28日開催,2022年3月10日開催)にて発表した内容の続編... [more] EE2022-8
pp.1-6
SDM, ED, CPM
(共催)
2022-05-27
15:50
ONLINE オンライン開催 物理リザバー計算系のための半導体非線形ダイナミックノードの検討
葛西誠也齋藤俊介北大ED2022-12 CPM2022-6 SDM2022-19
ニューラルネットを用いた時系列機械学習の枠組みの一つであるリザバー計算は,ネットワーク内部の設計や調整が不要でかつ要素ば... [more] ED2022-12 CPM2022-6 SDM2022-19
pp.21-24
OFT 2022-05-13
14:25
青森 青森県観光物産館アスパム
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
全光型フィードフォワード利得一定制御方式におけるサーキュレータとファラデー回転子ミラーを用いた信号光偏波無依存構成の利得制御特性
北村 心島根大OFT2022-4
マルチコアエルビウム添加光ファイバ増幅器に適用可能な利得一定制御(AGC)方式として,全光型フィードフォワード(FF-)... [more] OFT2022-4
pp.16-19
OME, SDM
(共催)
2022-04-23
10:45
宮崎 高千穂ホール(宮崎市)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
高感度紫外光電子分光法を用いた無機・有機半導体のギャップ内準位の直接観測と評価
中澤遼太郎渡邊研太田中有弥石井久夫千葉大SDM2022-11 OME2022-11
無機・有機半導体を用いたデバイスは,しばしば禁制帯に微弱に存在するギャップ内準位から大きな 影響を受けるため,ギャップ内... [more] SDM2022-11 OME2022-11
pp.51-56
EE, IEE-SPC
(併催)
2022-03-10
15:20
ONLINE オンライン開催 21世紀初頭における日本エレクトロニクス企業の貸借対照表の動向
新井大輔米澤 遊今岡 淳山本真義名大EE2021-56
本稿は,過去のEE研(2021年11月18日、2022年1月28日開催)にて発表した内容の続編である.ウィズコロナ時代に... [more] EE2021-56
pp.23-28
PN 2022-03-02
08:30
ONLINE オンライン開催 半導体光増幅器内での周波数チャープを用いた40 Gbps光デジタル・アナログ変換
相楽昌希伊東哲幸松浦基晴電通大PN2021-66
半導体光増幅器では,利得変化に伴う屈折率変化によって搬送波周波数がシフトする周波数チャープが発生する.特に,短波長側の周... [more] PN2021-66
pp.71-75
PN 2022-03-02
08:50
ONLINE オンライン開催 半導体光増幅器の周波数チャープを用いた全光論理ゲート
津田隼一相楽昌希竹本大志松浦基晴電通大PN2021-67
近年,通信トラヒックの需要拡大に伴い,ネットワークの高速化が求められており,光信号処理技術の進歩が課題となっている.
... [more]
PN2021-67
pp.76-79
SDM 2022-01-31
15:30
ONLINE オンライン開催 [招待講演]CAAC-IGZO FET/Si CMOS微小電流メモリセルによる高演算効率アナログインメモリコンピューティング
黒川義元馬場晴之大下 智濱田俊樹安藤善範方堂涼太大野敏和廣瀬貴史國武廣司村川 努半導体エネルギー研)・名倉 徹福岡大)・小林正治東大)・吉田 宏Min-Cheng ChenPSMC)・Ming-Han LiaoNational Taiwan Univ.)・Shou-Zen ChangPSMC)・山﨑舜平半導体エネルギー研SDM2021-72
CAAC-IGZO FET/Si CMOSモノリシック積層プロセスにより高演算効率のアナログインメモリコンピューティング... [more] SDM2021-72
pp.16-19
EE 2022-01-28
15:10
ONLINE オンライン開催 複式簿記から見たエルピーダメモリ株式会社の倒産
新井大輔米澤 遊今岡 淳山本真義名大EE2021-50
本稿は,前回のEE研(2021年11月18日開催)にて発表した内容の続編である.新型コロナ感染症の世界的拡大によって20... [more] EE2021-50
pp.106-111
ICTSSL, CAS
(共催)
2022-01-21
10:40
ONLINE オンライン開催 環境を考慮した製造業に関する検討
周 沛涵JIGYO)・佐藤修一NAIL)・大塚 晃JIGYOCAS2021-63 ICTSSL2021-40
持続可能な社会実現に向けた環境への配慮が重要であり、製造業での環境の対応が喫緊の課題となっている。製造業の発展において、... [more] CAS2021-63 ICTSSL2021-40
pp.52-55
OME 2022-01-07
14:05
大阪 中央電気俱楽部 213号室 nチャネル高分子トランジスタを用いた有機フローティングゲートメモリのデバイス特性
西田直之服部励太郎永瀬 隆安達天規森川和慶小林隆史内藤裕義阪府大OME2021-48
高分子半導体をチャネルとするトップゲート有機電界効果トランジスタ (有機FET) に高分子絶縁体 (PMMA) と可溶性... [more] OME2021-48
pp.4-8
MW 2021-12-16
16:05
神奈川 川崎市産業振興会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
1.55μm帯信号光と1.3μm帯半導体光増幅器を用いた光ビート法生成マイクロ波信号の遠隔位相制御
林 駿弥上原知幸辻 健一郎防衛大MW2021-94
ミリ波のような高周波信号をアンテナまで低損失で伝送手段するとして、光ビート法を用いた光ファイバ無線技術が注目されている。... [more] MW2021-94
pp.55-60
ED 2021-12-09
14:45
ONLINE オンライン開催 地球低軌道応用に向けた平面型グラフェン電子源の耐酸素コーティング
松本直之横浜国大/産総研)・鷹尾祥典横浜国大)・長尾昌善村上勝久産総研ED2021-45
平面型グラフェン電子源は,推進剤不要,低電圧駆動 (< 20 V),高電子電流密度 (1‒100 mA/cm2),高放出... [more] ED2021-45
pp.38-42
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-25
10:55
ONLINE オンライン開催 発光分光によるCuハライド薄膜の欠陥の検討
藤島 睦田中久仁彦渡辺海斗辻本直也長岡技科大ED2021-17 CPM2021-51 LQE2021-29
本研究ではp型半導体であるCuBr1-xIx(CuBrI)薄膜をスピンコート法によりガラス基板上に堆積させ,薄膜作製時に... [more] ED2021-17 CPM2021-51 LQE2021-29
pp.13-18
ED, CPM, LQE
(共催)
2021-11-26
16:25
ONLINE オンライン開催 光電気化学エッチング法を用いたAlGaInN/AlGaN HFETの作製
伊藤滉朔小松祐斗渡久地政周北大)・井上暁喜田中さくら三好実人名工大)・佐藤威友北大ED2021-35 CPM2021-69 LQE2021-47
低損傷加工技術である光電気化学(PEC)エッチング法を,AlGaInN/AlGaN MIS HFETのゲートリセス加工に... [more] ED2021-35 CPM2021-69 LQE2021-47
pp.91-94
EE, OME, CPM
(共催)
2021-11-18
14:50
ONLINE オンライン開催 パワーエレクトロニクスとコロナショックと半導体不足
新井大輔米澤 遊今岡 淳山本真義名大EE2021-27 CPM2021-45 OME2021-21
2020年3月,新型コロナ感染症の拡散に伴って世界同時株安が発生した.しかし,各国の中央銀行の金融緩和により株価は数ヵ月... [more] EE2021-27 CPM2021-45 OME2021-21
pp.51-56
SDM 2021-11-12
10:30
ONLINE オンライン開催 [招待講演]4H-SiCの高エネルギー輸送における一軸性応力の影響に関するフルバンドモンテカルロ解析
西村智也永久克己園田賢一郎緒方 完ルネサス エレクトロニクスSDM2021-61
SiCは、パワーデバイス向けの次世代半導体材料として期待されており、一部はすでに実用化されている。しかし、その応力応答は... [more] SDM2021-61
pp.43-46
SDM 2021-11-12
14:30
ONLINE オンライン開催 [招待講演]高感度ひずみセンサー用のダンベル型グラフェンナノリボンのショットキーエネルギー障壁のひずみ誘起変化に関する理論的研究
張 秦強鈴木 研三浦英生東北大SDM2021-64
提案されたダンベル型のグラフェンナノリボン(DS-GNR)構造における電子特性のひずみ誘起変化 は,第一原理計算を使用し... [more] SDM2021-64
pp.60-65
OCS, OPE, LQE
(共催)
2021-10-22
15:00
ONLINE オンライン開催 [招待講演]OFC2021報告 ~ 光デバイス関連 ~
藤井拓郎NTTOCS2021-16 OPE2021-36 LQE2021-15
2021年6月6日から10.日までバーチャル開催されたOFC2021における、光デバイス関連の発表動向を報告する。 [more] OCS2021-16 OPE2021-36 LQE2021-15
pp.19-22
SDM 2021-10-21
13:00
ONLINE オンライン開催 A study on Ar/N2-plasma sputtering gas pressure dependence on the LaBxNy insulator formation for non-volatile memory applications
Eun-Ki HongShun-ichiro OhmiTokyo Tech.SDM2021-46
 [more] SDM2021-46
pp.8-11
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