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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2022-11-10
14:00
ONLINE オンライン開催 [招待講演]CrSi薄膜の電気特性のモデリング
園田賢一郎白石信仁前川和義伊藤 望長谷川英司緒方 完ルネサス エレクトロニクスSDM2022-67
アニール時の相変化と結晶粒成長を考慮してCrSi 薄膜の電気抵抗をモデル化した.結晶粒界を含む複数の材料と結晶相からなる... [more] SDM2022-67
pp.14-18
SDM 2022-10-19
14:30
ONLINE オンライン開催に変更 CrSiC薄膜抵抗体の微細構造が電気特性に与える影響
伊藤 望前川和義高橋裕治利根川 丘ルネサス エレクトロニクスSDM2022-59
電子機器の小型化の要求を背景に、マイコンとアナログ素子 を 同一 Si基板上へ混載する技術に注目が集まっている。この混載... [more] SDM2022-59
pp.20-23
SDM 2022-06-21
17:20
愛知 名古屋大学 VBL3F SiO2上へのニッケルシリサイド薄膜形成とその表面形態・結晶相制御
木村圭佑田岡紀之西村駿介大田晃生牧原克典宮﨑誠一名大SDM2022-31
金属ナノシート(MNS)を用いたデバイスが検討されているが、SiO2上のMNSの表面形態や結晶相制御についての理解は十分... [more] SDM2022-31
pp.27-30
MRIS, IEE-MAG
(連催)
2022-03-04
13:00
愛知 名古屋大学+オンライン開催
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
エピタキシャルMn-Al合金薄膜の構造と磁気特性
野呂翔太大竹 充横浜国大)・磯上慎二物質・材料研究機構)・二本正昭川井哲郎横浜国大)・桐野文良東京藝術大)・稲葉信幸山形大MRIS2021-16
Mn-Al合金膜を,Mn組成を50から72 at. %まで,成長温度を室温から500 °Cまで,膜厚を10から100 n... [more] MRIS2021-16
pp.1-6
CPM 2022-03-01
15:40
ONLINE オンライン開催 SnS光吸収層とMgSnOバッファ層を用いた薄膜太陽電池
稲垣賢吾高野 泰水野智史静岡大CPM2021-80
FTO上にsol-gel(ゾルゲル)法で酸化マグネシウムスズ(以下MTO)薄膜を作製した。その上に、真空蒸着法で硫化スズ... [more] CPM2021-80
pp.31-35
CPM 2021-10-27
10:10
ONLINE オンライン開催 ゾルゲル法によるMgZnO及びMgSnO薄膜の作製
真部靖之水野智史・○高野 泰静岡大CPM2021-20
MgZnO 薄膜をゾルゲル法により堆積し、その上に Sb2S3 を堆積し太陽電池構造を作製している。またMgSnO薄... [more] CPM2021-20
pp.1-4
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2021-10-08
13:00
ONLINE オンライン開催 Fe-Co合金の単結晶薄膜および多結晶厚膜の構造と磁歪特性
中村優太明田俊祐近藤 輝大竹 充川井哲郎二本正昭横浜国大)・桐野文良東京藝術大)・稲葉信幸山形大MRIS2021-6
大きな磁歪を示すFe-Co合金は磁歪式振動発電デバイスへの応用に向けて注目されている.本研究では,磁歪の基本特性を調べる... [more] MRIS2021-6
pp.1-5
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2021-10-08
13:25
ONLINE オンライン開催 Fe-N薄膜におけるγ'相の形成と磁歪
前田悠良今村光佑大竹 充川井哲郎二本正昭横浜国大)・桐野文良東京藝術大)・稲葉信幸山形大MRIS2021-7
反応性スパッタリング法によりMgO単結晶基板上にFe-N薄膜を形成し,基板温度がγ’-Fe4N相の形成に及ぼす影響につい... [more] MRIS2021-7
pp.6-10
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2021-10-08
14:30
ONLINE オンライン開催 [招待講演]スピン軌道相互作用が絡む磁性多層薄膜の第一原理計算と物質設計
中村浩次名和憲嗣三重大MRIS2021-8
スピン軌道相互作用が絡む磁気・伝導・光物性において、その物理的起源の複雑さのため、所望する物性を引き出す物質設計指針を得... [more] MRIS2021-8
pp.11-12
SDM, ICD
(共催)
ITE-IST
(連催) [詳細]
2021-08-18
11:00
ONLINE オンライン開催 [招待講演]低電圧動作・低温プロセス・高エンデュランスの極薄膜HfO2系強誘電体の実証 ~ 微細技術ノードの混載メモリへの展開 ~
トープラサートポン カシディット田原建人東大)・彦坂幸信中村 亘齋藤 仁富士通セミコンダクターメモリソリューション)・竹中 充高木信一東大SDM2021-38 ICD2021-9
本研究は、厚さ2.8~9.5 nmをもつHf0.5Zr0.5O2の強誘電体キャパシタの作製プロセス、強誘電特性、およびメ... [more] SDM2021-38 ICD2021-9
pp.42-47
SDM, OME
(共催)
2021-04-23
15:10
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]多結晶Ge系薄膜のトランジスタ応用
都甲 薫筑波大SDM2021-4 OME2021-4
 [more] SDM2021-4 OME2021-4
pp.15-18
OME 2020-12-25
13:00
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
異なる還元方法を用いた還元型酸化グラフェン(rGO)薄膜を使用した抵抗式ガスセンサの作製およびガスセンシング特性の評価
髙野晃佑伊東栄次信州大)・小野博信郷田 隼日本触媒OME2020-8
本研究では酸化グラフェン水分散液から交互吸着法を用いて製膜した還元型酸化グラフェン(rGO)超薄膜の面内方向のシート抵抗... [more] OME2020-8
pp.1-6
EID, SDM
(共催)
ITE-IDY
(連催) [詳細]
2020-12-02
12:10
ONLINE オンライン開催 IGZO薄膜シナプスを用いた脳型システム
大西祐輝柴山友輝山川大樹龍谷大)・池田裕哉中島康彦奈良先端大)・木村 睦龍谷大/奈良先端大EID2020-7 SDM2020-41
ニューラルネットワークは、将来のエレクトロニクス技術として積極的に研究されてきた。しかし、ノイマン型の算術処理法では大量... [more] EID2020-7 SDM2020-41
pp.25-28
US 2020-11-05
13:00
愛知 愛知工業大学 八草キャンパス 低圧スパッタ成膜で増大する負イオン照射がScAlN薄膜の結晶性と圧電性に及ぼす影響
冨永卓海髙柳真司同志社大)・柳谷隆彦早大US2020-43
ScAlN薄膜は,AlN 薄膜よりも非常に大きな圧電性を有すことから,弾性波デバイスへの応用が期待されている.ScAlN... [more] US2020-43
pp.1-6
SDM 2020-10-22
15:20
ONLINE オンライン開催 強誘電体薄膜BiFeO3の格子整合とX線構造分析
今泉文伸仲田陸人小山高専SDM2020-20
強誘電体や圧電材料を用いたデバイス、センサは現在様々な分野で使用されているが、主材料として使われているPb(Zr,Ti)... [more] SDM2020-20
pp.30-33
US 2020-09-28
14:50
ONLINE オンライン開催 ScAlスパッタターゲットから生じる負イオンがScAlN圧電薄膜の結晶配向性や電気機械結合係数に及ぼす影響
木原流唯早大)・高柳真司同志社大)・柳谷隆彦早大US2020-36
広帯域なBAWフィルタへの応用を目指して、大きな電気機械結合係数をもつScAlN圧電薄膜が注目されている。Scは酸化しや... [more] US2020-36
pp.51-56
SDM, OME
(共催)
2020-04-13
15:20
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行なし)
[招待講演]多結晶Ge系薄膜のトランジスタ応用
都甲 薫筑波大
 [more]
OPE
(共催)
OCS, OFT
(併催) [詳細]
2020-02-28
11:20
沖縄 沖縄県市町村自治会館 SiO2/Ta2O5誘電体多層膜によるヘテロコア構造光ファイバの屈折率測定の性能評価
綿貫智美三上勝広窪寺昌一西山道子渡辺一弘創価大OFT2019-67 OPE2019-109
本研究グループで提案している,貴金属薄膜によるヘテロコア光ファイバSPRセンサは,共鳴波長における反射率ピークが先鋭であ... [more] OFT2019-67 OPE2019-109
pp.39-42(OFT), pp.55-58(OPE)
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
(連催) [詳細]
2020-01-23
13:05
鳥取 鳥取大鳥取キャンパス [ポスター講演]c面サファイアおよびSi (111)基板上への六方晶BN薄膜のCVD成長
名嘉眞朝泰松下一貴渡邊泰良小南裕子原 和彦静岡大
BCl3とNH3を原料とする減圧化学気相法(CVD)を用いて、c面サファイアおよびSi (111)基板上へ六方晶窒化ホウ... [more]
EID, ITE-IDY, IEE-EDD
(連催)
IEIJ-SSL, SID-JC
(共催)
(連催) [詳細]
2020-01-24
10:10
鳥取 鳥取大鳥取キャンパス [ポスター講演]熱拡散により作製した深紫外発光ZnAl2O4薄膜の膜質評価
今川海斗園田直樹小南裕子原 和彦静岡大
スパッタリング法により、サファイア基板上にZnO膜を堆積させ、熱拡散によりZnAl2O4薄膜を作製した。電子線励起発光測... [more]
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