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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OPE 2016-12-08
14:15
沖縄 石垣市商工会館(沖縄) シリコン導波路デバイス特性に及ぼす製造ばらつきの影響
堀川 剛光電子融合基盤技研/産総研)・志村大輔牛田 淳蘇武洋平椎名明美徳島正敏鄭 錫煥木下啓藏最上 徹光電子融合基盤技研
シリコンフォトニクス技術を用いた光集積回路は,長/短距離の情報伝送の広帯域化を可能にするキーデバイスとして注目されている... [more]
VLD, DC
(共催)
CPM, ICD, IE
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2016-11-29
10:30
大阪 立命館大学大阪いばらきキャンパス ディープラーニングを用いたリソグラフィシミュレーションモデルの高精度化
渡辺友希松縄哲明木村泰己野嶋茂樹東芝VLD2016-56 DC2016-50
微細な半導体パターンを製造するにあたり,リソグラフィシミュレーションは必要不可欠な技術となっている.高精度なシミュレーシ... [more] VLD2016-56 DC2016-50
pp.73-78
IBISML 2016-11-16
15:00
京都 京都大学 半導体露光装置における構造変化検知
大坪洋介ニコン)・杉山 将理研/東大IBISML2016-45
半導体露光装置は,半導体素子回路のパターンをシリコンウェハに焼き付ける装置であり,高精度な光学系と複数のユニットからなっ... [more] IBISML2016-45
pp.1-8
SCE 2016-08-08
11:45
埼玉 埼玉大(大宮ソニックシティ) ホーン結合型超伝導力学的インダクタンス検出器の大アレイ化技術の開発
木内健司大谷知行理研)・小栗秀悟高エネルギー加速器研究機構)・古谷野 凌埼玉大)・鈴木惇也高エネルギー加速器研究機構)・瀬元宗久田井野 徹埼玉大)・田島 治長崎岳人高エネルギー加速器研究機構)・美馬 覚理研)・富田 望東大SCE2016-15
我々は宇宙背景放射の偏光を観測するためにミリ波検出機として、
ホーン結合型の超伝導力学的インダクタンス検出器(MKID... [more]
SCE2016-15
pp.19-24
AP, SAT, SANE
(併催)
2016-07-21
13:00
北海道 小樽マリーナ PTFE充填導波管による180GHz帯E面2分配器とホーンアンテナの試作評価
岸原充佳岡山県立大)・山口明啓内海裕一太田 勲兵庫県立大AP2016-47
放射光エッチングによりPTFEの直接加工を行い,表面に金属を蒸着させることで導波管を形成するプロセスが報告されている.本... [more] AP2016-47
pp.61-66
SCE 2016-04-20
17:00
東京 機械振興会館 微小Alトンネル接合列内での接合特性の均一性向上を目指したSiO援用Dolan法の提案と評価
徳山貴斗島田 宏・○水柿義直電通大SCE2016-10
2層レジストで形成されるレジスト架橋構造と斜め蒸着を用いるDolan法は,微小トンネル接合の作製方法として広く利用されて... [more] SCE2016-10
pp.55-60
SDM, OME
(共催)
2016-04-08
12:00
沖縄 沖縄県立博物館・美術館 博物館講座室 [招待講演]低仕事関数金属界面制御層を用いた有機半導体トランジスタのデバイス特性
大見俊一郎前田康貴古山 脩廣木瑞葉東工大SDM2016-3 OME2016-3
ペンタセンやルブレンを用いた有機半導体電界効果トランジスタ(OFET)は、アモルファスSiをしのぐ高いホール移動度を示す... [more] SDM2016-3 OME2016-3
pp.11-15
VLD 2016-03-02
10:55
沖縄 沖縄県青年会館 Histogram of Oriented Light Propagationを用いたリソグラフィホットスポットの検出
富岡洋一会津大)・松縄哲明東芝VLD2015-136
近年の半導体製造プロセスにおいて,配線の電気的なショート,断線等の不良を引き起こす危険生の高い箇所であるリソグラフィホッ... [more] VLD2015-136
pp.143-148
VLD, DC, IPSJ-SLDM
(連催)
ICD, CPM
(共催)
CPSY, RECONF
(併催) [詳細]
2015-12-02
14:55
長崎 長崎県勤労福祉会館 [招待講演]EDA研究最前線 ~ テキサス大学留学経験より ~
松縄哲明東芝VLD2015-50 DC2015-46
EDAの研究は国際競争の激しい分野の一つである.
この分野で著名な国際会議であるDACやICCADは,論文の採択率が2... [more]
VLD2015-50 DC2015-46
p.73
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2015-07-10
15:20
東京 早稲田大学 パルス電析法を用いたFePtナノドットアレイの高保磁力化の検討
西家大貴ヴォダルツ ジギー謝 承達齋藤 学阿部純也早大)・Giovanni Zangariバージニア大)・本間敬之早大MR2015-13
我々は電気化学的手法とリソグラフィ技術を組み合わせたビットパターンドメディア(BPM)形成手法を検討してきた.本研究では... [more] MR2015-13
pp.25-29
ED 2015-04-17
10:55
宮城 東北大通研ナノスピン実験施設 微小Alトンネル接合列内での接合特性の均一性向上を目指したSiO援用Dolan法の提案と評価
徳山貴斗島田 宏・○水柿義直電通大/CREST JSTED2015-13
2層レジストで形成されるレジスト架橋構造と斜め蒸着を用いるDolan法は,微小トンネル接合の作製方法として広く利用されて... [more] ED2015-13
pp.65-70
NC, MBE
(共催)
2015-03-16
11:25
東京 玉川大学 ソノポレーションにおける導入効率向上法検討のための微小培養ウェルの開発と評価
白幡 陽繁富(栗林) 香織工藤信樹北大MBE2014-119 NC2014-70
これまで我々は,微小気泡が接着した細胞にパルス超音波を照射することによって膜損傷を生じさせ,細胞内に薬物を導入するソノポ... [more] MBE2014-119 NC2014-70
pp.19-23
VLD 2015-03-02
13:00
沖縄 沖縄県青年会館 A Fast Lithographic Mask Correction Algorithm
Ahmd AwadAtsushi TakahashiTokyo Institute of TechnologyVLD2014-153
As technology nodes downscaling into sub-16 nm regime, the i... [more] VLD2014-153
pp.1-6
LQE, ED, CPM
(共催)
2014-11-27
14:30
大阪 大阪大学 吹田キャンパス 理工学図書館 ナノインプリントリソグラフィを用いたナノチャネルFIELO法により作製されたGaNテンプレートの2次元歪みマッピング
南部優賢山口敦史金沢工大)・後藤裕輝砂川晴夫松枝敏晴古河機械金属)・岡田愛姫子早大)・篠原秀敏後藤博史東芝機械)・水野 潤早大)・碓井 彰古河機械金属ED2014-80 CPM2014-137 LQE2014-108
白色LEDにおいて大電流領域で効率が低下する現象(Droop現象)を抑制する1つの手法として,下地のGaN膜(基板)の高... [more] ED2014-80 CPM2014-137 LQE2014-108
pp.33-38
CPM 2014-10-24
11:00
長野 信州大学工学部 地域共同研究センター3階研修 キャンパスマップ17番 金属酸化物ナノシートを用いた極薄キャリア選択層の成膜逆構造型バルクヘテロ接合型有機薄膜太陽電池への応用
後藤慶紀坂 優助伊東栄次信州大CPM2014-100
本研究では溶液プロセスによりnm単位で膜厚制御可能な極薄の酸化チタンナノシート(TN)を交互吸着法や高速で形成可能な電気... [more] CPM2014-100
pp.1-6
MRIS, ITE-MMS
(連催)
2014-07-17
13:25
東京 東京工業大学 電析初期過程の解析に基づく超高記録密度ナノドットアレイの形成及び高保磁力化
萩原弘規ヴォダルツ ジギー大谷智博西家大貴早大)・Giovanni Zangariヴァージニア大)・本間敬之早大MR2014-9
我々は,電気化学的手法である電解析出法とリソグラフィ技術を組み合わせ,次世代型の磁気記録媒体として期待されるビットパター... [more] MR2014-9
pp.7-10
VLD, IPSJ-SLDM
(連催)
2014-05-29
09:55
福岡 北九州国際会議場 11会議室 [招待講演]半正定値緩和を用いたマルチパターニングリソグラフィ
松井知己東工大VLD2014-4
リソグラフィ技術の一つであるマルチパターニングリソグラフィにおいて解かれる,レイアウトを2つあるいは3つのマスクに分割す... [more] VLD2014-4
p.19
VLD 2014-03-04
13:20
沖縄 沖縄県青年会館 [招待講演]Advanced Model-Based Hotspot Fix Flow for Layout Optimization with Genetic Algorithm
Shuhei SotaToshiba Microelectronics)・Taiga UnoMasanari KajiwaraChikaaki KodamaToshiba)・Hirotaka IchikawaToshiba Microelectronics)・Ryota AburadaToshiya KotaniToshiba)・Kei NakagawaTamaki SaitoToshiba MicroelectronicsVLD2013-148
Low-k1リソグラフィ・プロセスでは、ホットスポットと呼ばれるリソグラフィ上の欠陥が多数発生するため、その削減が歩留り... [more] VLD2013-148
p.85
VLD 2014-03-04
14:40
沖縄 沖縄県青年会館 超微細化を実現する側壁ダブル・クアドラプルパターニングのための3色グリッド配線手法
児玉親亮東芝)・市川裕隆東芝マイクロエレクトロニクス)・中嶌史晴中山幸一野嶋茂樹小谷敏也東芝VLD2013-151
光リソグラフィの延命技術とよばれ,次世代リソグラフィ技術の実用化までの「つなぎ」のような存在であったダブルパターニング技... [more] VLD2013-151
pp.99-104
VLD 2014-03-04
15:05
沖縄 沖縄県青年会館 クラスタリングによる高速なリソグラフィ照明形状最適化
多和田雅師柳澤政生戸川 望早大)・橋本隆希坂主圭史野嶋茂樹小谷敏也東芝VLD2013-152
リソグラフィでは光をフォトマスクに通してウェハ上にパターンを生成する.
近年の微細化により生成されるパターンはフォトマ... [more]
VLD2013-152
pp.105-110
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