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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2008-06-10
10:30
東京 東京大学(生産研 An棟) Ru/HfSiONゲートスタックのバックサイドX線光電子分光分析 ~ Ruの実効仕事関数変化の起源 ~
森 大樹大田晃生吉永博路宮崎誠一広島大)・門島 勝奈良安雄半導体先端テクノロジーズSDM2008-50
厚さ1~6nmのSiO2もしくは厚さ0.7nmのSiON上に、~2.5nmのHfSiONを形成後、仕事関数制御メタルとし... [more] SDM2008-50
pp.47-52
CPM, ED, LQE
(共催)
2007-10-12
10:50
福井 福井大学 AlGaN/GaN HEMTにおけるバッファ層に起因した緩やかな電流応答と電流コラプスの解析
中島 敦堀尾和重芝浦工大ED2007-169 CPM2007-95 LQE2007-70
半絶縁バッファ層中の深いドナーと深いアクセプタを考慮したAlGaN/GaN HEMTの2次元過渡解析を行い,その結果より... [more] ED2007-169 CPM2007-95 LQE2007-70
pp.67-72
ICD, VLD
(共催)
2006-03-09
10:05
沖縄 メルパルク沖縄 データの局所的活性化率を考慮した高精度静的電力解析の一手法
山本達也山下 優押川克寛福井正博立命館大
論理レベルにおける電力推定手法において, 動的手法と静的手法が提案されているが,静的手法は入力ベクトルの変化率の平均に基... [more] VLD2005-110 ICD2005-227
pp.13-18
AP 2006-01-26
16:30
福岡 福岡工業大学 高性能テラヘルツ波コルゲートホーンの開発
松永真由美愛媛大)・松永利明福岡工大
テラヘルツ波コルゲートホーンのリターンロス特性を飛躍的に向上させる一つの
構成例を紹介する.これまで提案されているコル... [more]
AP2005-144
pp.61-64
ICD, SDM
(共催)
2005-08-19
11:10
北海道 函館国際ホテル Hf系高誘電率ゲート絶縁膜のAl濃度変調及びパーシャルシリサイドゲート電極によるCMOS非対称閾値の改善
門島 勝小川有人高橋正志MIRAI-ASET)・太田裕之MIRAI-ASRC)・三瀬信行岩本邦彦MIRAI-ASET)・右田真司MIRAI-ASRC)・藤原英明佐竹秀喜生田目俊秀MIRAI-ASET)・鳥海 明MIRAI-ASRC/東大
Hf系高誘電率ゲート絶縁膜のCMOSFETへ適用が期待されているが、n-及びp-MOSFETの閾値が非対称になることが問... [more] SDM2005-148 ICD2005-87
pp.31-36
ICD, SDM
(共催)
2005-08-19
11:35
北海道 函館国際ホテル poly-Si電極における仕事関数変調とそのデバイスインパクト ~ SiON/poly-Si界面の微量Hfの効果 ~
由上二郎ルネサステクノロジ)・嶋本泰洋日立)・井上真雄水谷斉治林 岳志賀克哉藤田文子土本淳一大野吉和米田昌弘ルネサステクノロジ
SiON/poly-Si界面に微量Hfを添加することにより、poly-Si電極の仕事関数変調が可能になる。我々は、本技術... [more] SDM2005-149 ICD2005-88
pp.37-42
ISEC, LOIS
(共催)
2004-11-09
11:20
大阪 大阪大学 サービスコネクタによるアクセス制御とシングルサインオンの実現
福田洋治徳島大)・二宮健人白石善明近畿大)・森井昌克徳島大
クライアント・サーバ型サービスを運用する際にサービスサーバに対して不特定多数のホスト接続を許可することは不正行為を受ける... [more] ISEC2004-90 OIS2004-57
pp.37-43
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