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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OME 2010-10-22
13:25
東京 NTT武蔵野研究開発センター イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜の作製
松田 剛東京農工大)・泉田和夫住友精密工業)・田中邦明臼井博明東京農工大OME2010-47
フッ素系高分子薄膜の新規な形成技術としてイオンアシスト蒸着法を試みた.基板表面に低エネルギーArイオンを照射しつつフッ化... [more] OME2010-47
pp.5-10
ITE-IDY, EID, IEIJ-SSL, IEE-EDD
(共催)
2010-01-29
11:25
福岡 九州大学(筑紫地区) 半透過型液晶パネル向け新規内蔵位相差板材料
関口慎司岸岡淳史日立)・寺本雅博濱本辰雄丹野淳二日立ディスプレイズEID2009-74
半透過型IPS液晶パネル向けに位相差板をパネル内に内蔵パターン化するための新規感光性位相差板材料を開発した。液晶アクリレ... [more] EID2009-74
pp.111-114
OME 2009-07-23
13:25
長野 (財)加藤科学振興会軽井沢研修所 イオン照射アシストによる蒸着重合膜の作製
臼井博明外輪俊介田中邦明東京農工大)・泉田和夫東京農工大/住友精密工業OME2009-29
低分子モノマーの物理蒸着とイオン照射を組み合わせ,新規な高分子製膜技術を開発した.高真空槽内でモノマー材料として亜鉛アク... [more] OME2009-29
pp.5-8
CPM, EMD, OME
(共催)
2006-06-30
10:10
東京 機械振興会館 In situ赤外分光測定による蒸着重合薄膜の構造解析に関する研究
仲尾建治田中邦明臼井博明東京農工大
アクリル酸亜鉛(ZA)及び長鎖フッ化アクリレート(EFUA)モノマーを電子照射蒸着することによって高分子薄膜を作製し、膜... [more] EMD2006-5 CPM2006-29 OME2006-39
pp.1-6
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