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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM | 2018-08-10 11:05 |
青森 | 弘前大学文京町地区キャンパス | Si基板上SiO2薄膜の電子線照射による還元反応 ○藤森敬典・千田陽介・増田悠右・氏家夏樹・遠田義晴（弘前大）  CPM2018-18 |
20 nm～100 nm厚のSiO_{2}膜を有するSi(100)表面に様々な条件で電子線照射し、その後フッ酸処理や真 ... [more] | CPM2018-18 pp.47-52 |
| LQE, ED, CPM (共催) |
2014-11-28 16:00 |
大阪 | 大阪大学 吹田キャンパス 理工学図書館 | GaN自立基板の表面におけるサーマルクリーニングの効果 ○岡田俊祐・三宅秀人・平松和政（三重大）・宮川鈴衣奈・江龍 修（名工大）・橋詰 保（北大） ED2014-96 CPM2014-153 LQE2014-124 |
極性面である(0001)面及び非極性面である(10-10)面や(20-21)面，(20-2-1)面を主面とするGaN自立... [more] | ED2014-96 CPM2014-153 LQE2014-124 pp.111-115 |
| ITE-MMS, ITE-CE (共催) MRIS (連催) [詳細] |
2011-01-20 13:00 |
大阪 | パナソニック企業年金基金 松心会館 | 熱アシスト磁気記録におけるヘッドディスクインタフェースに関する研究 ～ レーザ照射による潤滑膜の減耗特性 ～ ○三木隆生・多川則男・谷 弘詞（関西大） MR2010-52 |
次世代の超高密度磁気記録を実現させる技術として熱アシスト磁気記録が提案されている．この記録方式では，記録媒体がレーザ照射... [more] | MR2010-52 pp.1-6 |
| CPM | 2009-08-10 15:05 |
青森 | 弘前大学 | 昇温脱離法と等温脱離法を用いたSi(100)表面からの水素脱離バリヤー評価 ○成田 克（山形大）・安冨伍郎・右ノ子知恵・稲永征司・並木 章（九工大） CPM2009-34 |
Si(100)表面からの水素分子（D$_{2}$）の脱離kineticsを昇温脱離法（Temperature-Progr... [more] | CPM2009-34 pp.5-8 |
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