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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2014-12-12 09:50 |
愛媛 | 愛媛大学 | 室温作製Co/Pt積層膜の磁気特性の積層構造依存性 ○土屋垂穂・本多直樹・内田裕久（東北工大）・斎藤 伸・日向慎太朗（東北大）  MR2014-38 |
高垂直磁気異方性膜の室温作製のため、原子層積層によるL11規則化Co-Pt積層膜のスパッタ作製を検討した。コリメータを用... [more] | MR2014-38 pp.59-64 |
| SDM | 2014-10-16 16:00 |
宮城 | 東北大学未来研 | Electrical characteristics of as-deposited HfN gate insulator formed by ECR plasma sputtering ○Nithi Atthi・Shun-ichiro Ohmi（TokyoTech） SDM2014-87 |
[more] | SDM2014-87 pp.19-22 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2013-12-12 16:15 |
愛媛 | 愛媛大学 | 積層スパッタ堆積による垂直磁気異方性Co/Pt膜の作製 ○土屋垂穂・本多直樹（東北工大） MR2013-30 |
原子層積層コリメータスパッタ堆積により，高磁気異方性Co/Pt積層膜の低温作製を検討した．基板温度が高いほど，また，Ar... [more] | MR2013-30 pp.33-38 |
| CPM | 2013-10-25 11:50 |
新潟 | 新潟大ときめいと | 高密度プラズマ環境下のガスフロースパッタ法によるカーボン薄膜の作製 ○石井琢馬・佐藤祐二・渡邊貴晴・石井 清・佐久間洋志（宇都宮大） CPM2013-107 |
種々の方式のプラズマCVD法により単結晶を含めて良質なダイヤモンド薄膜が作製できるようになっているが，スパッタ法ではダイ... [more] | CPM2013-107 pp.67-71 |
| EST, MWP, OPE, MW, EMT, IEE-EMT (共催) [詳細] |
2013-07-18 11:25 |
北海道 | 稚内総合文化センター | 放射光エッチングによる180GHz帯テフロン導波管の試作と評価 ○岸原充佳（岡山県立大）・木戸秀樹・山口明啓・内海裕一・太田 勲（兵庫県立大） MW2013-64 OPE2013-33 EST2013-28 MWP2013-23 |
本論文は，放射光直接エッチング，金属のスパッタ蒸着，電解めっきのプロセスを経て行う180GHz帯テフロン(PTFE)導波... [more] | MW2013-64 OPE2013-33 EST2013-28 MWP2013-23 pp.103-108 |
| ED | 2012-11-19 15:55 |
大阪 | 阪大中之島センター | スパッタプロセスを用いたスピント型電子源の作製 ○吉田知也・長尾昌善・神田信子・西 孝（産総研）・中野武雄（成蹊大） ED2012-58 |
従来のスピント型電子源作製プロセスを改良した新しいFEA作製プロセスを提案する．本提案プロセスでは，従来法の電子ビーム蒸... [more] | ED2012-58 pp.19-23 |
| CPM | 2012-10-27 09:10 |
新潟 | まちなかキャンパス長岡 | コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた反応性スパッタリング法によるCuAlO2薄膜の作製 ○横本拓也・荒井 崇・小坂孝之・岡島和希・山上朋彦・阿部克也・榊 和彦（信州大） CPM2012-104 |
コールドスプレー法により作製したCu/Alターゲットを用いた 反応性スパッタリング法によりCuAlO$_{2}$薄膜の... [more] |
CPM2012-104 pp.61-64 |
| SDM, ED (共催) (ワークショップ) |
2012-06-27 17:30 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | Characterization of Optimized Sputtered Poly-Si Films by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing for High Performance Displays ○Takuma Nishinohara・J. D. Mugiraneza・Katsuya Shirai・Tatsuya Okada・Takashi Noguchi（Univ. of the Ryukyus） |
[more] | |
| SDM, ED (共催) (ワークショップ) |
2012-06-28 10:40 |
沖縄 | 沖縄県青年会館 | ［ポスター講演］The surface morphology and electrical properties of NiO with various RF power and O2/(Ar+O2) gas mixture ○Jonghun Kim・Gyohun Koo・Changju Lee・Sungho Hahm（Kyungpook National Univ.）・Youngchul Jung（Gyeongju Univ.）・Yougsoo Lee（Kyungpook National Univ.） |
The crystalline structures of reactively sputtered nickel ox... [more] | |
| ED, SDM, CPM (共催) |
2012-05-18 14:50 |
愛知 | 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | スパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成と評価 ○丹羽彬夫・以西雅章・中村光宏・野口貴史（静岡大） ED2012-37 CPM2012-21 SDM2012-39 |
RFマグネトロンスパッタリング法により，Li二次電池正極用のLiMn2O4薄膜を生成している．本研究では，様々な条件で薄... [more] | ED2012-37 CPM2012-21 SDM2012-39 pp.99-104 |
| ED, SDM, CPM (共催) |
2012-05-18 15:15 |
愛知 | 豊橋技術科学大学ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー | TiO2薄膜の光触媒特性向上のための助触媒効果 ○以西雅章・中村郁太・稗田祐貴・深澤史也（静岡大）・星 陽一（東京工芸大） ED2012-38 CPM2012-22 SDM2012-40 |
あらまし 本研究は、RFマグネトロンスパッタリング法により生成した酸化チタン薄膜に銅と鉄を助触媒として担持することで光触... [more] | ED2012-38 CPM2012-22 SDM2012-40 pp.105-109 |
| MRIS, ITE-MMS (連催) |
2011-12-16 10:00 |
愛媛 | 愛媛大学 | コリメータスパッタ堆積膜の結晶配向制御 ○本多章人・本多直樹（東北工大） MR2011-33 |
傾斜コリメータスパッタリングによる傾斜配向膜の作製を検討した。大きな傾斜角を得るには，傾斜コリメータの使用だけでは効果が... [more] | MR2011-33 pp.57-62 |
| SDM | 2011-10-20 15:20 |
宮城 | 東北大学未来研 | Effect of Si surface roughness on electrical characteristics of HfON gate insulator ○Dae-Hee Han・Shun-ichiro Ohmi（Tokyo Inst. of Tech.） SDM2011-100 |
[more] | SDM2011-100 pp.17-20 |
| CPM | 2011-08-11 09:25 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製 ○梅原 猛・野毛 悟（沼津高専） CPM2011-67 |
RFマグネトロンスパッタ法によるAZO薄膜の成膜条件に関する検討結果について報告する．放電ガスAr中に反応性ガス$O_2... [more] | CPM2011-67 pp.55-60 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2011-06-30 11:15 |
東京 | 機械振興会館 | マグネトロンスパッタ法で作製したZnO系透明導電膜の電気的特性に対するバッファレイヤー挿入効果 ○野本淳一・平野友康・宮田俊弘・南 内嗣（金沢工大） EMD2011-11 CPM2011-47 OME2011-25 |
直流マグネトロンスパッタ法を用いて作製するZnO系透明導電膜の基板上での抵抗率分布の改善及び低抵抗率化を目的として、極め... [more] | EMD2011-11 CPM2011-47 OME2011-25 pp.17-21 |
| EMD, CPM, OME (共催) |
2011-06-30 14:40 |
東京 | 機械振興会館 | マグネトロンスパッタ法による薄膜太陽電池用AZO透明導電膜の作製 ○平野友康・野本淳一・宮田俊弘・南 内嗣（金沢工大） EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27 |
マグネトロンスパッタ法で作製するAl添加酸化亜鉛(AZO)透明導電膜を薄膜太陽電池用透明電極用途へ適合化することを目的と... [more] | EMD2011-13 CPM2011-49 OME2011-27 pp.29-33 |
| CPM, SDM, ED (共催) |
2011-05-20 13:50 |
愛知 | 名古屋大学 ＶＢＬ | TiO2薄膜への安定した白金担持と光触媒特性 ○中村郁太・佐藤孝紀・以西雅章（静岡大）・星 陽一（東京工芸大） ED2011-28 CPM2011-35 SDM2011-41 |
RFマグネトロンスパッタリング法により生成した酸化チタン薄膜に白金を担持させ、光触媒特性を比較・評価した。白金を助触媒と... [more] | ED2011-28 CPM2011-35 SDM2011-41 pp.139-143 |
| CPM, SDM, ED (共催) |
2011-05-20 14:15 |
愛知 | 名古屋大学 ＶＢＬ | スパッタリング法によるLiMn2O4薄膜の生成と評価 ○中村光宏・丹羽彬夫・以西雅章（静岡大） ED2011-29 CPM2011-36 SDM2011-42 |
RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn2O4薄膜を生成している。本研究では、様々な条件で薄... [more] | ED2011-29 CPM2011-36 SDM2011-42 pp.145-149 |
| ITE-MMS, MRIS (連催) |
2010-12-10 10:45 |
愛媛 | 愛媛大学 総合メディアセンター | コリメータスパッタリングによる結晶配向制御の基礎検討 ○本多直樹・本多章人（東北工大） MR2010-51 |
傾斜異方性磁気記録媒体の作製を目指して，コリメータスパッタリングによる薄膜の結晶配向制御の基礎検討を行った．Co-Cr合... [more] | MR2010-51 pp.65-72 |
| CPM | 2010-10-28 17:05 |
長野 | 信州大学 工学部 地域共同研究センター３階研修室 | FTS法にUBMS法を組み合わせた方法によるSrAl2O4:Eu, Dy薄膜の作製 ○久野敬史・齋藤 稔・小林和晃・清水英彦・岩野春男・川上貴浩・福嶋康夫・永田向太郎（新潟大） CPM2010-97 |
本研究では，通常の対向ターゲット式スパッタ（FTS）法及びFTS法にアンバランスドマグネトロンスパッタ（UBMS）法を組... [more] | CPM2010-97 pp.33-37 |
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