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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
SDM 2022-10-19
16:30
ONLINE オンライン開催に変更 [招待講演]CO2熱処理によるSiC MOSFETの信頼性向上
細井卓治関西学院大)・志村考功渡部平司阪大SDM2022-62
低損失パワーデバイスとして期待されるSiC MOSFETは閾値電圧変動が信頼性上の課題となっている.SiC MOSFET... [more] SDM2022-62
pp.34-37
R 2020-11-30
14:55
ONLINE オンライン開催 電位コントラスト法を用いた積層セラミックコンデンサの劣化解析
斎藤 彰村田製作所R2020-27
積層セラミックコンデンサ(MLCC)の小型化と薄層化により,高信頼性の維持が困難になりつつある.特に電極界面付近の影響が... [more] R2020-27
pp.21-24
ED, CPM, SDM
(共催)
2015-05-29
09:30
愛知 豊橋技科大VBL棟 混合導電性SrFeO3-δの結晶構造と酸素透過特性
籠宮 功白川史朗柿本健一名工大ED2015-29 CPM2015-14 SDM2015-31
結晶異方性を持ち、酸素欠損量が多く、高い全導電率を示すことが知られているSrFeO3-δ(δ= ~0.25)に着目し、酸... [more] ED2015-29 CPM2015-14 SDM2015-31
pp.67-69
SDM 2010-11-11
14:40
東京 機械振興会館 [招待講演]金属電極/高誘電率絶縁膜界面の物理を中心としたHigh-k/Metalゲートスタックの実効仕事関数変調機構の理解
細井卓治佐伯雅之喜多祐起奥 雄大有村拓晃北野尚武阪大)・白石賢二山田啓作筑波大)・志村考功渡部平司阪大SDM2010-175
p型電極/高誘電率絶縁膜ゲートスタックでは,電極材料がpoly-Siもしくは金属に関わらず,ソース/ドレイン活性化アニー... [more] SDM2010-175
pp.23-28
SDM 2007-06-08
10:30
広島 広島大学(学士会館) HfSiOxのBTIに対する窒素添加効果
田村知大内藤達也筑波大)・佐藤基之犬宮誠治半導体先端テクノロジーズ)・蓮沼 隆山部紀久夫筑波大SDM2007-42
電圧ストレス下におけるHfSiOx膜およびHfSiON膜のしきい値電圧変化を評価した。その結果、しきい値電圧の変化を-Δ... [more] SDM2007-42
pp.59-64
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