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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| SDM | 2016-10-26 14:00 |
宮城 | 東北大学未来研 | ［招待講演］最先端LSIプロセスにおける重金属汚染の制御 ○嵯峨幸一郎（ソニー）  SDM2016-69 |
半導体デバイスの多様化にともない、DRAMトレンチキャパシタ、CMOSイメージセンサ、高耐圧トランジスタなどSi基板の深... [more] | SDM2016-69 pp.1-8 |
| RCS, SAT (併催) |
2015-08-18 15:30 |
福岡 | 福岡大学 | マルチセルMassive MIMOシステムにおけるMMSE-CMAアダプティブアレーを用いたアップリンク干渉除去 ○丸田一輝・太田 厚・白戸裕史・黒崎 聰・新井拓人・岩國辰彦・飯塚正孝（NTT） RCS2015-154 |
本稿では，マルチセルMassive MIMOシステムにおけるアップリンク干渉除去方式を提案する．1チャネル繰り返しによる... [more] | RCS2015-154 pp.129-134 |
| IBISML | 2014-11-18 15:00 |
愛知 | 名古屋大学 | ［ポスター講演］Robust Estimation under Heavy Contamination using Unnormalized Models ○Takafumi Kanamori（Nagoya Univ.）・Hironori Fujisawa（ISM） IBISML2014-68 |
(事前公開アブストラクト) In this paper, our concern is to develop a new... [more] | IBISML2014-68 pp.251-258 |
| SDM | 2014-10-16 16:30 |
宮城 | 東北大学未来研 | ［招待講演］イメージセンサーデバイスにおけるイオン注入 ○川崎洋司・布施玄秀・佐野 信・大賀絵美・小池正純・渡邉一浩・杉谷道朗（SEN） SDM2014-88 |
CMOSイメージセンサのためのイオン注入の方向性を議論した。要求されるより深い分布に対して、安定性の観点からビーム方向、... [more] | SDM2014-88 pp.23-30 |
| EMD | 2011-11-17 17:10 |
秋田 | 秋田大学 手形キャンパス | Contact Resistance Characteristics of Relays Operated in Vapors Evaporated from Cured Polymeric Products ○Nanae Kobayashi・Makoto Hasegawa（Chitose Inst. of Science & Tech.）・Yoshiyuki Kohno・Hiroshi Ando（Kaneka） EMD2011-85 |
The authors have already reported that when relays were oper... [more] | EMD2011-85 pp.97-102 |
| EMD | 2010-11-12 14:30 |
海外 | 西安交通大学（中国、西安） | Characteristics of electric charges carried by dust particles and their effects on electrical contact failures ○Jinchun Gao（Beijing Univ. of Posts and Telecom.） EMD2010-116 |
Dust contamination is one of the major causes of electrical ... [more] | EMD2010-116 pp.205-210 |
| SDM, ED (共催) |
2008-07-09 13:45 |
北海道 | かでる２・７（札幌） | ［招待講演］Precise Ion Implantation for Advanced MOS LSIs ○Toshiharu Suzuki（SEN） ED2008-44 SDM2008-63 |
Issues in the ion implantation technology employed in advanc... [more] | ED2008-44 SDM2008-63 pp.25-30 |
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