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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2010-03-12 14:30 |
愛知 | 名古屋大学 | Kr+イオン照射によるMnBi薄膜の構造変化と磁気特性制御 ○徐 倩茜・加藤剛志・岩田 聡・綱島 滋（名大）  MR2009-62 |
マグネトロンスパッタ成膜と350˚Cの熱処理により作成したMnBi (15 nm)膜に30 keVのKr+イオ... [more] | MR2009-62 pp.21-26 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2009-12-10 13:30 |
愛媛 | 愛媛大学 工学部 | 傾斜異方性ビットパターン媒体におけるスイッチング磁界分散低減機構の解析 ○本多直樹・小向達也（東工大） MR2009-38 |
高面記録密度の実現が期待されるビットパターン媒体では，高密度になるほどドット間の静磁気相互作用のためスイッチング磁界の分... [more] | MR2009-38 pp.7-11 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2009-12-10 14:00 |
愛媛 | 愛媛大学 工学部 | スタティック・テスタによるBPM記録再生特性の基礎検討 ○青井 基（東北大）・嵯峨秀樹（東北大/日立）・竜野良亮・白幡一樹・三塚 要・三浦健司・島津武仁・村岡裕明（東北大） MR2009-39 |
今後の垂直磁気記録における高密度化の有力な候補の一つであるビット・パターン媒体 (Bit-Patterned Mediu... [more] | MR2009-39 pp.13-18 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2009-11-13 13:45 |
東京 | 早稲田大学 | 1 Tbit/in2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響 ○有明 順・近藤祐治（秋田県産技総研センター）・石尾俊二（秋田大）・本多直樹（東北工大） MR2009-30 |
1 Tbit/in2級のビットパターン媒体(BPM)作製のための作製プロセスや媒体設計上の課題抽出のため，微細磁性ドット... [more] | MR2009-30 pp.7-12 |
| ITE-MMS, MRIS (共催) |
2009-06-11 14:45 |
宮城 | 東北大学電気通信研究所 | 弱傾斜異方性ビットパターン媒体とシールドプレーナーヘッドを用いた高密度記録のシミュレーション検討 ○本多直樹（東北工大）・山川清志・大内一弘（秋田県産技総研センター） MR2009-3 |
傾斜異方性ビットパターン媒体の傾斜角を60度とする弱傾斜媒体の記録特性をシミュレーションにより検討した．シールドプレーナ... [more] | MR2009-3 pp.9-14 |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2009-03-06 16:45 |
愛知 | 名古屋大学 | CrPt3規則合金膜を利用したイオン照射型ビットパターンメディア 山内幸大・○大島大輝・加藤剛志・岩田 聡・綱島 滋（名大）・松本幸治・森河 剛（山形富士通）・尾崎一幸（富士通研） MR2008-68 |
マグネトロンスパッタ製膜後熱処理することで作製したCrPt3規則合金膜(20 nm厚)にKr＋，Ar＋イオン等を照射し，... [more] | MR2008-68 pp.35-39 |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2008-12-12 09:30 |
愛媛 | 愛媛大学総合情報メディアセンター１F メディアホール | 千鳥格子配置パターン媒体における静磁気相互作用と記録マージンの考察 ○出川直通・Simon Greaves・村岡裕明（東北大）・金井 靖（新潟工科大） MR2008-46 |
パターン媒体（BPM）の高記録密度化の課題として，隣接ドットからの静磁気相互作用干渉と隣接トラック消去（ATE）の低減が... [more] | MR2008-46 pp.49-53 |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2008-12-12 10:50 |
愛媛 | 愛媛大学総合情報メディアセンター１F メディアホール | 単磁極ヘッドのFEM静磁界およびマイクロマグネティック動磁界解析 ○平澤和則・小山和也・神保義裕・金井 靖（新潟工科大）・吉田和悦（工学院大）・Greaves Simon・村岡裕明（東北大） MR2008-48 |
面記録密度を2 terabit/inch2 と仮定し，有限要素法 (FEM) を用いて静磁界解析を行い，高い記録磁界勾配... [more] | MR2008-48 pp.61-66 |
| MRIS, ITE-MMS (共催) |
2008-10-09 13:30 |
秋田 | 秋田県産業技術総合センター 秋田県高度技術研究所 | ビットパターン媒体用1Tbit/in2級Co-Ptドットアレイの作製 ○近藤祐治・千葉 隆・有明 順・田口 香（秋田県産技総研センター）・鈴木基寛・河村直己（高輝度光科学研究センター）・Zulfakri Bin Mohamad・保坂純男（群馬大）・長谷川 崇・石尾俊二（秋田大）・本多直樹（東北工大） MR2008-19 |
ビットパターン媒体作製に関して，イオンエッチング時に生じる磁気的な加工ダメージを軽減するために，低エネルギーイオンによる... [more] | MR2008-19 pp.1-6 |
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