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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
MW, ED
(共催)
2009-01-16
09:55
東京 機械振興会館 AlGaN/GaN MIS-HEMTの低温DC・RF特性に関する温度依存性
遠藤 聡渡邊一世山下良美NICT)・三村高志NICT/富士通研)・松井敏明NICTED2008-219 MW2008-184
SiN/SiO2/SiN三層絶縁膜を有するAlGaN/GaN系MIS-HEMT(metal-insulator-semi... [more] ED2008-219 MW2008-184
pp.119-123
LQE, ED, CPM
(共催)
2008-11-28
13:30
愛知 名古屋工業大学 p-InGaN cap層を用いたノーマリオフ型AlGaN/GaN HEMTs
李 旭黒内正仁岸本 茂水谷 孝名大)・中村文彦パウデックED2008-177 CPM2008-126 LQE2008-121
p-InGaN cap層を用いたAlGaN/GaN HEMTsを作製しデバイスの特性評価を行った。p-InGaN cap... [more] ED2008-177 CPM2008-126 LQE2008-121
pp.125-130
LQE, ED, CPM
(共催)
2008-11-28
16:10
愛知 名古屋工業大学 Pd/AlGaN/GaN HEMT型水素ガスセンサにおける水素検出メカニズムの検討
高橋紀行中村成志奥村次徳首都大東京ED2008-183 CPM2008-132 LQE2008-127
100ppm以下の水素濃度検知を目指し,ゲート電極にパラジウム(Pd)を用いたAlGaN/GaN 高電子移動度トランジス... [more] ED2008-183 CPM2008-132 LQE2008-127
pp.155-159
SDM, ED
(共催)
2008-07-11
09:25
北海道 かでる2・7(札幌) [招待講演]Recent Advances on GaN Vertical Power Device
Tetsu KachiToyota Central R&D Labs., Inc.ED2008-72 SDM2008-91
Two types of the vertical device structure have been develo... [more] ED2008-72 SDM2008-91
pp.171-175
SDM, ED
(共催)
2008-07-11
14:50
北海道 かでる2・7(札幌) 熱CVD成長SiN保護膜を用いたSiC基板上AlGaN/GaN-HEMT
大来英之星 真一丸井俊治伊藤正紀戸田典彦森野芳昭玉井 功佐野芳明関 昇平OKIED2008-105 SDM2008-124
 [more] ED2008-105 SDM2008-124
pp.341-345
ED 2007-11-27
14:45
宮城 東北大学 電気通信研究所 サブ100 nmゲートAlGaN/GaN系MIS-HEMTの極低温特性
遠藤 聡渡邊一世NICT)・山下良美富士通研)・三村高志富士通研/NICT)・松井敏明NICTED2007-190
SiN/SiO2/SiN三層絶縁膜を用いたサブ100 nmゲートAlGaN/GaN系MIS-HEMTを作製し,そのDC,... [more] ED2007-190
pp.17-21
ED 2007-06-16
11:00
富山 富山大学 低ゲートリーク電流Siイオン注入GaN/AlGaN/GaN HEMTの研究
野本一貴田島 卓法政大)・三島友義日立電線)・佐藤政孝中村 徹法政大ED2007-44
本研究では低ゲートリーク電流Siイオン注入GaN/AlGaN/GaN HEMTの作成を行った。アンドープGaN/AlGa... [more] ED2007-44
pp.71-74
ED, CPM, LQE
(共催)
2006-10-05
14:15
京都 京都大学 SiC基板上AlGaN/GaN HEMTの結晶成長に関する研究
岩崎天彦石川博康江川孝志名工大
AlGaN/GaN HEMTは次世代の高出力・高周波デバイスとして期待されている。今回、電子移動度の向上を目的としMOC... [more] ED2006-155 CPM2006-92 LQE2006-59
pp.19-22
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