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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OCS, LQE, OPE
(共催)
2023-10-19
15:15
高知 高知共済会館 COMMUNITY SQUARE
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のMMIにおける反射影響とOMA増強効果の発現に関する検討
村尾覚志三菱電機)・堀川 剛東工大OCS2023-34 OPE2023-89 LQE2023-36
マッハ・ツェンダ(MZ)型シリコン光変調器では,位相シフタにキャリアプラズマ効果を用いることから,その変調効率に起因して... [more] OCS2023-34 OPE2023-89 LQE2023-36
pp.37-40
LQE, OPE, CPM, EMD, R
(共催)
2023-08-25
10:00
宮城 東北大学 電気通信研究所本館 オープンセミナールーム(M153)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]集積フォトニクスのエコシステムの状況と展望
堀川 剛東工大R2023-29 EMD2023-24 CPM2023-34 OPE2023-73 LQE2023-20
シリコンフォトニクス技術をベースにした集積フォトニクスについて、その開発を支えるエコシステムの現状と将来の進化について考... [more] R2023-29 EMD2023-24 CPM2023-34 OPE2023-73 LQE2023-20
pp.63-66
OPE, OCS, LQE
(共催)
2022-10-20
15:45
愛媛 松山市民会館 小ホール
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のアーム間不均衡によるチャープへの影響の理論および実験的検討
村尾覚志牛田 淳高橋博之徳島正敏椎名明美堀川 剛光電子融合基盤技研OCS2022-22 OPE2022-68 LQE2022-31
キャリア空乏マッハ・ツェンダ(MZ)型シリコン光変調器では,プロセスやSOI厚ばらつきに起因して位相シフタの変調効率や吸... [more] OCS2022-22 OPE2022-68 LQE2022-31
pp.28-33
OCS, OPE, LQE
(共催)
2021-10-22
16:30
ONLINE オンライン開催 キャリア空乏マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器における位相シフタのコンパクトモデルの提案ならびにパラメータ抽出
村尾覚志牛田 淳高橋博之徳島正敏椎名明美堀川 剛光電子融合基盤技研OCS2021-18 OPE2021-38 LQE2021-17
光デバイスにおける検査工程はエレクトロニクスと大きく異なり,シリコンフォトニクスにおける検査時間の削減は大きな課題となっ... [more] OCS2021-18 OPE2021-38 LQE2021-17
pp.27-32
OCS, OPE, LQE
(共催)
2021-10-22
16:55
ONLINE オンライン開催 マッハ・ツェンダ型シリコン光変調器のアーム間不均衡によるOMAペナルティの理論および実験的検討
村尾覚志牛田 淳高橋博之徳島正敏椎名明美堀川 剛光電子融合基盤技研OCS2021-19 OPE2021-39 LQE2021-18
キャリア空乏マッハ・ツェンダ(MZ)型シリコン光変調器では,プロセスやSOI厚ばらつきに起因して位相シフタの変調効率や吸... [more] OCS2021-19 OPE2021-39 LQE2021-18
pp.33-38
LQE, OPE, SIPH
(共催)
2018-12-07
16:15
東京 慶應義塾大学 [招待講演]A 300-mm-wafer silicon photonics technology for energy-efficient and advanced information systems
Koji YamadaTsuyoshi HorikawaMakoto OkanoGuangwei CongYuriko MaegamiMorifumi OhnoNoritsugu YamamotoKeijiro SuzukiSatoshi SudaRyotaro KonoikeHiroyuki MatsuuraKazuhiro IkedaHitoshi KawashimaShu NamikiMasahiko MoriAISTOPE2018-139 LQE2018-149 SIPH2018-55
300mmウエハーシリコンフォトニクス技術は優れた加工精度、面内均一性、再現性を有している。この技術を用い、低環境負荷な... [more] OPE2018-139 LQE2018-149 SIPH2018-55
pp.209-214
LQE, LSJ
(共催)
2017-05-26
10:25
石川 山代温泉葉渡莉 シリコン集積素子の光I/O ~ グレーティングカプラの出力安定化/スポットサイズ変換器の突合せ接続 ~
徳島正敏牛田 淳屋敷健一郎堀川 剛蔵田和彦光電子融合基盤技研LQE2017-12
光入出力(I/O)デバイスであるグレーティングカプラ(GC)とスポットサイズ変換器(SSC)の個々についてそれぞれの課題... [more] LQE2017-12
pp.49-52
OPE 2016-12-08
14:15
沖縄 石垣市商工会館(沖縄) シリコン導波路デバイス特性に及ぼす製造ばらつきの影響
堀川 剛光電子融合基盤技研/産総研)・志村大輔牛田 淳蘇武洋平椎名明美徳島正敏鄭 錫煥木下啓藏最上 徹光電子融合基盤技研
シリコンフォトニクス技術を用いた光集積回路は,長/短距離の情報伝送の広帯域化を可能にするキーデバイスとして注目されている... [more]
SCE 2014-01-24
15:55
東京 機械振興会館地下3階2号室 超伝導量子ビット集積化に向けた積層型微小接合作製プロセス
前澤正明佐藤哲朗埜口良二山岸雅司日高睦夫堀川 剛産総研SCE2013-57
実用的規模の量子計算機の実現を目指して,超伝導量子ビットのスケーラブルな集積化を可能とする微小ジョセフソン接合の作製プロ... [more] SCE2013-57
pp.129-134
OPE, LQE, CPM, EMD, R
(共催)
2013-08-30
11:55
北海道 サンリフレ函館 側面格子導波路を有するPIN型シリコン変調器の高速・高効率動作の検討
秋山 傑馬場 威今井雅彦光電子融合基盤技研)・平山直紀産総研)・高橋博之光電子融合基盤技研)・埜口良二堀川 剛産総研)・臼杵達哉光電子融合基盤技研R2013-53 EMD2013-59 CPM2013-78 OPE2013-82 LQE2013-52
 [more] R2013-53 EMD2013-59 CPM2013-78 OPE2013-82 LQE2013-52
pp.123-128
LQE, OPE
(共催)
2013-06-21
10:35
東京 機械振興会館 300 mm基板上にArF液侵リソグラフィーを用いて作製したシリコンフォトニクスデバイス
北 智洋田主裕一朗奈良匡樹平野 秀東北大)・外山宗博関 三好越野圭二横山信幸大塚 実杉山曜宣石塚栄一佐野 作堀川 剛産総研)・山田博仁東北大OPE2013-7 LQE2013-17
ArF液侵リソグラフィー技術を用いて300 mm SOIウェハ上にチャネル型シリコン細線導波路,方向性結合器,リング共振... [more] OPE2013-7 LQE2013-17
pp.1-5
PN, EMT, LQE, OPE, MWP, EST
(共催)
IEE-EMT
(連催) [詳細]
2013-01-24
16:00
大阪 大阪大学吹田キャンパス [招待講演]シリコンフォトニクスを用いた高密度チップ間インターコネクト
賣野 豊光電子融合基盤技研)・堀川 剛産総研)・中村隆宏光電子融合基盤技研)・荒川泰彦東大PN2012-47 OPE2012-156 LQE2012-148 EST2012-83 MWP2012-65
情報通信産業においては,今後も情報の伝送・処理性能の飛躍的な伸びが求められているが,その実現に向けて最も深刻な課題の一つ... [more] PN2012-47 OPE2012-156 LQE2012-148 EST2012-83 MWP2012-65
pp.103-108
OPE 2012-12-21
15:20
東京 機械振興会館 MSM型ゲルマニウム受光器の差動対光受信回路への応用
三浦 真藤方潤一野口将高岡本大典光電子融合基盤技研)・堀川 剛産総研)・荒川泰彦東大OPE2012-139
シリコン(Si)基板上への光電子集積技術の確立に向け,ゲルマニウム(Ge)受光器の開発とGe受光器を用いた光受信回路の検... [more] OPE2012-139
pp.27-31
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