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電磁界理論技術委員会 (IEE-EMT)
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次世代産業システム (IEE-IIS)
情報システム研究会 (IEE-IS)
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光・量子デバイス技術委員会 (IEE-OQD)
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研究会
発表日時
開催地
タイトル・著者
抄録
資料番号
EID
,
SDM
(共催)
ITE-IDY
(連催)
[詳細]
2020-12-02
13:40
ONLINE
オンライン開催
粒子配向用チタン酸バリウム単結晶微粒子の合成
○
山﨑美沙
・
山口正樹
(
芝浦工大
)
EID2020-8 SDM2020-42
本研究では,水酸化バリウム水溶液,チタン乳酸錯体,水酸化ナトリウム水溶液を基本的な出発原料とした混合液を用い,インクジェ...
[more]
EID2020-8
SDM2020-42
pp.29-34
VLD
,
HWS
(併催)
2018-02-28
11:00
沖縄
沖縄県青年会館
制約充足問題を利用した多端子ネットに対する高速配線手法
○
山口沙樹
・
高島康裕
(
北九州市大
)
VLD2017-92
本論文では,多端子ネットに対する配線問題に関して,制約充足問題(CSP)を利用して高速に配線を実現する手法を提案する.
...
[more]
VLD2017-92
pp.19-24
SDM
,
EID
(共催)
2017-12-22
14:45
京都
京都大学
シリコン基板上に形成した強誘電体厚膜におよぼすプロトンビーム照射の影響
○
平出 惇
・
山口正樹
(
芝浦工大
)・
増田陽一郎
(
八戸工大
)
EID2017-22 SDM2017-83
シリコン基板上に堆積した強誘電体薄膜は,不揮発性メモリ,フォトニック結晶,圧電MEMSなどへの応用が期待されている.しか...
[more]
EID2017-22
SDM2017-83
pp.57-62
VLD
,
CPSY
,
RECONF
(共催)
IPSJ-SLDM
,
IPSJ-ARC
(共催)
(連催)
[詳細]
2016-01-21
15:20
神奈川
慶應義塾大学 日吉キャンパス
Mate構造を利用したTRAXソルバの実装
○
高島康裕
・
八幡尚明
・
山口沙樹
・
野村孔命
(
北九州市大
)
VLD2015-109 CPSY2015-141 RECONF2015-91
[more]
VLD2015-109
CPSY2015-141
RECONF2015-91
pp.233-236
SDM
2013-12-13
16:20
奈良
奈良先端科学技術大学院大学
誘電体厚膜の形成とプロトンビームによる直接パターニング
○
渡辺和貴
・
山口正樹
・
西川宏之
(
芝浦工大
)
SDM2013-130
本研究では,非鉛系強誘電体材料の一つであるチタン酸ビスマス(Bi4Ti3O12,BIT)において,ポリビニルピロリドン(...
[more]
SDM2013-130
pp.85-89
SDM
2012-12-07
16:00
京都
京都大学(桂)
プロトンビームを用いた強誘電体微構造の作製
○
山口正樹
・
渡辺和貴
(
芝浦工大
)・
増田陽一郎
(
八戸工大
)
SDM2012-134
次世代の微細加工手法であると考えられるプロトンビーム照射により,強誘電体膜へのパターン描画について検討を行なった.感光基...
[more]
SDM2012-134
pp.113-117
SDM
2009-12-04
16:10
奈良
奈良先端大 物質創成科学研究科
強誘電体インクの安定性改善
○
大場友裕
・
前田慎弥
・
山口正樹
(
芝浦工大
)
SDM2009-167
任意のパターンを直接描画できる利点を持つインクジェット法に注目し.自発分極や圧電効果など様々な性質を示す強誘電体薄膜の形...
[more]
SDM2009-167
pp.83-88
SDM
2008-12-05
15:10
京都
京都大学桂キャンパスA1-001
アルコール系原料を用いた強誘電体膜の電気的特性評価
○
山口正樹
・
大場友弘
(
芝浦工大
)・
増田陽一郎
(
八戸工大
)
SDM2008-192
近年,次世代の薄膜形成手法のひとつであるプリンテッド・エレクトロニクス手法に応用できるアルコール系インクから強誘電体薄膜...
[more]
SDM2008-192
pp.43-47
DC
,
CPSY
,
IPSJ-SLDM
,
IPSJ-EMB
(共催)
2008-03-27
08:45
鹿児島
屋久島 離島総合開発センター
負荷変動に瞬時適応可能なマルチパフォーマンスプロセッサの設計と評価
○
山口誠一朗
・
大山裕一郎
(
九大
)・
国武勇次
(
九工大
)・
松村忠幸
・
石飛百合子
・
山口聖貴
・
李 東勲
・
金田裕介
(
九大
)・
舟木敏正
(
九工大
)・
室山真徳
・
石原 亨
・
佐藤寿倫
(
九大
)
DC2007-84 CPSY2007-80
動的可変電圧プロセッサ(以下DVSプロセッサ)の代用となるマルチパフォーマンスプロセッサについて述べる.マルチパフォーマ...
[more]
DC2007-84
CPSY2007-80
pp.1-6
SDM
2007-12-14
17:20
奈良
奈良先端科学技術大学院大学
アルコール系溶液による強誘電体薄膜特性の焼成条件依存性
○
山口正樹
(
芝浦工大
)・
増田陽一郎
(
八戸工大
)
SDM2007-236
近年,次世代の薄膜形成手法のひとつであるプリンテッド・エレクトロニクス手法に応用できるアルコール系インクから,強誘電体薄...
[more]
SDM2007-236
pp.59-62
VLD
,
DC
,
IPSJ-SLDM
(共催)
CPSY
,
RECONF
,
IPSJ-ARC
(併催)
[詳細]
2007-11-20
15:35
福岡
北九州国際会議場
製造後にタイミング補正可能なオンチップバスアーキテクチャ
○
山口聖貴
・
室山真徳
・
石原 亨
・
安浦寛人
(
九大
)
トランジスタの微細化が進むにつれて,配線に起因する遅延時間の影響が増大している.特にバス配線では複数の配線が長距離並走す...
[more]
VLD2007-79
DC2007-34
pp.55-60
ICD
,
VLD
(共催)
2007-03-07
17:40
沖縄
メルパルク沖縄
90nmCMOS回路における遅延・電力ばらつきのゲート段数およびゲート幅依存性に関する考察
○
山口聖貴
(
九大
)・
Yuan Yang
(
西安理工大
)・
坂本良太
・
室山真徳
・
石原 亨
・
安浦寛人
(
九大
)
近年,製造ばらつきに起因する回路性能のばらつきが顕著になってきている.回路性能のばらつきは歩留まりを低下させるため,ばら...
[more]
VLD2006-118
ICD2006-209
pp.73-78
VLD
,
IPSJ-SLDM
(共催)
2006-05-12
14:00
愛媛
愛媛大学
90nmCMOS回路における遅延および電力ばらつきの実測と解析
○
山口聖貴
(
九大
)・
Yang Yuan
(
西安理工大
)・
樽見幸祐
・
坂本良太
・
室山真徳
・
石原 亨
・
安浦寛人
(
九大
)
近年,製造ばらつきに起因する回路性能のばらつきが顕著になってきている.回路性能のばらつきによって歩留まりが低下する.歩留...
[more]
VLD2006-13
pp.41-46
13件中 1~13件目
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日付順(降順)
タイトル順
著者順
所属順
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