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| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| ITS, IE (共催) ITE-AIT, ITE-HI, ITE-ME (共催) (連催) [詳細] |
2014-02-17 13:50 |
北海道 | 北海道大学 | スパース表現に基づく顔識別のための保護テンプレート生成法 ○古川昌和・村木雄一・藤吉正明（首都大東京）・外村喜秀（NTT）・貴家仁志（首都大東京）  ITS2013-42 IE2013-107 |
[more] | ITS2013-42 IE2013-107 pp.73-78 |
| SP, EA, SIP (共催) |
2013-05-17 16:25 |
岡山 | 岡山大学 | カーネル法を用いたスパース表現に基づくセキュアな顔識別法 ○古川昌和・村木雄一・藤吉正明・貴家仁志（首都大東京） EA2013-27 SIP2013-27 SP2013-27 |
[more] | EA2013-27 SIP2013-27 SP2013-27 pp.157-162 |
| CPM | 2008-08-04 14:00 |
北海道 | 室蘭工業大学 | 表面波プラズマ装置の開発と半導体プロセスへの応用 ○福田 永（室蘭工大）・古川雅一（アリエース・リサーチ） CPM2008-41 |
本研究は、高密度表面波プラズマ装置の開発と次世代半導体プロセスへの応用を目的としている。今回、300℃以下の低温領域でシ... [more] | CPM2008-41 pp.1-4 |
| EMD, CPM, LQE, OPE (共催) |
2006-08-25 10:05 |
北海道 | 千歳アルカディア・プラザ | 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究 ○東海林春樹・福田 永・古川雅一（室蘭工大） |
[more] | EMD2006-37 CPM2006-67 OPE2006-79 LQE2006-44 pp.67-70 |
| MW, OPE, EMT (共催) [詳細] |
2006-07-28 09:45 |
北海道 | 北見工大 | マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置のFDTD法解析 ○三芦大樹・川口秀樹・古川雅一（室蘭工大） |
半導体素子製造の新しい方法であるマイクロ波励起表面波プラズマプロセスでは、印加されるマイクロ波とプラズマの生成、性質につ... [more] | MW2006-67 OPE2006-59 pp.175-180 |
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