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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
CPM 2008-08-04
14:00
北海道 室蘭工業大学 表面波プラズマ装置の開発と半導体プロセスへの応用
福田 永室蘭工大)・古川雅一アリエース・リサーチCPM2008-41
本研究は、高密度表面波プラズマ装置の開発と次世代半導体プロセスへの応用を目的としている。今回、300℃以下の低温領域でシ... [more] CPM2008-41
pp.1-4
CPM 2008-08-04
15:25
北海道 室蘭工業大学 ヘテロ原子含有置換ポリアセチレンの有機トランジスタへの応用
今村哲也馬渡康輝福田 永田畑昌祥室蘭工大CPM2008-44
ラセン構造を持つ置換ポリアセチレンの有機トランジスタへの応用を試みた。置換ポリアセチレンはRh錯体触媒による重合反応によ... [more] CPM2008-44
pp.15-18
CPM 2008-08-04
15:50
北海道 室蘭工業大学 ポリ3ヘキシルチオフェン薄膜形成と有機トランジスタへの応用
福田 永植杉克弘室蘭工大CPM2008-45
スピンコート法を用い、位置規則性を持つポリ3ヘキシルチオフェン(P3HT)膜の形成を試みた。P3HT膜は、適度な条件下で... [more] CPM2008-45
pp.19-22
CPM 2008-08-04
16:15
北海道 室蘭工業大学 ペンタセン薄膜形成と有機トランジスタへの応用
夛田芳広山田真也植杉克弘福田 永室蘭工大CPM2008-46
真空蒸着法によりペンタセン薄膜を形成し,X線回折法および原子間力顕微鏡により膜構造を観察した.次にペンタセンを用いた有機... [more] CPM2008-46
pp.23-26
EMD, CPM, LQE, OPE
(共催)
2006-08-25
10:05
北海道 千歳アルカディア・プラザ 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究
東海林春樹福田 永古川雅一室蘭工大
 [more] EMD2006-37 CPM2006-67 OPE2006-79 LQE2006-44
pp.67-70
CPM, EMD, OME
(共催)
2006-06-30
15:15
東京 機械振興会館 ポリ3ヘキシルチオフェン薄膜形成と有機薄膜トランジスタへの応用
福田 永小島 崇植杉克弘室蘭工大
 [more] EMD2006-12 CPM2006-36 OME2006-46
pp.39-44
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