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 42件中 1~20件目  /  [次ページ]  
研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
OME, SDM
(共催)
2024-04-20
16:35
鹿児島 奄美市アマホームプラザ [招待講演]反応性大気圧熱プラズマジェットを用いた有機薄膜の超高速エッチング技術
東 清一郎松本響平花房宏明広島大
 [more]
SDM, OME
(共催)
2023-04-22
16:10
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
プラズマプロセス中のウェハ温度の非接触測定に向けた計測システムの開発
後藤隆之介堀内憲志郎Jiawen Yu花房宏明東 清一郎広島大SDM2023-17 OME2023-17
 [more] SDM2023-17 OME2023-17
pp.63-66
OME, SDM
(共催)
2022-04-23
09:30
宮崎 高千穂ホール(宮崎市)
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
光学干渉非接触温度測定法(OICT)によるシリコンウェハ内部の過渡的熱拡散過程の三次元イメージング
松口康太郎藤本渓也Yu Jiawen花房宏明佐藤拓磨東 清一郎広島大SDM2022-8 OME2022-8
 [more] SDM2022-8 OME2022-8
pp.39-42
SDM, OME
(共催)
2021-04-23
14:40
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
[招待講演]大気圧マイクロプラズマジェットを用いたアモルファスゲルマニウム薄膜の超急速結晶化と電気特性評価
東 清一郎広島大
 [more]
OME 2020-12-25
13:40
沖縄 沖縄県青年会館
(ハイブリッド開催,主:現地開催,副:オンライン開催)
光学干渉非接触温度測定(OICT)を用いたシリコンウェハ内部の過渡的温度変化過程の測定
裏崎裕也花房宏明東 清一郎広島大
独自に開発した光学干渉非接触温度測定(Optical-Interference Contactless Thermome... [more]
SDM, OME
(共催)
2020-04-13
15:50
沖縄 沖縄県青年会館
(開催中止,技報発行なし)
[招待講演]大気圧熱プラズマジェット照射による非晶質基板上のリンドープゲルマニウム薄膜の結晶化と電気特性
東 清一郎広島大
 [more]
OME 2017-12-01
14:50
佐賀 サンメッセ鳥栖 [招待講演]単結晶シリコン薄膜転写技術によるプラスチック上CMOS回路動作
東 清一郎広島大OME2017-46
 [more] OME2017-46
pp.53-57
OME, SDM
(共催)
2017-04-21
10:25
鹿児島 龍郷町生涯学習センター 回転ステージを用いたフレキシブルガラス基板上アモルファスシリコンの大気圧熱プラズマジェット結晶化
中野 航稗田竜己花房宏明東 清一郎広島大
 [more]
SDM, OME
(共催)
2016-04-08
16:25
沖縄 沖縄県立博物館・美術館 博物館講座室 大気圧マイクロ熱プラズマジェット結晶化ゲルマニウム膜の電気特性評価及び高性能薄膜トランジスタの作製
中谷太一原田大夢・○東 清一郎広島大SDM2016-9 OME2016-9
大気圧マイクロ熱プラズマジェット(μ-TPJ)を石英基板上のアモルファスゲルマニウム(a-Ge)膜へ照射し形成した結晶(... [more] SDM2016-9 OME2016-9
pp.35-38
OME, SDM
(共催)
2015-04-30
13:00
沖縄 大濱信泉記念館多目的ホール 大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射アモルファスシリコン細線による結晶成長制御およびCMOS回路の高速駆動
森崎誠司林 将平山本将悟中谷太一東 清一郎広島大SDM2015-13 OME2015-13
1µmのアモルファスシリコン細線構造を用いることにより大気圧マイクロ熱プラズマジェット(µ-TPJ)... [more] SDM2015-13 OME2015-13
pp.49-52
SDM 2014-06-19
11:25
愛知 名古屋大学 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー Ge基板中のAs高効率活性化と低抵抗浅接合形成
浜田慎也村上秀樹小野貴寛橋本邦明広島大)・大田晃生名大)・花房宏明東 清一郎広島大)・宮崎誠一名大SDM2014-48
Ge中でのAsの活性化率を向上させるために、Ge(100)に対して基板温度を-100~400°Cに制御してAs+イオン注... [more] SDM2014-48
pp.27-30
SDM, OME
(共催)
2014-04-10
14:10
沖縄 沖縄県青年会館 [招待講演]メニスカス力を用いた単結晶シリコン薄膜転写技術とそのデバイス応用
東 清一郎酒池耕平赤澤宗樹中村将吾広島大SDM2014-3 OME2014-3
 [more] SDM2014-3 OME2014-3
pp.11-16
SDM 2013-06-18
14:15
東京 機械振興会館 SiOx/TiO2積層したMIMダイオードにおける抵抗変化特性評価
大田晃生広島大)・福嶋太紀牧原克典名大)・村上秀樹東 清一郎広島大)・宮崎誠一名大SDM2013-56
 [more] SDM2013-56
pp.61-66
SDM, ED
(共催)
(ワークショップ)
2012-06-27
18:00
沖縄 沖縄県青年会館 Improvement of Low-Temperature-Deposited SiO2 and Si/SiO2 interface Properties by Thermal-Plasma-Jet Annealing and Heat Treatment in High-Pressure H2O Vapor
Shunki KoyanagiShohei HayashiTsubasa MizunoKouhei SakaikeHiroaki HanafusaSeiichiro HigashiHiroshima Univ.
 [more]
SDM, ED
(共催)
(ワークショップ)
2012-06-28
08:45
沖縄 沖縄県青年会館 Evaluation of Chemical Composition and Bonding Features of Pt/SiOx/Pt MIM Diodes and Its Impact on Resistance Switching Behavior
Akio OhtaHiroshima Univ.)・Katsunori MakiharaNagoya Univ.)・Mitsuhisa IkedaHideki MurakamiSeiichiro HigashiHiroshima Univ.)・Seiichi MiyazakiNagoya Univ.
 [more]
SDM, ED
(共催)
(ワークショップ)
2012-06-28
09:45
沖縄 沖縄県青年会館 Control of Interfacial Reaction of HfO2/Ge Structure by Insertion of Ta Oxide Layer
Kuniaki HashimotoAkio OhtaHideki MurakamiSeiichiro HigashiHiroshima Univ.)・Seiichi MiyazakiNagoya Univ.
 [more]
SDM 2012-06-21
11:15
愛知 名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) TaOx層挿入によるHfO2/Ge界面反応制御
村上秀樹三嶋健斗大田晃生橋本邦明東 清一郎広島大)・宮崎誠一名大SDM2012-49
 [more] SDM2012-49
pp.33-36
SDM 2012-06-21
13:55
愛知 名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) 極薄層挿入によるAl/Ge接合の伝導特性制御
大田晃生松井真史村上秀樹東 清一郎広島大)・宮崎誠一名大SDM2012-53
 [more] SDM2012-53
pp.53-58
SDM 2012-06-21
14:45
愛知 名古屋大学(ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー) As+イオン注入したゲルマニウム層の化学分析
小野貴寛大田晃生村上秀樹東 清一郎広島大)・宮崎誠一名大SDM2012-55
 [more] SDM2012-55
pp.63-67
SDM, OME
(共催)
2012-04-28
10:20
沖縄 沖縄県青年会館 マイクロ熱プラズマジェット照射によるポーラスシリコン層上Si膜のエピタキシャル成長
林 将平松原良平藤田悠二池田弥央東 清一郎広島大SDM2012-14 OME2012-14
ポーラスシリコン(PS)層上に堆積したアモルファスシリコン(a-Si)膜を大気圧マイクロ熱プラズマジェット照射により結晶... [more] SDM2012-14 OME2012-14
pp.63-66
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