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研究会	発表日時	開催地		タイトル・著者	抄録	資料番号
VLD, DC, IPSJ-SLDM (連催) ICD, CPM (共催) CPSY, RECONF (併催) [詳細]	2010-12-01 13:15	福岡	九州大学医学部百年講堂	［招待講演］TFT SRAMを用いた3D-FPGAの開発 ○内藤達也・石田達也（東芝）・小野塚　健（コバレントマテリアル）・西郡正人・中山武雄・上野芳弘・石本康実・鈴木昭弘・鍾　ウェイ丞（東芝）・Raminda Madurawe（readyASIC）・Sheldon Wu（China International Intellectual Property Services）・池田修二（tei Solutions）・親松尚人（東芝） RECONF2010-50	[more]	RECONF2010-50 pp.65-69
ICD, SDM (共催)	2009-07-16 15:50	東京	東工大大岡山キャンパス国際交流会館	微細High-k/メタルゲートデバイスにおけるキャリア移動度とTinvスケーリングの関係および22nmノードに向けたデバイス設計ガイドライン後藤正和・○川中　繁・犬宮誠治・楠　直樹・齋藤真澄・辰村光介・木下敦寛・稲葉　聡・豊島義明（東芝） SDM2009-107 ICD2009-23	Tinvスケーリングとチャネル内キャリア移動度劣化のトレードオフに関し、極微細MOSFETを用いた実験データに基づき解析... [more]	SDM2009-107 ICD2009-23 pp.53-56
SDM	2008-10-10 15:45	宮城	東北大学	シリコン酸化膜中に取り込まれたドーパントの影響 ○永嶋賢史・赤堀浩史（東芝） SDM2008-166	一般的なメモリやCMOSプロセスにおいては、拡散層やゲート電極にリンやボロン、砒素等の不純物をドープしたシリコン材料が用... [more]	SDM2008-166 pp.63-68
SDM	2006-06-22 10:55	広島	広島大学, 学士会館	窒素高濃度極薄SiON膜のVtb改善メカニズム ○松下大介・村岡浩一・中崎　靖・加藤弘一・菊地祥子・佐久間　究・三谷祐一郎・高柳万里子・江口和弘（東芝）	[more]	SDM2006-56 pp.81-86
ICD	2005-12-16 14:25	高知	高知工科大	1.2V動作可能な中心周波数可変複素バンドパスフィルタ ○間島秀明・石黒仁揮・阿川謙一・濱田基嗣（東芝）	[more]	ICD2005-202 pp.61-66
ICD, CPM (共催)	2005-09-09 10:55	東京	機械振興会館	非鉛バンププロセスの高性能化 ○江澤弘和・瀬戸雅晴・樋口和人（東芝）	[more]	CPM2005-99 ICD2005-109 pp.17-22
EA	2005-06-24 15:50	埼玉	早稲田大学本庄キャンパス	コンデンサマイク／スピーカを用いた1bit波面記録再生システム ○武岡成人・栗原　誠・岡崎正倫・及川靖広（早大）・西川明成（東芝）・山崎芳男（早大）	[more]	EA2005-24 pp.25-30

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