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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ICD 2011-04-19
11:45
兵庫 神戸大学 瀧川記念館 局所電子注入による非対称パスゲートトランジスタを用いた8T-SRAMにおけるハーフセレクトディスターブの抑制
宮地幸祐本田健太郎田中丸周平東大)・宮野信治半導体理工学研究センター)・竹内 健東大ICD2011-13
SRAMのVTHのばらつきによる読み出し・書き込みマージン減少の解決のため,6T-SRAMのパスゲートトランジスタへ局所... [more] ICD2011-13
pp.71-76
DC 2011-02-14
11:25
東京 機械振興会館 統計的タイミング解析を用いたばらつき考慮テストメソドロジ
新谷道広畠山一実相京 隆半導体理工学研究センターDC2010-62
LSI の微細化と高速化に伴い,プロセスばらつきの影響でチップのスペックを超えてしまうパラメトリック不良の増大が懸念され... [more] DC2010-62
pp.21-26
ICD 2010-12-17
13:50
東京 東京大学 先端科学技術研究センター Misleading Energy and Performance Claims in Sub/Near Threshold Digital Systems
Yu PuXin ZhangJim HuangUniv. of Tokyo)・Atsushi MuramatsuMasahiro NomuraKoji HirairiHidehiro TakataTaro SakurabayashiShinji MiyanoSTARC)・Makoto TakamiyaTakayasu SakuraiUniv. of TokyoICD2010-122
Many of us in the field of ultra-low-Vdd processors experien... [more] ICD2010-122
pp.135-140
ICD 2010-12-17
16:15
東京 東京大学 先端科学技術研究センター A 1-V Input, 0.2-V to 0.47-V Output Switched-Capacitor DC-DC Converter with Pulse Density and Width Modulation (PDWM) for 57% Ripple Reduction
Xin ZhangYu PuKoichi IshidaUniv. of Tokyo)・Yoshikatsu RyuYasuyuki OkumaSTARC)・Po-Hung ChenUniv. of Tokyo)・Kazunori WatanabeSTARC)・Takayasu SakuraiMakoto TakamiyaUniv. of TokyoICD2010-127
 [more] ICD2010-127
pp.163-167
ICD, SDM
(共催)
2010-08-27
13:45
北海道 札幌エルプラザ内男女共同参画センター プロセス工程後の局所的電子注入による非対称パスゲートトランジスタを有する6トランジスタ型SRAMとその読み出し時安定性の向上
宮地幸祐田中丸周平本田健太郎東大)・宮野信治半導体理工学研究センター)・竹内 健東大SDM2010-145 ICD2010-60
本論文ではプロセス後にSRAMセルのパスゲートトランジスタの記憶保持ノード側の接合端付近の絶縁膜中に電子を局所的に注入す... [more] SDM2010-145 ICD2010-60
pp.115-120
ICD
(ワークショップ)
2010-08-16
- 2010-08-18
海外 ホーチミン市百科大学 Device-modeling techniques for high-frequency circuits operated at over 100GHz
Ryuichi FujimotoSTARC)・Kyoya TakanoMizuki MotoyoshiUniv. of Tokyo)・Uroschanit YodprasitMinoru FujishimaHiroshima Univ.
 [more]
SDM 2010-06-22
15:15
東京 東京大学(生産研An棟) 作製後における電子局在注入による非対称パスゲートトランジスタ及びしきい値圧ばらつき自己修復機能を有する6トランジスタ型SRAMとその読み出し時安定性の向上
宮地幸祐田中丸周平本田健太郎東大)・宮野信治半導体理工学研究センター)・竹内 健東大SDM2010-44
本論文ではSRAMセルの安定性を自己修復するように一方のパスゲートトランジスタのゲート絶縁膜中に局所的に電子を注入するこ... [more] SDM2010-44
pp.61-65
SDM 2010-02-05
15:45
東京 機械振興会館 低速陽電子ビームを用いたCu/Low-k配線構造中の欠陥検出
上殿明良筑波大)・井上尚也林 喜宏江口和弘中村友二廣瀬幸範吉丸正樹半導体理工学研究センター)・大島永康大平俊行鈴木良一産総研SDM2009-190
陽電子消滅は結晶中の点欠陥やポーラス材料の空隙を非破壊で感度良く検出することができる手法である.陽電子が電子と対消滅する... [more] SDM2009-190
pp.49-52
ICD, ITE-IST
(共催)
2009-10-01
10:00
東京 キャンパス・イノベーションセンター東京(田町) マイクロプロセッサにおける基板ノイズの評価と解析
坂東要志神戸大)・小坂大輔エイアールテック)・横溝剛一坪井邦彦半導体理工学研究センター)・Ying Shiun LiShen LinApache)・永田 真神戸大/エイアールテックICD2009-35
SoC をターゲットとした電源・基板雑音の統合解析手法について、90nm CMOS 技術によるマイクロプロセッサ・チップ... [more] ICD2009-35
pp.11-14
SDM 2009-06-19
16:00
東京 東京大学(生産研An棟) High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ
小原孝介山下一郎奈良先端大)・八重樫利武茂庭昌弘吉丸正樹半導体理工学研究センター)・浦岡行治奈良先端大/JSTSDM2009-40
我々は生体由来の球殻タンパク質(フェリチン)を利用したドット型フローティングゲートメモリの実現を目指した研究を行っている... [more] SDM2009-40
pp.77-80
DC 2009-06-19
14:45
東京 機械振興会館 事前見積りを利用した電力・ノイズ考慮テスト
埜田健治伊藤秀昭畠山一実相京 隆半導体理工学研究センターDC2009-15
低電力設計の進展とともに,テスト時の電力消費とIRドロップの問題は重大化している.過剰な電力消費やIRドロップによるテス... [more] DC2009-15
pp.29-30
DC 2009-02-16
14:40
東京 機械振興会館 ゲート内抵抗性オープン欠陥に対する微小遅延故障モデル
新井雅之周藤明史岩崎一彦首都大東京)・中野勝幸新谷道広畠山一実相京 隆半導体理工学研究センターDC2008-75
 [more] DC2008-75
pp.43-48
SDM 2008-06-10
14:35
東京 東京大学(生産研 An棟) High-k膜を利用したバイオ系ドット型フローティングゲートメモリ
小原孝介浦岡行治冬木 隆山下一郎奈良先端大)・八重樫利武茂庭昌弘吉丸正樹半導体理工学研究センターSDM2008-57
我々は生体由来の球殻タンパク質(フェリチン)を利用したドット型フローティングゲートメモリの開発を目指した研究を行っている... [more] SDM2008-57
pp.89-92
SDM 2006-06-22
10:30
広島 広島大学, 学士会館 角度分解光電子分光を用いたSiO2/SiN積層膜の窒素濃度分布の解析
豊田智史岡林 潤尾嶋正治東大)・劉 国林劉 紫園池田和人臼田宏治半導体理工学研究センター
酸窒化膜の窒素濃度分布および化学結合状態はトランジスタの特性および構造を理解するために重要である。角度分解光電子分光法は... [more] SDM2006-55
pp.77-80
CAS, NLP
(共催)
2005-09-15
15:00
新潟 長岡技術科学大学 Modeling the Effective Capacitance of Interconnect Loads for Predicting CMOS Gate Slew
Zhangcai HuangWaseda Univ.)・Atsushi KurukawaSTAC)・Yasuaki InoueWaseda Univ.
In deep submicron designs, predicting
gate slews and delays... [more]
CAS2005-31 NLP2005-44
pp.31-36
ICD, CPM
(共催)
2005-09-09
13:50
東京 機械振興会館 Measurement of Inner-chip Variation and Signal Integrity By a 90-nm Large-scale TEG
Masaharu YamamotoSTARC)・Yayoi HayasiHitoshi EndoHitachi ULSI)・Hiroo MasudaSTARC
 [more] CPM2005-103 ICD2005-113
pp.41-46
ICD, SDM
(共催)
2005-08-19
13:25
北海道 函館国際ホテル 90nm GenericロジックCMOSプロセスを用いたメモリアレイ0.5V動作Asymmetric Three-Tr. Cell (ATC) DRAMの提案
市橋 基半導体理工学研究センター/ルネサステクノロジ)・戸田春希半導体理工学研究センター/東芝)・伊藤寧夫半導体理工学研究センター/東芝マイクロエレクトロニクス)・石橋孝一郎半導体理工学研究センター/ルネサステクノロジ
単一セルが1つのPMOSと2つのNMOSからなるATC DRAMを提案する.本メモリシステムは更に提案する"Forced... [more] SDM2005-151 ICD2005-90
pp.49-54
CPSY, VLD, IPSJ-SLDM
(共催)
2005-01-25
13:30
神奈川 慶應義塾大学 日吉キャンパス [招待講演]IP再利用を容易化する検証IPとアサーション ~ 検証IPとSTARCにおける取り組み ~
今井正紀半導体理工学研究センター
複雑化するSoCと製品サイクルの縮小に対応するため設計生産性向上への要求が増大している。IP再利用がその解決には必須であ... [more] VLD2004-103 CPSY2004-69
pp.35-38
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