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電子部品・材料研究会(CPM) [schedule] [select]
専門委員長 安井 寛治 (長岡技科大)
副委員長 竹村 泰司 (横浜国大)
幹事 今井 欽之 (NTT), 野毛 悟 (沼津高専)
幹事補佐 島村 俊重 (NTT), 阿部 克也 (信州大)

日時 2010年 7月29日(木) 13:30 - 16:40
2010年 7月30日(金) 09:30 - 12:10
議題 電子部品・材料,一般 
会場名 「道の駅しゃり 会議室」 
住所 北海道斜里郡斜里町本町37番地
交通案内 JR釧網本線 知床斜里駅下車 徒歩3分
http://www.sharimichi.com/
会場世話人
連絡先
北見工業大学電気電子工学科 武山真弓
0152-26-8888(会場)
他の共催 ◆後援:斜里町
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.
(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

7月29日(木) 午後 
13:30 - 16:40
(1) 13:30-13:55 RFスパッタリングによるCuInO2薄膜の作製と熱処理効果の検討 小川 翼横本拓也林部林平山上朋彦阿部克也信州大
(2) 13:55-14:20 ガスフロースパッタ法によるFe3O4のGaAs上へのエピタキシャル成長 CPM2010-31 佐久間洋志設樂裕紀鍵 康人鈴木 涼石井 清宇都宮大
(3) 14:20-14:45 室温にてスパッタ法により作製したAZO薄膜の特性の検討 CPM2010-32 清水英彦樫出 淳岩野春男川上貴浩福嶋康夫永田向太郎新潟大)・星 陽一東京工芸大
  14:45-14:55 休憩 ( 10分 )
(4) 14:55-15:20 触媒反応により生成した水分子ビームを用いたZnO結晶薄膜のエピタキシャル成長 CPM2010-33 田原将巳三浦仁嗣黒田朋義西山 洋・○安井寛治長岡技科大
(5) 15:20-15:45 伝送線上のアイパターンを改善する技術の提案と実測評価 CPM2010-34 石黒将巳島内優希相部範之筑波大)・吉原郁夫宮崎大)・安永守利筑波大
  15:45-15:50 休憩 ( 5分 )
(6) 15:50-16:40 [招待講演]超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス ~ 細孔の評価と洗浄 ~ CPM2010-35 近藤英一山梨大
7月30日(金) 午前 
09:30 - 12:10
(7) 09:30-09:55 ラジカル反応を応用したZrNx膜の低温作製 CPM2010-36 佐藤 勝武山真弓北見工大)・早坂祐一郎青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大
(8) 09:55-10:20 TDEAV原料を用いたVNx膜のALD成膜 CPM2010-37 武山真弓佐藤 勝北見工大)・須藤 弘町田英明気相成長)・伊藤 俊青柳英二東北大)・野矢 厚北見工大
(9) 10:20-10:45 レーザーアブレーション法によるSi基板上AlN薄膜の形成 CPM2010-38 中澤日出樹鈴木大樹遲澤遼一岡本 浩弘前大
  10:45-10:55 休憩 ( 10分 )
(10) 10:55-11:20 水平配向したカーボンナノチューブからの電界電子放出 CPM2010-39 斉藤裕史山上朋彦林部林平大池 匠山下将弘・○上村喜一信州大
(11) 11:20-11:45 液液界面析出したC60の光励起ポリマー形成 CPM2010-40 小出大樹加藤翔太池田恵理岩田展幸・○山本 寛日大
(12) 11:45-12:10 Snをドープしたシリカガラス薄膜の可視発光特性 CPM2010-41 望月翔太野毛 悟沼津高専

講演時間
一般講演発表 20 分 + 質疑応答 5 分
招待講演発表 40 分 + 質疑応答 10 分

問合先と今後の予定
CPM 電子部品・材料研究会(CPM)   [今後の予定はこちら]
問合先 CPM幹事補佐 阿部克也(信州大学)
E-: abenshu-u 


Last modified: 2010-06-24 09:15:46


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