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電子部品・材料研究会(CPM) [schedule] [select]
専門委員長 野毛 悟 (沼津高専)
副委員長 廣瀬 文彦 (山形大)
幹事 小舘 淳一 (NTT), 岩田 展幸 (日大)
幹事補佐 坂本 尊 (NTT), 中村 雄一 (豊橋技科大)

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日時 2016年11月18日(金) 13:30 - 17:00
2016年11月19日(土) 10:00 - 12:35
議題 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス,一般 
会場名 金沢工大 扇が丘キャンパス 12号館4階 イノベーションホール 
交通案内 http://www.kanazawa-it.ac.jp/about_kit/ogigaoka.html
会場世話人
連絡先
池永 訓昭(金沢工業大学 工学部)
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

11月18日(金) 午後  金沢工大 扇が丘キャンパス
座長: 野毛 悟(沼津高専)、岩田展幸(日大)、○池永訓昭(金沢工大)
13:30 - 17:00
(1) 13:30-13:50 溶液成長法による硫化スズ膜形成における下地基板の検討 CPM2016-61 野毛 悟沼津高専
(2) 13:50-14:10 MicroWaveを用いた溶液成長法によるSnS薄膜の作製 CPM2016-62 早川 諒高野 泰石田明広静岡大
(3) 14:10-14:30 溶液成長法を用いたSnSによるSnS/ZnO構造太陽電池の作製 CPM2016-63 神田祐作高野 泰石田明広静岡大
  14:30-14:45 休憩 ( 15分 )
(4) 14:45-15:05 イオン照射を用いたTiNi合金薄膜の低温合成 CPM2016-64 池永訓昭作道訓之金沢工大
(5) 15:05-15:25 Si添加したDLC膜の耐熱性評価 中澤 諒池永訓昭金沢工大
  15:25-15:40 休憩 ( 15分 )
(6) 15:40-16:00 酸化亜鉛/磁性ガーネット積層膜における磁気円二色性 CPM2016-65 菊地颯希水戸慎一郎塩津勇作東京高専)・笹野順司豊橋技科大
(7) 16:00-16:20 SrTiO3基板上に成膜したBiFeO3、BiFe1-xMnxO3薄膜の結晶構造解析及び電気的磁気的特性 CPM2016-66 松山裕貴王 春大橋祥平張 琦宋 華平渡部雄太永田知子橋本拓也山本 寛・○岩田展幸日大
(8) 16:20-16:40 Co/Pt/Cr2O3/Ca0.96Ce0.04MnO3//YAlO3積層膜の結晶構造解析及び電気特性 CPM2016-67 橋本浩佑隅田貴士福井慎二郎平戸剛志柳原康宏王 春赤澤孝徳小山智之張 琦Huaping Song永田知子山本 寛・○岩田展幸日大
(9) 16:40-17:00 自由電子レーザー照射によってカイラリティ制御された面内配向単層カーボンナノチューブの電気特性 CPM2016-68 川口大貴保延賢人石川翔梧永田知子山本 寛・○岩田展幸日大
11月19日(土) 午前  金沢工大 扇が丘キャンパス
座長: 高野泰(静岡大)、武山真弓(北見工大)
10:00 - 12:35
(10) 10:00-10:20 TaWN3元合金バリヤ上のCu(111)面高配向成長 CPM2016-69 武山真弓佐藤 勝北見工大
(11) 10:20-10:40 Cuプラグに適用可能なTiHfN合金膜のバリヤ特性 CPM2016-70 佐藤 勝北見工大)・青柳英二東北大)・野矢 厚武山真弓北見工大
(12) 10:40-11:00 希釈水素ガス雰囲気中におけるPd超薄膜を堆積したフタロシアニンマグネシウム薄膜の特性 CPM2016-71 清水英彦新保一成岩野春男川上貴浩福嶋康夫永田向太郎新潟大
  11:00-11:15 休憩 ( 15分 )
(13) 11:15-11:35 Microwaveを用いた溶液成長法によるZnO薄膜堆積 CPM2016-72 吉谷地優聴高野 泰静岡大
(14) 11:35-11:55 触媒反応支援CVD法により成長した非極性ZnO結晶膜の光学特性 CPM2016-73 池田宗謙田島諒一安達雄大玉山泰宏加藤有行安井寛治長岡技科大
(15) 11:55-12:15 3次元磁気光学空間光変調器の多階調表示に関する研究 CPM2016-74 山崎和樹中村和樹高木宏幸豊橋技科大)・後藤太一豊橋技科大/JST)・林 攀梅内田裕久井上光輝豊橋技科大
(16) 12:15-12:35 多層構造素子における縦スピンゼーベック効果の出力特性 CPM2016-75 渡辺鉄也中村雄一内田裕久井上光輝豊橋技科大

講演時間
一般講演発表 15 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
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問合先  


Last modified: 2016-11-08 10:41:29


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