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シリコン材料・デバイス研究会(SDM) [schedule] [select]
専門委員長 平野 博茂 (タワー パートナーズ セミコンダクター)
副委員長 大見 俊一郎 (東工大)
幹事 森 貴洋 (産総研), 小林 伸彰 (日大)
幹事補佐 野田 泰史 (パナソニック), 諏訪 智之 (東北大)

有機エレクトロニクス研究会(OME) [schedule] [select]
専門委員長 真島 豊 (東工大)
副委員長 山田 俊樹 (NICT)
幹事 梶井 博武 (阪大), 田口 大 (東工大)
幹事補佐 嘉治 寿彦 (東京農工大), 清家 善之 (愛知工大)

日時 2021年 4月23日(金) 13:10 - 17:50
2021年 4月24日(土) 10:00 - 11:30
[変更あり]
議題 薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・バイオテクノロジー・材料・評価技術および一般 
会場名 沖縄県青年会館 
住所 〒900-0033 沖縄県那覇市久米2-15-23
交通案内 モノレール 旭橋駅下車 徒歩5分
http://www.okiseikan.or.jp/
会場世話人
連絡先
九州大学 佐道泰造
098-864-1780(会場)
参加費に
ついて
この開催は「技報完全電子化」研究会です.参加費(SDM研究会, OME研究会)についてはこちらをご覧ください.
参加費支払い手続き期限 本研究会はオンライン開催も合わせて実施します.準備の都合上,原則として開催の3日前までに受付を終了しますので,お早めにお手続きください.なお,会議用URLなどは研究会幹事からご案内します.

4月23日(金) 午後 
13:10 - 17:50 [変更あり]
(1) 13:10-13:40 [招待講演]Ⅳ族半導体薄膜の低温結晶化とトンネル注入薄膜トランジスタ 松尾直人部家 彰兵庫県立大
(2) 13:40-14:10 [招待講演]マイクロシェブロンレーザー走査法による単結晶Si帯の結晶方位制御 葉 文昌島根大
[変更あり]
  14:10-14:20 休憩 ( 10分 )
(3) 14:20-14:40 絶縁基板上Si薄膜の結晶化における課題 野口 隆岡田竜弥琉球大
[変更あり]
(4) 14:40-15:10 [招待講演]大気圧マイクロプラズマジェットを用いたアモルファスゲルマニウム薄膜の超急速結晶化と電気特性評価 東 清一郎広島大
(5) 15:10-15:40 [招待講演]多結晶Ge系薄膜のトランジスタ応用 都甲 薫筑波大
  15:40-15:50 休憩 ( 10分 )
(6) 15:50-16:20 [招待講演]酸化物半導体による多結晶シリコン薄膜トランジスタへの挑戦 古田 守高知工科大
[変更あり]
(7) 16:20-16:50 [招待講演]酸化物薄膜トランジスタにおけるホットキャリア効果 浦岡行治高橋崇典藤井茉美ベルムンド パオロ上沼睦典奈良先端大
(8) 16:50-17:20 [招待講演]Ni化合物半導体とのヘテロ接合によるグラフェンTFTの特性向上 市川和典松江高専
(9)
[変更あり]
17:20-17:50
[変更あり]
[招待講演]TFT液晶ディスプレイとガラス基板の特性および品質
[変更あり]
伊藤丈二IDC
[変更あり]
4月24日(土) 午前 
10:00 - 11:30
(10)
[変更あり]
10:00-10:30 電界誘起光第2次高調波発生法によるトライボエレクトロニクスのための摩擦帯電測定系の構築とpolyimideの摩擦帯電と剥離帯電の観察 田口 大間中孝彰岩本光正東工大
(11)
[変更あり]
10:30-11:00 細胞の代謝共生動態のメカニズムと機能 雨宮 隆横浜国大
(12)
[変更あり]
11:00-11:30 固液界面におけるタンパク質分子固定割合のその場観察 松田直樹岡部浩隆産総研

講演時間
一般講演発表 20 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会(SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 SDM幹事:森 貴洋(産業技術総合研究所)
電話 029-849-1149
E-Mail -aist 
OME 有機エレクトロニクス研究会(OME)   [今後の予定はこちら]
問合先 山田 俊樹(NICT)
E-:

田口 大(東工大)
E-: gudaam

梶井 博武(阪大)
E-: ioledeeieng-u

嘉治 寿彦(農工大)
E-: -tcctuat 


Last modified: 2021-03-04 08:27:51


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[研究会発表・参加方法,FAQ] ※ ご一読ください
 
[研究会資料インデックス(vol. no.ごとの表紙と目次)]
 

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