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シリコン材料・デバイス研究会(SDM) [schedule] [select]
専門委員長 大野 裕三 (筑波大)
副委員長 国清 辰也 (ルネサス エレクトロニクス)
幹事 黒田 理人 (東北大)
幹事補佐 山口 直 (ルネサス エレクトロニクス)

日時 2015年 3月 2日(月) 10:00 - 16:00
議題 配線・実装技術と関連材料技術 
会場名 機械振興会館 
交通案内 https://www.ieice.org/jpn/about/syozai.html
他の共催 ◆応用物理学会共催

3月2日(月) 午前 
10:00 - 16:00
  10:00-10:05 開会の挨拶 ( 5分 )
(1) 10:05-10:35 [招待講演]Bio-MEMS towards Single-Molecular Characterization Momoko KumemuraHiroyuki FujitaUniv. of Tokyo
(2) 10:35-11:05 [招待講演]性能スケーラビリティと機能フレキシビリティを実現する三次元FPGAのためのインテグレーション技術 武田健一青木真由日立
(3) 11:05-11:35 [招待講演]チップ間光配線に向けた高密度・アサーマルシリコン光インターポーザ 中村隆宏賣野 豊光電子融合基盤技研)・荒川泰彦東大
(4) 11:35-12:05 [招待講演]エピタキシャル金属/ゲルマニウム接合の形成による界面電気伝導特性の制御 中塚 理鄧 云生鈴木陽洋坂下満男田岡紀之財満鎭明名大
  12:05-13:05 昼食 ( 60分 )
(5) 13:05-13:35 [招待講演]双方向遷移モデルを用いた垂直磁化型STT-MRAMにおける熱安定性の面積依存性評価 角田浩司青木正樹能代英之射場義久吉田親子山崎裕一高橋 厚畑田明良中林正明杉井寿博超低電圧デバイス技研組合
(6) 13:35-14:05 [招待講演]選択成長を用いたCNTビアのインテグレーション 磯林厚伸和田 真伊東 伴斎藤達朗西出大亮石倉太志片桐雅之山崎雄一松本貴士北村政幸渡邉勝仁佐久間尚志・○梶田明広酒井忠司超低電圧デバイス技研組合
  14:05-14:25 休憩 ( 20分 )
(7) 14:25-14:55 [招待講演]インターカレーションによる低抵抗多層グラフェン配線の実現 近藤大雄産総研/富士通研)・中野美尚周 波井 亜希子産総研)・林 賢二郎産総研/富士通研)・高橋 誠産総研)・佐藤信太郎横山直樹産総研/富士通研
(8) 14:55-15:25 [招待講演]めっき銅薄膜配線マイグレーション耐性に及ぼす微細組織の影響 鈴木 研加藤武瑠三浦英生東北大
(9) 15:25-15:55 [招待講演]CVD/ALDを用いたCu(Mn)/Co(W)配線システムの構築と3次元アトムプローブによるサブナノ構造・バリヤ性評価 嶋 紘平東大)・ツ ユアン韓 斌高見澤 悠東北大)・清水秀治東大)・清水康雄東北大)・百瀬 健東大)・井上耕治永井康介東北大)・霜垣幸浩東大
  15:55-16:00 閉会の挨拶 ( 5分 )

講演時間
招待講演発表 25 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
SDM シリコン材料・デバイス研究会(SDM)   [今後の予定はこちら]
問合先 黒田 理人(東北大)
Tel 022-795-4833 Fax 022-795-4834
E-: fffe 


Last modified: 2015-01-21 23:42:50


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