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電子部品・材料研究会(CPM) [schedule] [select]
専門委員長 竹村 泰司 (横浜国大)
副委員長 高野 泰 (静岡大)
幹事 島村 俊重 (NTT), 阿部 克也 (信州大)
幹事補佐 圓佛 晃次 (NTT), 佐藤 知正 (神奈川大)

日時 2011年 8月10日(水) 13:00 - 17:25
2011年 8月11日(木) 09:00 - 12:35
議題 電子部品・材料,一般 
会場名 弘前大学 文京町キャンパス 理工学部 1号館2階 大会議室 
住所 青森県弘前市文京町3番地
交通案内 JR弘前駅から徒歩20分、またはJR弘前駅よりバスにて約10分(「狼森(おいのもり)行」「自衛隊行」「学園町行」「小栗山行」に乗車,「弘前大学前」下車)、または弘南鉄道弘高下駅から徒歩5分
http://www.hirosaki-u.ac.jp/access/hirosakimap/index.html
会場世話人
連絡先
電子情報工学科 中澤日出樹
0172-39-3559
他の共催 ◆弘前大学次世代型IT基盤技術開発センター,弘前大学電子情報工学科 共催
著作権に
ついて
以下の論文すべての著作権は電子情報通信学会に帰属します.
(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)

8月10日(水) 午後 
13:00 - 17:25
(1) 13:00-13:25 レーザーアブレーション法によるAlN成長のSi基板面方位依存性 CPM2011-56 鈴木大樹熊谷知貴中澤日出樹弘前大
(2) 13:25-13:50 In(Ga)As積層量子ドット構造におけるキャリア注入/放出特性のDLTS評価 CPM2011-57 鈴木聡一郎佐藤真哉岩崎拓郎弘前大)・俵 毅彦舘野功太後藤秀樹寒川哲臣NTT)・岡本 浩弘前大
(3) 13:50-14:15 SiC表面の直接窒化と窒化層/SiC界面特性の評価 CPM2011-58 酒井崇史逸見充則村田裕亮鈴木真一郎山上朋彦林部林平・○上村喜一信州大
(4) 14:15-14:40 SiC層中に埋め込まれたGe・SiCドットの発光特性 CPM2011-59 大谷孝史姉崎 豊浅野 翔加藤有行長岡技科大)・成田 克山形大)・中澤日出樹弘前大)・加藤孝弘・○安井寛治長岡技科大
(5) 14:40-15:05 TSFZ法による高温超伝導体Bi-2223単結晶の育成と評価 CPM2011-60 足立伸太郎臼井友洋橋本雄三渡辺孝夫弘前大)・藤井武則東大
  15:05-15:20 休憩 ( 15分 )
(6) 15:20-15:45 組成を変化させたZrBx薄膜の特性評価 CPM2011-61 武山真弓佐藤 勝野矢 厚北見工大
(7) 15:45-16:10 プラズマCVD法によるSiおよびN同時添加DLC膜特性に対する水素の影響 CPM2011-62 奥野さおり三浦創史鎌田亮輔中澤日出樹弘前大
(8) 16:10-16:35 レーザーアブレーション法によるDLC膜特性に及ぼすB、N添加の影響 CPM2011-63 毛内裕介遅澤遼一中澤日出樹弘前大
(9) 16:35-17:00 低温と室温におけるコンダクタンス法の組合せによるGe-MIS構造の界面準位密度評価 CPM2011-64 岩崎拓郎佐藤真哉鈴木聡一郎小野俊郎弘前大)・福田幸夫諏訪東京理科大)・岡本 浩弘前大
(10) 17:00-17:25 ECRプラズマ法によって作製したGe-MIS構造のDLTSとC-t測定による評価 CPM2011-65 佐藤真哉岩崎拓郎鈴木聡一郎小野俊郎弘前大)・福田幸夫諏訪東京理科大)・岡本 浩弘前大
8月11日(木) 午前 
09:00 - 12:35
(11) 09:00-09:25 反応性スパッタ法によるCuAlO2薄膜の作製とアニール効果 CPM2011-66 阿部克也横本拓也前田洋輔宮澤 匠信州大
(12) 09:25-09:50 RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製 CPM2011-67 梅原 猛野毛 悟沼津高専
(13) 09:50-10:15 シリコン酸化膜の不均一な熱分解 CPM2011-68 遠田義晴小川可乃永井孝幸弘前大
(14) 10:15-10:40 赤外吸収分光法を用いたHfO2原子層堆積法の反応素過程評価 CPM2011-69 廣瀬文彦木下友太鈴木貴彦山形大
  10:40-10:55 休憩 ( 15分 )
(15) 10:55-11:20 OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価 CPM2011-70 出貝 求黒沢正章籾山克章鈴木貴彦廣瀬文彦山形大
(16) 11:20-11:45 下地基板の影響を軽減した結晶薄膜の形成法 CPM2011-71 野毛 悟梅原 猛沼津高専)・宇野武彦神奈川工科大
(17) 11:45-12:10 ユビキタスプロセッサチップの開発 CPM2011-72 内海晴信石原拓美三村直道高木竜哉成田一貴深瀬政秋佐藤友暁弘前大
(18) 12:10-12:35 バルクヘテロ型有機薄膜太陽電池のアニール効果の解析 CPM2011-73 栗原 啓吉田一樹鈴木貴彦廣瀬文彦山形大

講演時間
一般講演発表 20 分 + 質疑応答 5 分

問合先と今後の予定
CPM 電子部品・材料研究会(CPM)   [今後の予定はこちら]
問合先 幹事 阿部克也
TEL:026-269-5191
e-:abenshu-u 


Last modified: 2011-06-23 17:28:30


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