お知らせ 研究会の開催と会場に参加される皆様へのお願い(2022年6月開催~)
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催プログラム
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップ  戻る   前のCPM研究会 / 次のCPM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 


電子部品・材料研究会(CPM) [schedule] [select]
専門委員長 石井 清
副委員長 上村 喜一
幹事 北本 仁孝, 松浦 徹
幹事補佐 清水 英彦, 豊田 誠治

日時 2005年11月11日(金) 13:30 - 17:30
2005年11月12日(土) 09:00 - 13:25
議題 薄膜プロセス・材料、一般 
会場名 福井大学 文京キャンパス 
住所 〒910-8507 福井市文京3-9-1
交通案内 私鉄えちぜん鉄道福大前西福井駅から徒歩10分
http://www.fukui-u.ac.jp/NewHP1002/map/campus.htm
会場世話人
連絡先
福井大学工学部 山本あきお
0776-27-8566

11月11日(金)  
13:30 - 17:30
(1) 13:30-13:55 NiCr薄膜抵抗体における熱歪と抵抗温度係数(TCR)特性 岩坪 聡清水孝晃富山県工技センター)・津幡 健桑原大輔北陸電気工業)・谷野克巳富山県工技センター
(2) 13:55-14:20 同時スパッタプリカーサを用いたCZTS薄膜太陽電池 木村亮一神保和夫上村 剛山田 覚ウィン シュウ マウ片桐裕則長岡高専
(3) 14:20-14:45 溶融法によるCu2ZnSnS4結晶の作製 島田聡郎大石耕一郎神保和夫片桐裕則荒木秀明吉田 理山崎 誠長岡高専)・小林敏志坪井 望新潟大
(4) 14:45-15:10 Si(001)表面とモノメチルゲルマンの反応過程における表面構造変化 ~ Ge埋め込み3C-SiC構造形成へ向けて ~ 原島正幸金丸哲史加藤有行荻原智明安井寛治赤羽正志高田雅介長岡技科大
(5) 15:10-15:35 プラズマ窒化法による6H-SiC窒化絶縁膜の作製と評価 山口哲生劉 穎慎石田芳樹山上朋彦林部林平阿部克也上村喜一信州大
  15:35-15:50 休憩 ( 15分 )
(6) 15:50-16:15 Preparation and Magnetic Properties of Hexagonal Ferrite Dot Arry Akimitsu MorisakoXiaoxi LiuShinshu Univ.
(7) 16:15-16:40 自己平坦化法によるBi-2212スタックの作製 鈴木光夫ファチャムルン ラッタナット余川奈保美岡上久美濱崎勝義長岡技科大
(8) 16:40-17:05 塩酸で改質させた高温超伝導Bi-2212単結晶表面層の物性評価 余川奈保美吉田 隆岡上久美末松久幸濱崎勝義長岡技科大)・寺島岳史阿部浩也阪大
(9) 17:05-17:30 スタック型Bi-2212ジョセフソンデバイスの温度特性 ファチャムルン ラッタナット鈴木光夫余川奈保美岡上久美濱崎勝義長岡技科大
11月12日(土)  
09:00 - 13:25
(1) 09:00-09:25 MOVPE法によるサファイア基板上InN成長におけるGaNバッファ層のKOHエッチング効果 永井泰彦三輪浩士橋本明弘山本あきお福井大
(2) 09:25-09:50 Growth and Characterization of MOVPE InN Films on Bulk GaN Substrate Wen-Jun WangHiroshi MiwaYasuhiko NagaiAkihiro HashimotoAkio YamamotoUniv. of Fukui
(3) 09:50-10:15 ArFレーザ援用MOCVD法で作製したInN1-xOx薄膜によるH2Sの光触媒分解効果 宮西正芳福井大)・高橋尚也福井高専)・小林隆弘福井大)・高山勝己福井高専)・南保幸男日華化学)・橋本明弘山本あきお福井大
(4) 10:15-10:40 3c-SiC/Si(111)構造基板上への高品質InN膜のMOVPE成長 趙 明秀小林隆弘澤崎尚樹橋本明弘山本あきお福井大)・伊藤慶文若狭湾エネルギー研究センター
(5) 10:40-11:05 3c-SiC/Si基板上へのGaN膜のMOVPE成長 ~ 基板表面の窒化処理効果 ~ 澤崎尚樹小林隆弘趙 明秀橋本明弘山本あきお福井大)・伊藤慶文若狭湾エネルギー研究センター
  11:05-11:20 休憩 ( 15分 )
(6) 11:20-11:45 ケミカルバス法によるZnS薄膜の作製 ~ ヒドラジン一水和物添加の効果 ~ 蛭田賢和小林敏志坪井 望金子双男新潟大
(7) 11:45-12:10 Investigations of the structural deformations in Si/SiGe films by AFM and HRXRD Shuqi ZhengM. KawashimaMasayuki MoriToyokazu TamboC. TatsuyamaToyama Univ.
(8) 12:10-12:35 パルススパッタ法を用いた薄膜作製プロセスの検討 星 陽一國芳祐二東京工芸大)・神谷 攻キヤノン)・清水英彦新潟大
(9) 12:35-13:00 低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価 岡田好正清水英彦森 貴志岩野春男川上貴浩新潟大)・星 陽一東京工芸大)・丸山武男新潟大
(10) 13:00-13:25 有機EL素子用ITO薄膜の作製と検討 槻尾浩一竹内正樹森下和哉清水英彦丸山武男川上貴浩新潟大)・星 陽一東京工芸大

問合先と今後の予定
CPM 電子部品・材料研究会(CPM)   [今後の予定はこちら]
問合先 清水 英彦(新潟大学)
TEL 025-262-6811 FAX 025-262-6811
E-: engi-u

山本 あきお(福井大学)
TEL 0776-27-8566 FAX 0776-27-8749
E-: eei-u

安井 寛治(長岡技術科学大学)
TEL 0258-47-9502 FAX 0258-47-9500
E-: kivosut 


Last modified: 2005-09-23 16:42:06


ご注意: 迷惑メール対策のためメールアドレスの一部の文字を置換しております.ご了承ください.

[この開催に関する講演論文リストをダウンロードする] ※ こちらのページの最下にあるダウンロードボタンを押してください
 

[研究会発表・参加方法,FAQ] ※ ご一読ください
 
[研究会資料インデックス(vol. no.ごとの表紙と目次)]
 

[CPM研究会のスケジュールに戻る]   /  
 
 トップ  戻る   前のCPM研究会 / 次のCPM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会