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電子デバイス研究会 (ED)  (検索条件: 2016年度)

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研究会 発表日時 開催地 タイトル・著者 抄録 資料番号
ED 2016-04-21
14:30
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 微細加工脂質二分子膜チップへのイオンチャネルの包埋
平野愛弓吉田美優荒木 駿但木大介山本英明庭野道夫東北大ED2016-1
 [more] ED2016-1
pp.1-3
ED 2016-04-21
14:55
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 安定な人工脂質二分子膜形成のための微細孔を有するシリコンチップの作製
但木大介平野愛弓東北大)・石橋健一半一)・荒木 駿吉田美優荒田航平大堀 健山本英明庭野道夫東北大ED2016-2
我々の体を構成する個々の細胞を覆う脂質二分子膜(BLM)は、わずか数ナノメートルの厚さでありながら、高い絶縁性を有すると... [more] ED2016-2
pp.5-7
ED 2016-04-21
15:20
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 固体基板への固定による生体物質の評価
荻野俊郎伊藤和希横田圭司小川裕太横浜国大)・松村幸子南澤宝美后菅 加奈子芝 清隆がん研)・木村康男東京工科大)・平野愛弓東北大ED2016-3
 [more] ED2016-3
pp.9-12
ED 2016-04-21
16:00
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 水溶性シランカップリング剤を用いた表面化学修飾と繋ぎ留め型脂質二重膜形成への応用
新山侑哉三澤宣雄・○手老龍吾豊橋技科大ED2016-4
 [more] ED2016-4
pp.13-16
ED 2016-04-21
16:25
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 ナノ微粒子用原子層堆積装置の試作と評価
菊地 航鹿又健作三浦正範有馬 ボシル アハンマド久保田 繁廣瀬文彦山形大ED2016-5
粒子表面の改質として原子層堆積法(Atomic layer deposition : ALD)が注目されている。我々は、... [more] ED2016-5
pp.17-20
ED 2016-04-21
16:45
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 それぞれ粒径の異なるナノ粒子を散布して作製した2種類の単一電子素子
守屋雅隆Tran Thi Thu Huong松本和彦島田 宏電通大)・木村康男東京工科大)・平野愛弓東北大)・水柿義直電通大ED2016-6
ナノ粒子を三角格子上に分散させた場合の電極間の接続確率を、パーコレーション理論に基づき計算した.ソース-ドレイン間が接続... [more] ED2016-6
pp.21-26
ED 2016-04-22
09:30
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 [奨励講演]Controlled growth of perovskite crystals for photovoltaic applications
Teng MaDaisuke TadakiAyumi Hirano-IwataMichio NiwanoTohoku Univ.ED2016-7
 [more] ED2016-7
pp.27-29
ED 2016-04-22
09:55
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 水素結合に基づく超分子ナノロッドを用いた有機薄膜太陽電池
木崎陽弘山形大)・大内隼人林 旭矢貝史樹千葉大)・中山健一阪大/山形大ED2016-8
 [more] ED2016-8
pp.31-33
ED 2016-04-22
10:15
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 モスアイと多層干渉膜を用いた複合反射防止構造による有機太陽電池の性能向上
原田佳宜久保田 繁山形大)・須藤健成早大)・鹿又健作有馬ボシールアハンマド山形大)・水野 潤早大)・廣瀬文彦山形大ED2016-9
 [more] ED2016-9
pp.35-38
ED 2016-04-22
10:50
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 p/n積層構造を持つ縦型有機トランジスタの特性
諏訪吉実小賀坂直樹上妻嵩季山形大)・中山健一阪大/山形大ED2016-10
 [more] ED2016-10
pp.39-40
ED 2016-04-22
11:10
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 低分子半導体/絶縁性高分子混合溶液を用いて作製した高性能印刷型有機薄膜トランジスタと集積回路
塩飽 黎竹田泰典山形大)・福田 貴東ソー)・福田憲二郎理研)・熊木大介時任静士山形大ED2016-11
 [more] ED2016-11
pp.41-46
ED 2016-04-22
11:30
山形 山形大学工学部 有機EL研究センター 4F大会議室 プラズマ励起法を用いた室温原子層堆積法によるZrO2の試作と評価
野老健太郎鹿又健作三浦正範有馬 ボシール アハンマド久保田 繁廣瀬文彦山形大ED2016-12
LSI分野において酸化ジルコニウムは高誘電率ゲート絶縁膜としての利用が期待されている。一般に酸化ジルコニウムは熱原子層堆... [more] ED2016-12
pp.47-50
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