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電子部品・材料研究会 (CPM) (検索条件: 2011年度)
「from:2011-08-10 to:2011-08-10」による検索結果
| 研究会 | 発表日時 | 開催地 | タイトル・著者 | 抄録 | 資料番号 | |
| CPM | 2011-08-10 13:00 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | レーザーアブレーション法によるAlN成長のSi基板面方位依存性 ○鈴木大樹・熊谷知貴・中澤日出樹（弘前大）  CPM2011-56 |
KrFエキシマーレーザーおよび窒化アルミニウム（AlN）ターゲットを用いたレーザーアブレーション法によりSi(100)基... [more] | CPM2011-56 pp.1-6 |
| CPM | 2011-08-10 13:25 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | In(Ga)As積層量子ドット構造におけるキャリア注入／放出特性のDLTS評価 ○鈴木聡一郎・佐藤真哉・岩崎拓郎（弘前大）・俵 毅彦・舘野功太・後藤秀樹・寒川哲臣（NTT）・岡本 浩（弘前大） CPM2011-57 |
Biをサーファクタントとした独自の成長方法によって成長したGaAsP歪補償層を有する10層量子ドットを対象とし、DLTS... [more] | CPM2011-57 pp.7-10 |
| CPM | 2011-08-10 13:50 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | SiC表面の直接窒化と窒化層/SiC界面特性の評価 酒井崇史・逸見充則・村田裕亮・鈴木真一郎・山上朋彦・林部林平・○上村喜一（信州大） CPM2011-58 |
SiC基板表面に直接窒化法により窒化層を製膜し，これを堆積法による酸化膜との界面制御層として使用することにより良好な界面... [more] | CPM2011-58 pp.11-14 |
| CPM | 2011-08-10 14:15 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | SiC層中に埋め込まれたGe・SiCドットの発光特性 大谷孝史・姉崎 豊・浅野 翔・加藤有行（長岡技科大）・成田 克（山形大）・中澤日出樹（弘前大）・加藤孝弘・○安井寛治（長岡技科大） CPM2011-59 |
Si基板上へガスソースMBE法によりモノメチルゲルマン(MMGe)を用いてSi c(4×4)構造形成後， Ge, SiC... [more] | CPM2011-59 pp.15-20 |
| CPM | 2011-08-10 14:40 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | TSFZ法による高温超伝導体Bi-2223単結晶の育成と評価 ○足立伸太郎・臼井友洋・橋本雄三・渡辺孝夫（弘前大）・藤井武則（東大） CPM2011-60 |
高温超伝導体Bi_{2}Sr_{2}Ca_{2}Cu_{3}O_{10+δ}(Bi-2223)は、結晶育成中に不純物とし... [more] | CPM2011-60 pp.21-25 |
| CPM | 2011-08-10 15:20 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | 組成を変化させたZrBx薄膜の特性評価 ○武山真弓・佐藤 勝・野矢 厚（北見工大） CPM2011-61 |
我々は、先に検討したZrB2薄膜に固有の電気的・化学的特性が非化学量論組成の薄膜においても保持されるのかどうかを検討する... [more] | CPM2011-61 pp.27-30 |
| CPM | 2011-08-10 15:45 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | プラズマCVD法によるSiおよびN同時添加DLC膜特性に対する水素の影響 ○奥野さおり・三浦創史・鎌田亮輔・中澤日出樹（弘前大） CPM2011-62 |
ダイヤモンドライクカーボン（DLC）の膜特性の改善のために、SiおよびN源にヘキサメチルジシラザン（HMDS）を用いたプ... [more] | CPM2011-62 pp.31-36 |
| CPM | 2011-08-10 16:10 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | レーザーアブレーション法によるDLC膜特性に及ぼすB、N添加の影響 ○毛内裕介・遅澤遼一・中澤日出樹（弘前大） CPM2011-63 |
[more] | CPM2011-63 pp.37-42 |
| CPM | 2011-08-10 16:35 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | 低温と室温におけるコンダクタンス法の組合せによるGe-MIS構造の界面準位密度評価 ○岩崎拓郎・佐藤真哉・鈴木聡一郎・小野俊郎（弘前大）・福田幸夫（諏訪東京理科大）・岡本 浩（弘前大） CPM2011-64 |
次世代のMOSデバイスに向けてGe-MIS構造が注目されているが、界面の品質向上が課題とされている。我々はこれまでECR... [more] | CPM2011-64 pp.43-46 |
| CPM | 2011-08-10 17:00 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | ECRプラズマ法によって作製したGe-MIS構造のDLTSとC-t測定による評価 ○佐藤真哉・岩崎拓郎・鈴木聡一郎・小野俊郎（弘前大）・福田幸夫（諏訪東京理科大）・岡本 浩（弘前大） CPM2011-65 |
近年Geを用いたMIS構造が次世代のデバイス候補として注目を集めているが、界面の品質向上が課題となっている。これまでに我... [more] | CPM2011-65 pp.47-50 |
| CPM | 2011-08-11 09:00 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | 反応性スパッタ法によるCuAlO2薄膜の作製とアニール効果 ○阿部克也・横本拓也・前田洋輔・宮澤 匠（信州大） CPM2011-66 |
[more] | CPM2011-66 pp.51-54 |
| CPM | 2011-08-11 09:25 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | RFマグネトロンスパッタ法によるAZO透明導電膜の作製 ○梅原 猛・野毛 悟（沼津高専） CPM2011-67 |
RFマグネトロンスパッタ法によるAZO薄膜の成膜条件に関する検討結果について報告する．放電ガスAr中に反応性ガス$O_2... [more] | CPM2011-67 pp.55-60 |
| CPM | 2011-08-11 09:50 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | シリコン酸化膜の不均一な熱分解 ○遠田義晴・小川可乃・永井孝幸（弘前大） CPM2011-68 |
Si(100)基板上に形成された20nm膜厚のシリコン熱酸化膜を，真空中1100℃で加熱し，これにより生ずる酸化膜の熱分... [more] | CPM2011-68 pp.61-64 |
| CPM | 2011-08-11 10:15 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | 赤外吸収分光法を用いたHfO2原子層堆積法の反応素過程評価 ○廣瀬文彦・木下友太・鈴木貴彦（山形大） CPM2011-69 |
[more] | CPM2011-69 pp.65-68 |
| CPM | 2011-08-11 10:55 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価 ○出貝 求・黒沢正章・籾山克章・鈴木貴彦・廣瀬文彦（山形大） CPM2011-70 |
[more] | CPM2011-70 pp.69-71 |
| CPM | 2011-08-11 11:20 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | 下地基板の影響を軽減した結晶薄膜の形成法 ○野毛 悟・梅原 猛（沼津高専）・宇野武彦（神奈川工科大） CPM2011-71 |
現在対象としている磁気光学特性に優れたセリウム置換YIG {(CexY3-x)Fe5O12, Ce:YIG}のみならず，... [more] | CPM2011-71 pp.73-78 |
| CPM | 2011-08-11 11:45 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | ユビキタスプロセッサチップの開発 ○内海晴信・石原拓美・三村直道・高木竜哉・成田一貴・深瀬政秋・佐藤友暁（弘前大） CPM2011-72 |
HCgorillaはダブルコアで、Java対応型のメディア処理用パイプラインと、マルチメディアデータに対する過渡的なセキ... [more] | CPM2011-72 pp.79-84 |
| CPM | 2011-08-11 12:10 |
青森 | 弘前大学 文京町キャンパス | バルクヘテロ型有機薄膜太陽電池のアニール効果の解析 ○栗原 啓・吉田一樹・鈴木貴彦・廣瀬文彦（山形大） CPM2011-73 |
有機薄膜太陽電池の高効率化において、有機層のアニール条件の最適化は重要である。有機層をアニールすることで、有機半導体材料... [more] | CPM2011-73 pp.85-88 |
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