お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
研究会 開催プログラム
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップ  戻る   前のCPM研究会 / 次のCPM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 

★電子部品・材料研究会(CPM)
専門委員長 廣瀬 文彦 (山形大)  副委員長 武山 真弓 (北見工大)
幹事 岩田 展幸 (日大), 中村 雄一 (豊橋技科大)
幹事補佐 赤毛 勇一 (NTTデバイスイノベーションセンタ)

★電子デバイス研究会(ED)
専門委員長 津田 邦男 (東芝)  副委員長 須原 理彦 (首都大)
幹事 新井 学 (新日本無線), 東脇 正高 (NICT)
幹事補佐 大石 敏之 (佐賀大), 岩田 達哉 (豊橋技科大)

★シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
専門委員長 国清 辰也 (ルネサス エレクトロニクス)  副委員長 品田 高宏 (東北大)
幹事 黒田 理人 (東北大), 山口 直 (ルネサス エレクトロニクス)
幹事補佐 池田 浩也 (静岡大), 諸岡 哲 (東芝メモリ)

日時 2018年 5月24日(木) 13:30~16:40

会場 豊橋技科大ベンチャービジネスラボラトリー(〒441-8580 愛知県豊橋市天伯町雲雀ヶ丘1-1.豊橋駅東口バス乗り場 2番豊橋技科大線(技科大前行き、福祉村行き、りすぱ豊橋行き) 技科大前下車(所要時間約25分).http://www.vbl.tut.ac.jp/.豊橋技術科学大学 電気・電子情報工学系 助教 岩田 達哉.0532-44-6718)

議題 結晶成長、評価及びデバイス(化合物、Si、SiGe、電子・光材料)およびその他

5月24日(木) 午後 (13:30~16:40)

(1) 13:30 - 13:55
フレキシブル有機系熱電変換材料の作製と評価
○岸 直希・日比 聡・吉田祐太・小野恵輔・沢田優真・國枝泰希・近藤雄哉(名工大)

(2) 13:55 - 14:20
Fabrication of Cu-O Thin Films by Galvanostatic Electrochemical Deposition from Weakly Acidic Solutions
○mansoureh keikhaei・Masaya Ichimura(NIT)

(3) 14:20 - 14:45
減圧ドライ転写法によるサスペンデッドグラフェンを用いたMEMSバイオセンサ
○喜種 慎・石田隼斗・澤田和明(豊橋技科大)・高橋一浩(豊橋技科大/JSTさきがけ)

(4) 14:45 - 15:10
Growth of high quality InSb channel layer with InxGa1-xSb heteroepitaxial films on Si(111)
○A. A. Mohammad Monzur-Ul-Akhir・Masayuki Mori・Koichi Maezawa(University of Toyama)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(5) 15:25 - 15:50
GaN基板上GaNエピ層のFT-IRによる評価
○堀切文正・成田好伸・吉田丈洋(サイオクス)

(6) 15:50 - 16:15
FZ-Siウエハにおける水素ドナーのアニール温度依存性
○清井 明・中村勝光(三菱電機)

(7) 16:15 - 16:40
トンネル状空隙の導入によるSi上Ge層の貫通転位密度低減
○八子基樹(東大)・石川靖彦(豊橋技科大)・和田一実(マサチューセッツ工科大)

一般講演:発表 20 分 + 質疑応答 5 分


☆CPM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

8月9日(木)~10日(金) 弘前大学文京町地区キャンパス [6月11日(月)] テーマ:電子部品・材料、一般
8月23日(木)~24日(金) 小樽経済センター [6月15日(金)] テーマ:光部品・電子デバイス実装技術・信頼性,及び一般

☆ED研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

8月8日(水) (開催日変更) 機械振興会館 [6月15日(金)] テーマ:センサ、MEMS、一般 (※この研究会は台風接近が予想されるため中止となりました。)

【問合先】
新井 学(新日本無線(株))
TEL:049-278-1441 Fax :049-278-1269
E-mail: injr
東脇 正高(情報通信研究機構)
TEL : 042-327-6092 Fax : 042-327-5527
E-mail : m

☆SDM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

6月25日(月) 名古屋大学 VBL3F [4月16日(月)] テーマ:MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会、シリコンテクノロジー分科会との合同開催)
8月7日(火)~9日(木) 北海道大学大学院情報科学研究科 M棟M151 [6月19日(火)] テーマ:アナログ、アナデジ混載、RF及びセンサインタフェース回路、低電圧・低消費電力技術、新デバイス・回路とその応用

【問合先】
黒田 理人(東北大)
Tel 022-795-4833 Fax 022-795-4834
E-mail: e3


Last modified: 2018-03-17 15:41:11


ご注意: 迷惑メール対策のためメールアドレスの一部の文字を置換しております.ご了承ください.

[この開催に関する講演論文リストをダウンロードする] ※ こちらのページの最下にあるダウンロードボタンを押してください
 
[研究会資料インデックス(vol. no.ごとの表紙と目次)]
 

[研究会発表・参加方法,FAQ] ※ ご一読ください
 

[ED研究会のスケジュールに戻る]   /   [CPM研究会のスケジュールに戻る]   /   [SDM研究会のスケジュールに戻る]   /  
 
 トップ  戻る   前のCPM研究会 / 次のCPM研究会 [HTML] / [HTML(simple)] / [TEXT]  [Japanese] / [English] 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会