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★シリコン材料・デバイス研究会(SDM)
専門委員長 品田 高宏 (東北大)  副委員長 平野 博茂 (パナソニック・タワージャズ)
幹事 池田 浩也 (静岡大), 諸岡 哲 (東芝メモリー)
幹事補佐 森 貴洋 (産総研), 小林 伸彰 (日大)

日時 2018年10月17日(水) 14:00~17:25
   2018年10月18日(木) 09:30~15:20

会場 東北大学未来科学技術共同研究センター・未来情報産業研究館5F(〒980-8579 仙台市青葉区荒巻字青葉6-6-10.地下鉄東西線「青葉山駅」から徒歩2分.http://www.fff.niche.tohoku.ac.jp/)

議題 プロセス科学と新プロセス技術

10月17日(水) 午後 (14:00~17:25)

(1) 14:00 - 14:50
[招待講演]次世代車載マイコン対応Fin-FET MONOS
○津田是文・斉藤朋也・長瀬寛和・川嶋祥之・吉冨敦司・岡西 忍・林 倫弘・丸山卓也・井上真雄・村中誠志・加藤茂樹・萩原琢也・齊藤博和・山口 直・門島 勝・丸山隆弘・三原竜善・柳田博史・園田賢一郎・山口泰男・山下朋弘(ルネサス エレクトロニクス)

(2) 14:50 - 15:20
スパッタリングプロセスを用いた新しい圧電材料とセンサへの応用
○今泉文伸(小山高専)・柳田幸祐

(3) 15:20 - 15:50
Low-Temperature Formation of Ohmic Contact for Si TFT Fabrication by Excimer Laser Doping with Phosphoric Acid Coating
○Kaname Imokawa(Kyushu Univ)・Nozomu Tanaka(Kyushu Univ.)・Akira Suwa(Kyushu Univ)・Daisuke Nakamura・Taizoh Sadoh(Kyushu Univ.)・Tetsuya Goto(New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku Univ.)・Hiroshi Ikenoue(Kyushu Univ)

−−− 休憩 ( 15分 ) −−−

(4) 16:05 - 16:35
Si(100)表面原子レベル平坦化プロセスを用いたHf系MONOS型不揮発性メモリ作製プロセスに関する検討
○工藤聡也・堀内勇介・大見俊一郎(東工大)

(5) 16:35 - 17:25
[招待講演]低抵抗アモルファス相と高抵抗結晶相を有するCr2Ge2Te6を用いた相変化メモリ
○畑山祥吾・須藤祐司・安藤大輔・小池淳一(東北大)

10月18日(木) 午前 (09:30~15:20)

(6) 09:30 - 10:20
[招待講演]ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング熊本テクノロジーセンターでの熊本震災からの教訓
○鈴木裕巳(熊本大)・上田康弘(ソニー)

(7) 10:20 - 10:50
Thin film formation of ferroelectric undoped HfO2 on Si(100) by RF magnetron sputtering
○Min Gee Kim・Rengie Mark D. Mailig・Shun-ichiro Ohmi(Tokyo Tech.)

(8) 10:50 - 11:20
Schottky barrier height reduction of Pd2Si/Si(100) diodes by dopant segregation process
○Rengie Mark D. Mailig・Min Gee Kim・Shun-ichiro Ohmi(Tokyo Tech.)

−−− 昼食 ( 100分 ) −−−

(9) 13:00 - 13:30
窒素添加LaB6界面制御層によるペンタセン/SiO2界面特性向上に関する検討
○前田康貴・朴 鏡恩・小松勇貴・大見俊一郎(東工大)

(10) 13:30 - 14:00
ラマン分光法による熱電デバイス応用へ向けたSiナノワイヤのプロセス評価
○横川 凌(明大)・富田基裕・渡邉孝信(早大)・小椋厚志(明大)

(11) 14:00 - 14:30
ソースとドレインが非対称のMOSFETを用いた電気的特性ばらつきの統計的解析
○市野真也・寺本章伸・黒田理人・間脇武蔵・諏訪智之・須川成利(東北大)

(12) 14:30 - 15:20
[招待講演]熊本地域でのシリコンアイランドの推進と地震からの復興 ~ 日本の半導体産業をどう発展させるか ~
○久保田 弘(熊本大)

一般講演:発表 25 分 + 質疑応答 5 分

◆応用物理学会共催


☆SDM研究会今後の予定 [ ]内発表申込締切日

11月8日(木)~9日(金) 機械振興会館 [9月3日(月)] テーマ:プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般
12月25日(火) 龍谷大学 響都ホール 校友会館 [未定] テーマ:シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術
2019年1月29日(火) 機械振興会館 [未定] テーマ:先端CMOSデバイス・ プロセス技術(IEDM特集)

【問合先】
黒田 理人(東北大)
Tel 022-795-4833 Fax 022-795-4834
E-mail: e3


Last modified: 2018-08-19 13:26:57


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[研究会発表・参加方法,FAQ] ※ ご一読ください
 
[研究会資料インデックス(vol. no.ごとの表紙と目次)]
 

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