4月27日(金) 午後
13:00 - 17:30 |
| (1) |
13:00-13:30 |
［招待講演］有機薄膜太陽電池の研究開発 |
○當摩哲也（金沢大/JST） |
| (2) |
13:30-14:00 |
［招待講演］有機―無機ハイブリッド光学材料創製とその光デバイス応用 |
○杉原興浩（東北大） |
| (3) |
14:00-14:20 |
高移動度を有する正孔輸送性アモルファス分子材料を用いる有機薄膜太陽電池の作製と評価 |
○景山 弘（琉球大）・大森 裕（阪大）・城田靖彦（福井工大） |
| (4) |
14:20-14:40 |
固液界面におけるチトクロームcの吸着過程と機能のその場観察 ～ スラブ光導波路分光法を用いた紫外可視吸収スペクトルのその場測定 ～ |
○松田直樹・岡部浩隆（産総研） |
| (5) |
14:40-15:00 |
バイオナノプロセスを用いたフィラメント制御および抵抗変化メモリにおける効果 ～ 薄膜中の局所欠陥制御 ～ |
○上沼睦典・番 貴彦・鄭 彬・山下一郎・浦岡行治（奈良先端大） |
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15:00-15:10 |
休憩 （ 10分 ） |
| (6) |
15:10-15:40 |
［招待講演］連続発振レーザ横方向結晶化法によるガラス基板上SiとSiGe薄膜の成長 |
○北原邦紀（島根大）・原 明人（東北学院大） |
| (7) |
15:40-16:10 |
［招待講演］ダブルラインビーム連続発振レーザラテラル結晶化によるシリコン薄膜の3軸結晶制御とTFT |
○黒木伸一郎（東北大） |
| (8) |
16:10-16:30 |
青色半導体レーザアニールによる薄膜シリコンの結晶状態の制御 |
○白井克弥・ムジラネザ ジャン ドュ デュ・鈴木俊治・岡田竜弥・野口 隆（琉球大）・松島英樹・橋本隆夫・荻野義明・佐保田英司（日立コンピュータ機器） |
| (9) |
16:30-16:50 |
青色半導体レーザアニールによるポリイミド基板上薄膜シリコンの結晶化 |
○岡田竜弥・ムジラネザ ジャン ドュ デュ・白井克弥・鈴木俊治・野口 隆（琉球大）・松島英紀・橋本隆夫・荻野義明・佐保田英司（日立コンピュータ機器） |
| (10) |
16:50-17:10 |
埋め込みゲート構造を有するガラス上の自己整合メタルダブルゲート低温poly-Si TFT |
○尾形浩之・一條賢治・近藤健二・岡部泰典・鹿 裕将・加茂慎哉・原 明人（東北学院大） |
| (11) |
17:10-17:30 |
低温成膜nc-Si膜を用いたbottom gate TFT |
○宿久明日香・高橋英治・安東靖典（日新電機） |
4月28日(土) 午前
09:00 - 12:10 |
| (12) |
09:00-09:30 |
［招待講演］軟X線照射のみによる半導体非晶質膜の低温結晶化 |
○松尾直人・部家 彰・望月孝晏・宮本修治・神田一浩（兵庫県立大） |
| (13) |
09:30-10:00 |
［招待講演］Ge膜のエキシマレーザ誘起スーパーラテラル成長 |
○葉 文昌（島根大） |
| (14) |
10:00-10:20 |
絶縁膜上におけるGe(Si)薄膜の溶融成長 ～ Si偏析効果による大粒径化 ～ |
○加藤立奨・黒澤昌志・横山裕之・佐道泰造・宮尾正信（九大） |
| (15) |
10:20-10:40 |
マイクロ熱プラズマジェット照射によるポーラスシリコン層上Si膜のエピタキシャル成長 |
○林 将平・松原良平・藤田悠二・池田弥央・東 清一郎（広島大） |
| |
10:40-10:50 |
休憩 （ 10分 ） |
| (16) |
10:50-11:10 |
マイクロ熱プラズマジェット結晶化におけるアモルファスシリコン細線及びスリットマスクを用いた結晶成長制御 |
○藤田悠二・林 将平・東 清一郎（広島大） |
| (17) |
11:10-11:30 |
界面酸化膜挿入型Au誘起層交換成長法による大粒径Ge(111)/絶縁膜の低温成長 ～ 界面酸化膜厚依存性 ～ |
○鈴木恒晴・パク ジョンヒョク・黒澤昌志・宮尾正信・佐道泰造（九大） |
| (18) |
11:30-11:50 |
RFスパッタ法により製膜したSiO2及びSiN薄膜の電気特性評価 |
○屋宜佳佑・岡田竜弥・野口 隆（琉球大） |
| (19) |
11:50-12:10 |
高性能ポリシリコンTFTに向けたスパッタ成膜したリンドープシリコン膜の結晶化 |
○西ノ原拓磨・ジャン デデュウ ムジラネザ・白井克弥・鈴木俊治・岡田竜弥・野口 隆（琉球大）・大鉢 忠（同志社大）・松島英紀・橋本隆夫・荻野義明・佐保田英司（日立コンピュータ機器） |
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