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講演抄録/キーワード
講演名 2022-06-21 15:10
[依頼講演]TMD混晶の物性と新規低温CVD原料の探索
小椋厚志横川 凌明大/MREL)・若林 整東工大SDM2022-28
抄録 (和) (まだ登録されていません) 
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文献情報 信学技報, vol. 122, no. 84, SDM2022-28, pp. 16-19, 2022年6月.
資料番号 SDM2022-28 
発行日 2022-06-14 (SDM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2022-28

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2022-06-21 - 2022-06-21 
開催地(和) 名古屋大学 VBL3F 
開催地(英) Nagoya Univ. VBL3F 
テーマ(和) MOSデバイス・メモリ・パワーデバイス高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催) 
テーマ(英) Material Science and Process Technology for MOS Devices, Memories, and Power Devices 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2022-06-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) TMD混晶の物性と新規低温CVD原料の探索 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Study on TMD mixed crystal characteristics and novel precursor for low-temperature CVD. 
サブタイトル(英)  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 小椋 厚志 / Atsushi Ogura / オグラ アツシ
第1著者 所属(和/英) 明治大学 理工学部/再生可能エネルギーインスティテュート (略称: 明大/MREL)
Meiji University, School of Science and Technologyering/Meiji Renewable Energy Laboratory (略称: Meiji Univ., MREL)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 横川 凌 / Ryo Yokogawa / ヨコガワ リョウ
第2著者 所属(和/英) 明治大学 理工学部/再生可能エネルギーインスティテュート (略称: 明大/MREL)
Meiji University, School of Science and Technologyering/Meiji Renewable Energy Laboratory (略称: Meiji Univ., MREL)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 若林 整 / Hitoshi Wakabayashi / ワカバヤシ ヒトシ
第3著者 所属(和/英) 東京工業大学 (略称: 東工大)
Tokyo Techinical Institute (略称: Tokyo Tech.)
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講演者 第1著者 
発表日時 2022-06-21 15:10:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2022-28 
巻番号(vol) vol.122 
号番号(no) no.84 
ページ範囲 pp.16-19 
ページ数
発行日 2022-06-14 (SDM) 


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