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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2021-12-02 15:35 シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 ○小平行秀・中山晴貴・野中尚貴（会津大）・松井知己・高橋篤司（東工大）・児玉親亮（キオクシア）  VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 エレソ技報アーカイブへのリンク：ICD2021-55 |
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| 抄録 | （和） | 半導体プロセスの微細化のために，光リソグラフィ技術の進展が求められている．光リソグラフィの解像度を改善する技術のうち，ウェハ上に転写されるパタンの忠実性をマスク最適化によって改善する光近接効果補正(Optical Proximity Correction, OPC)は，光リソグラフィ技術の進展において重要な役割を担っている．このマスク最適化問題は0-1 2次計画問題に定式化できることが知られている．近年，0-1 2次計画問題を高速に解く量子アニーリングが注目を集めている．そこで本稿では，マスク最適化問題に対して，シミュレーテッド量子アニーリングを用いて，ターゲットパタンへの忠実性とプロセスばらつきへの耐性を持つマスクを生成する手法を検討する．計算機実験において，シミュレーテッド量子アニーリングを用いた手法と既存手法に対して，得られたマスクのターゲットパタンへの忠実性とプロセスばらつきへの耐性，計算時間について評価を行う． |
| （英） | To realize continuously scaling down of technology node, progressing manufacturing process by optical lithography is required. In resolution enhancement techniques in the optical lithography, Optical Proximity Correction (OPC), which improves shape fidelity of formed patterns on wafers to designed target patterns by mask optimization, is essential. It is known that the mask optimization can be formulated as 0-1 Quadratic Programming problem (0-1 QP). Recently, Quantum Annealing, which solves 0-1 QP in a short computation time, has attracted attention. In this paper, we examine a method using Simulated Quantum Annealing (SQA) for the mask optimization problem to obtain a mask with high fidelity to target patterns as well as high tolerance to process variation. In experiments, we evaluate the method using SQA and existing methods in fidelity to target patterns, tolerance to process variation, and execution time. | |
| キーワード | （和） | 光リソグラフィ / マスク最適化 / 光近接効果補正 / シミュレーテッド量子アニーリング / / / / |
| （英） | optical lithography / mask optimization / Optical Proximity Correction (OPC) / Simulated Quantum Annealing / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 121, no. 277, VLD2021-45, pp. 162-167, 2021年12月. | |
| 資料番号 | VLD2021-45 | |
| 発行日 | 2021-11-24 (VLD, ICD, DC, RECONF) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | VLD2021-45 ICD2021-55 DC2021-51 RECONF2021-53 エレソ技報アーカイブへのリンク：ICD2021-55 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | VLD DC RECONF ICD IPSJ-SLDM |
| 開催期間 | 2021-12-01 - 2021-12-02 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | デザインガイア2021 -VLSI設計の新しい大地- |
| テーマ（英） | Design Gaia 2021 -New Field of VLSI Design- |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2021-12-VLD-DC-RECONF-ICD-SLDM |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | シミュレーテッド量子アニーリングを用いたマスク最適化手法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Mask Optimization Method Using Simulated Quantum Annealing |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光リソグラフィ / optical lithography |
| キーワード(2)（和/英） | マスク最適化 / mask optimization |
| キーワード(3)（和/英） | 光近接効果補正 / Optical Proximity Correction (OPC) |
| キーワード(4)（和/英） | シミュレーテッド量子アニーリング / Simulated Quantum Annealing |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 小平 行秀 / Yukihide Kohira / コヒラ ユキヒデ |
| 第1著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中山 晴貴 / Haruki Nakayama / ナカヤマ ハルキ |
| 第2著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | 野中 尚貴 / Naoki Nonaka / ノナカ ナオキ |
| 第3著者 所属（和/英） | 会津大学 (略称： 会津大) The University of Aizu (略称： Univ. of Aizu) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松井 知己 / Tomomi Matsui / マツイ トモミ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第5著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高橋 篤司 / Atsushi Takahashi / タカハシ アツシ |
| 第5著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第6著者 氏名（和/英/ヨミ） | 児玉 親亮 / Chikaaki Kodama / コダマ チカアキ |
| 第6著者 所属（和/英） | キオクシア株式会社 (略称： キオクシア) KIOXIA Corporation (略称： KIOXIA Corporation) |
| 第7著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2021-12-02 15:35:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | VLD2021-45, ICD2021-55, DC2021-51, RECONF2021-53 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | no.277(VLD), no.278(ICD), no.279(DC), no.280(RECONF) |
| ページ範囲 | pp.162-167 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2021-11-24 (VLD, ICD, DC, RECONF) |
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