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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2021-07-06 10:00 リーク電流を利用したPUFの回路構造の提案とシミュレーション評価 ○笈川智秋・宇佐美公良（芝浦工大）  CAS2021-9 VLD2021-9 SIP2021-19 MSS2021-9 |
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| 抄録 | （和） | LSIの個体識別技術の一つに、半導体の物理的特徴を利用したPUF(Physically Unclonable Function)がある。この技術により、正規品の認証が可能となり、模造品の流通を防ぐことが期待されている。しかし近年、機械学習の発展により、認証を回避される可能性が指摘されている。本研究では、機械学習耐性の向上を目的として、サブスレッショルドリーク電流を利用したPUF(LR-PUF:Leak Racing PUF)を提案する。また、LR-PUFを回路として実装し、シミュレーション評価を行う。 |
| （英） | One of the LSI individual identification technologies is PUF (Physically Unclonable Function), which utilizes the physical characteristics of semiconductors. This technology is expected to make it possible to authenticate genuine products and prevent the distribution of counterfeit products. However, in recent years, the possibility of authentication evasion has been pointed out due to the development of machine learning. In this study, we propose a PUF (LR-PUF: Leak Racing PUF) that uses sub-threshold leakage current to improve the resistance to machine learning. We also implement the LR-PUF as a circuit and perform simulation evaluation. | |
| キーワード | （和） | PUF / セキュリティ / リーク電流 / 製造ばらつき / / / / |
| （英） | PUF / Security / Leakage Current / Manufacturing Variation / / / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 121, no. 90, VLD2021-9, pp. 42-47, 2021年7月. | |
| 資料番号 | VLD2021-9 | |
| 発行日 | 2021-06-28 (CAS, VLD, SIP, MSS) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | CAS2021-9 VLD2021-9 SIP2021-19 MSS2021-9 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SIP CAS VLD MSS |
| 開催期間 | 2021-07-05 - 2021-07-06 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | システムと信号処理および一般 |
| テーマ（英） | |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | VLD |
| 会議コード | 2021-07-SIP-CAS-VLD-MSS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | リーク電流を利用したPUFの回路構造の提案とシミュレーション評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Circuit Structure of PUF using Leakage Current and Simulation Evaluation |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | PUF / PUF |
| キーワード(2)（和/英） | セキュリティ / Security |
| キーワード(3)（和/英） | リーク電流 / Leakage Current |
| キーワード(4)（和/英） | 製造ばらつき / Manufacturing Variation |
| キーワード(5)（和/英） | / |
| キーワード(6)（和/英） | / |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 笈川 智秋 / Tomoaki Oikawa / オイカワ トモアキ |
| 第1著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学 (略称： 芝浦工大) Shibaura Institute of Technology (略称： Shibaura Inst. of Tech.) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 宇佐美 公良 / Kimiyoshi Usami / ウサミ キミヨシ |
| 第2著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学 (略称： 芝浦工大) Shibaura Institute of Technology (略称： Shibaura Inst. of Tech.) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | / / |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2021-07-06 10:00:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | VLD |
| 資料番号 | CAS2021-9, VLD2021-9, SIP2021-19, MSS2021-9 |
| 巻番号（vol） | vol.121 |
| 号番号（no） | no.89(CAS), no.90(VLD), no.91(SIP), no.92(MSS) |
| ページ範囲 | pp.42-47 |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2021-06-28 (CAS, VLD, SIP, MSS) |
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