お知らせ 2023年度・2024年度 学生員 会費割引キャンペーン実施中です
お知らせ 技術研究報告と和文論文誌Cの同時投稿施策(掲載料1割引き)について
お知らせ 電子情報通信学会における研究会開催について
お知らせ NEW 参加費の返金について
電子情報通信学会 研究会発表申込システム
講演論文 詳細
技報閲覧サービス
[ログイン]
技報アーカイブ
 トップに戻る 前のページに戻る   [Japanese] / [English] 

講演抄録/キーワード
講演名 2021-06-22 13:10
[記念講演]イソプロピルアルコールを用いた金属銅及び酸化銅上の表面改質
間脇武蔵東北大)・寺本章伸広島大)・石井勝利東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ)・志波良信諏訪智之東北大)・東雲秀司清水 亮梅澤好太東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ)・黒田理人白井泰雪須川成利東北大SDM2021-22 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2021-22
抄録 (和) 半導体製造工程における銅配線上での選択的形成プロセスに向けて,イソプロピルアルコール(IPA)を用いた酸化銅の還元反応とそのメカニズムを調査した.また銅及び酸化銅表面上でのIPAガスの分解挙動について調査した.フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)によりIPAガスの分解挙動と吸着特性を,X線光電子分光法(XPS)によりIPA処理前後のサンプル表面の化学結合状態を解析した.解析結果より,銅配線形成プロセスの温度範囲にてIPAガスによる酸化銅の還元条件,および銅及び酸化銅表面上のIPAガスの分解挙動を明らかにした. 
(英) The reduction of copper oxide by isopropyl alcohol (IPA) gas and its mechanism were investigated toward the selective process of copper (Cu) wiring. The decomposition behavior of IPA gas during the IPA treatment on Cu and copper oxide surfaces was also studied. The decomposition and reaction behaviors and adsorption characteristics of IPA were investigated by the Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR). The chemical structures of the Cu and copper oxide surfaces before and after IPA treatment were analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Based on the experiments, the process condition to induce reduction of copper oxide by IPA gas within the Cu processes temperature range was identified. In addition, the decomposition behavior of IPA gas on Cu and copper oxide surfaces was clarified.
キーワード (和) IPA / / 還元 / 選択的ALD / 自己組織化単分子層 / FT-IR / XPS /  
(英) IPA / Cu / Reduction / Area-Selective ALD / SAMs / FT-IR / XPS /  
文献情報 信学技報, vol. 121, no. 71, SDM2021-22, pp. 1-6, 2021年6月.
資料番号 SDM2021-22 
発行日 2021-06-15 (SDM) 
ISSN Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2021-22 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2021-22

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2021-06-22 - 2021-06-22 
開催地(和) オンライン開催 
開催地(英) Online 
テーマ(和) MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術 (応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会との合同開催) 
テーマ(英) Material Science and Process Technology for MOS Devices and Memories 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2021-06-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) イソプロピルアルコールを用いた金属銅及び酸化銅上の表面改質 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Modification of states of metal copper and copper oxide due to isopropyl alcohol treatment 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) IPA / IPA  
キーワード(2)(和/英) / Cu  
キーワード(3)(和/英) 還元 / Reduction  
キーワード(4)(和/英) 選択的ALD / Area-Selective ALD  
キーワード(5)(和/英) 自己組織化単分子層 / SAMs  
キーワード(6)(和/英) FT-IR / FT-IR  
キーワード(7)(和/英) XPS / XPS  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 間脇 武蔵 / Takezo Mawaki / マワキ タケゾウ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 寺本 章伸 / Akinobu Teramoto / テラモト アキノブ
第2著者 所属(和/英) 広島大学 (略称: 広島大)
Hiroshima University (略称: Hiroshima Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 石井 勝利 / Katsutoshi Ishii / イシイ カツトシ
第3著者 所属(和/英) 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ (略称: 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ)
Tokyo Electron Technology Solutions (略称: Tokyo Electron Technology Solutions)
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) 志波 良信 / Yoshinobu Shiba / シバ ヨシノブ
第4著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) 諏訪 智之 / Tomoyuki Suwa / スワ トモユキ
第5著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) 東雲 秀司 / Shuji Azumo / アズモ シュウジ
第6著者 所属(和/英) 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ (略称: 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ)
Tokyo Electron Technology Solutions (略称: Tokyo Electron Technology Solutions)
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) 清水 亮 / Akira Shimizu / シミズ アキラ
第7著者 所属(和/英) 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ (略称: 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ)
Tokyo Electron Technology Solutions (略称: Tokyo Electron Technology Solutions)
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) 梅澤 好太 / Kota Umezawa / ウメザワ コウタ
第8著者 所属(和/英) 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ (略称: 東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ)
Tokyo Electron Technology Solutions (略称: Tokyo Electron Technology Solutions)
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) 黒田 理人 / Rihito Kuroda / クロダ リヒト
第9著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) 白井 泰雪 / Yasuyuki Shirai / シライ ヤスユキ
第10著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) 須川 成利 / Shigetoshi Sugawa / スガワ シゲトシ
第11著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第12著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第13著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第14著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第15著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第16著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第17著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第18著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第19著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) / /
第20著者 所属(和/英) (略称: )
(略称: )
講演者 第1著者 
発表日時 2021-06-22 13:10:00 
発表時間 40分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2021-22 
巻番号(vol) vol.121 
号番号(no) no.71 
ページ範囲 pp.1-6 
ページ数
発行日 2021-06-15 (SDM) 


[研究会発表申込システムのトップページに戻る]

[電子情報通信学会ホームページ]


IEICE / 電子情報通信学会