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講演抄録/キーワード
講演名 2021-06-11 10:00
NiOおよびCu2O下地膜上に成膜したコバルトフェライト薄膜の磁気特性
岩動大樹東北大)・神島謙二柿崎浩一埼玉大MRIS2021-4
抄録 (和) コバルトフェライト(CFO)に垂直磁気異方性を発現させることを目的として、配向制御用下地膜上にCFOを積層し、その結晶構造および磁気特性の評価を行った。その結果、まず、NiO薄膜の結晶配向は成膜時の投入電力に依存して変化し、2.2 W/cm2で成膜後、900ºCで熱処理することで(100)面が膜面内に強く配向した。次に(100)配向NiO下地膜上にCu2O薄膜を成膜した結果、(100)面が膜面内に優先配向した。最後にNiO/Cu2O/CFO積層膜を作製したところ、CFO相は(110)面が膜面内に配向しており、磁気的には等方であった。 
(英) In order to make Cobalt ferrite(CFO) exhibit perpendicular magnetic anisotropy, CFO thin films were deposited on a few orientation-controled seed layers. Its crystal structure and magnetic properties were evaluated. The crystal orientation of the NiO thin film changed depending on the incident power, and the (100) crystal plane was strongly oriented in the film plane by depositing at the incident power of 2.2 W/cm2 and post-annealing at 900ºC. Next, a Cu2O thin film was deposited on the (001) oriented NiO seed layer, which resulted in the (100) crystal plane of Cu2O was preferentially oriented in the film surface. Finally, as a result of preparing the NiO / Cu2O / CFO thin film, the (110) plane of the CFO was oriented in the film plane, and its magnetic property was isotropic.
キーワード (和) コバルトフェライト / 磁気記録媒体 / 垂直磁気異方性 / エピタキシャル成長 / スパッタリング / / /  
(英) cobalt ferrite / Magnetic recording medium / perpendicular magnetic anisotropy / epitaxial growth / sputtering / / /  
文献情報 信学技報, vol. 121, no. 60, MRIS2021-4, pp. 18-21, 2021年6月.
資料番号 MRIS2021-4 
発行日 2021-06-03 (MRIS) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685  Online edition: ISSN 2432-6380
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PDFダウンロード MRIS2021-4

研究会情報
研究会 MRIS ITE-MMS  
開催期間 2021-06-10 - 2021-06-11 
開催地(和) 東北大通研 
開催地(英) RIEC, Tohoku U. 
テーマ(和) 記録システム,一般 
テーマ(英) Recording systems, etc. 
講演論文情報の詳細
申込み研究会 MRIS 
会議コード 2021-06-MRIS-MMS 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) NiOおよびCu2O下地膜上に成膜したコバルトフェライト薄膜の磁気特性 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Magnetic properties of cobalt ferrite thin films deposited on NiO and Cu2O seed layers 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) コバルトフェライト / cobalt ferrite  
キーワード(2)(和/英) 磁気記録媒体 / Magnetic recording medium  
キーワード(3)(和/英) 垂直磁気異方性 / perpendicular magnetic anisotropy  
キーワード(4)(和/英) エピタキシャル成長 / epitaxial growth  
キーワード(5)(和/英) スパッタリング / sputtering  
キーワード(6)(和/英) /  
キーワード(7)(和/英) /  
キーワード(8)(和/英) /  
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 岩動 大樹 / Daiki Isurugi / イスルギ ダイキ
第1著者 所属(和/英) 東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.)
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) 神島 謙二 / Kenji Kamishima / カミシマ ケンジ
第2著者 所属(和/英) 埼玉大学 (略称: 埼玉大)
Saitama University (略称: Saitama Univ.)
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) 柿崎 浩一 / Koichi Kakizaki / カキザキ コウイチ
第3著者 所属(和/英) 埼玉大学 (略称: 埼玉大)
Saitama University (略称: Saitama Univ.)
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講演者
発表日時 2021-06-11 10:00:00 
発表時間 25 
申込先研究会 MRIS 
資料番号 IEICE-MRIS2021-4 
巻番号(vol) IEICE-121 
号番号(no) no.60 
ページ範囲 pp.18-21 
ページ数 IEICE-4 
発行日 IEICE-MRIS-2021-06-03 


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