研究会情報 |
研究会 |
SDM |
開催期間 |
2020-11-19 - 2020-11-20 |
開催地(和) |
オンライン開催 |
開催地(英) |
Online |
テーマ(和) |
プロセス・デバイス・回路シミュレーションおよび一般 |
テーマ(英) |
Process, Device, Circuit simulation, etc. |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
SDM |
会議コード |
2020-11-SDM |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
反応性力場分子動力学計算および量子化学計算を活用したCVD/ALD薄膜堆積機構の解析 |
サブタイトル(和) |
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タイトル(英) |
Analyses of CVD/ALD thin film deposition mechanism by reactive molecular dynamics simulation and quantum chemical calculation |
サブタイトル(英) |
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キーワード(1)(和/英) |
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キーワード(2)(和/英) |
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キーワード(3)(和/英) |
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キーワード(4)(和/英) |
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キーワード(5)(和/英) |
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キーワード(6)(和/英) |
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キーワード(7)(和/英) |
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キーワード(8)(和/英) |
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
徳増 崇 / Takashi Tokumasu / トクマス タカシ |
第1著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
上根 直也 / Naoya Uene / ウエネ ナオヤ |
第2著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
馬渕 拓哉 / Takuya Mabuchi / マブチ タクヤ |
第3著者 所属(和/英) |
東北大学 (略称: 東北大)
Tohoku University (略称: Tohoku Univ.) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
財津 優 / Masaru Zaitsu / ザイツ マサル |
第4著者 所属(和/英) |
(株)ジャパン・アドバンスド・ケミカルズ (略称: JAC)
Japan Advanced Chemicals (略称: JAC) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
安原 重雄 / Shigeo Yasuhara / ヤスハラ シゲオ |
第5著者 所属(和/英) |
(株)ジャパン・アドバンスド・ケミカルズ (略称: JAC)
Japan Advanced Chemicals (略称: JAC) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第6著者 所属(和/英) |
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第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第7著者 所属(和/英) |
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第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第8著者 所属(和/英) |
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第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第11著者 所属(和/英) |
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第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第12著者 所属(和/英) |
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第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
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第20著者 所属(和/英) |
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講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2020-11-20 13:30:00 |
発表時間 |
60分 |
申込先研究会 |
SDM |
資料番号 |
SDM2020-31 |
巻番号(vol) |
vol.120 |
号番号(no) |
no.239 |
ページ範囲 |
pp.41-46 |
ページ数 |
6 |
発行日 |
2020-11-12 (SDM) |