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| 講演抄録／キーワード | ||
| 講演名 | 2020-10-05 14:45 Co2FeSi/MgO二層構造における垂直磁気異方性の評価 ○松下瑛介・高村陽太・スタットラー嘉也・中川茂樹（東工大）  MRIS2020-4 エレソ技報アーカイブへのリンク：MRIS2020-4 |
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| 抄録 | （和） | ハーフメタル強磁性体であるフルホイスラー合金 Co_2FeSi(CFS)/MgO 二層膜における垂直磁気異方性の起源を調査した．磁化特性の CFS 膜厚依存性から，薄膜内部の寄与を表す垂直磁気異方性定数が膜厚 0.4 nm か ら 1.4 nm において全て正であり，0.7 nm 以下で急増したことがわかった.これらの試料の断面構造を走査透過型電子顕微鏡で観察すると，CFS 層は極薄膜においても結晶化していたが，膜厚 0.7 nm 前後で有意な差は観測されなかった.一方で，1.4 nm の極薄膜 CFS 層における積層方向の原子間隔が，格子整合性から予測されるものとは大きく 異なるものであった.さらに，CFS 層内の Si がバッファ層に拡散していることも確認し，形成された CFS が非化学量論組成であることを示唆する結果が得られた. |
| （英） | We investigated the origin of perpendicular magnetic anisotropy in full-Heusler alloy Co_2FeSi(CFS)/MgO bilayers in which CFS is expected as half-metallic ferromagnets. From analysis of CFS-thickness dependence of magnetic properties, the perpendicular magnetic anisotropy constant of the bulk contribution was found to be positive in a wide range of CFS-thickness from 0.4 nm to 1.4 nm and was drastically increased in less than 0.7 nm. The cross-sectional structures of these samples were observed by a scanning transmission electron microscope. Crystalized CFS layers were observed even in ultrathin film region. However, no significant difference was not observed in around 0.7 nm. Surprisingly, the atomic distance for out-of-plane direction was much larger in 1.4 nm thick CFS layer compared to calculated value based on the expected epitaxial relationship. In addition, the interdiffusion of Si was confirmed from CFS layers to buffer layers, suggesting non-stoichiometric composition of CFS layers. | |
| キーワード | （和） | フルホイスラー合金 / ハーフメタル強磁性体 / 垂直磁気異方性 / 界面磁気異方性 / 走査透過型電子顕微鏡 / 微細構造評価 / / |
| （英） | Full-Heusler alloy / Half-metallic ferromagnet / Perpendicular magnetic anisotropy / Interfacial magnetic anisotropy / Scanning transmission electron microscope / Investigation of microstructure / / | |
| 文献情報 | 信学技報, vol. 120, no. 180, MRIS2020-4, pp. 16-19, 2020年10月. | |
| 資料番号 | MRIS2020-4 | |
| 発行日 | 2020-09-28 (MRIS) | |
| ISSN | Online edition: ISSN 2432-6380 | |
| 著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します．(許諾番号：10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) | |
| PDFダウンロード | MRIS2020-4 エレソ技報アーカイブへのリンク：MRIS2020-4 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MRIS ITE-MMS |
| 開催期間 | 2020-10-05 - 2020-10-05 |
| 開催地（和） | オンライン開催 |
| 開催地（英） | Online |
| テーマ（和） | ヘッド，スピントロニクス，固体メモリ, 媒体, 一般 |
| テーマ（英） | Recording Head, Spintronics, Solid State Memory, Media, etc. |
| 講演論文情報の詳細 | |
| 申込み研究会 | MRIS |
| 会議コード | 2020-10-MRIS-MMS |
| 本文の言語 | 日本語 |
| タイトル（和） | Co2FeSi/MgO二層構造における垂直磁気異方性の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Evaluation of perpendicular magnetic anisotropy in Co2FeSi/MgO bilayers |
| サブタイトル（英） | |
| キーワード(1)（和/英） | フルホイスラー合金 / Full-Heusler alloy |
| キーワード(2)（和/英） | ハーフメタル強磁性体 / Half-metallic ferromagnet |
| キーワード(3)（和/英） | 垂直磁気異方性 / Perpendicular magnetic anisotropy |
| キーワード(4)（和/英） | 界面磁気異方性 / Interfacial magnetic anisotropy |
| キーワード(5)（和/英） | 走査透過型電子顕微鏡 / Scanning transmission electron microscope |
| キーワード(6)（和/英） | 微細構造評価 / Investigation of microstructure |
| キーワード(7)（和/英） | / |
| キーワード(8)（和/英） | / |
| 第1著者 氏名（和/英/ヨミ） | 松下 瑛介 / Eisuke Matsushita / マツシタ エイスケ |
| 第1著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第2著者 氏名（和/英/ヨミ） | 高村 陽太 / Yota Takamura / タカムラ ヨウタ |
| 第2著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第3著者 氏名（和/英/ヨミ） | スタットラー 嘉也 / Yoshiya Stutler / スタットラー ヨシヤ |
| 第3著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
| 第4著者 氏名（和/英/ヨミ） | 中川 茂樹 / Shigeki Nakagawa / ナカガワ シゲキ |
| 第4著者 所属（和/英） | 東京工業大学 (略称： 東工大) Tokyo Institute of Technology (略称： Tokyo Tech) |
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| 講演者 | 第1著者 |
| 発表日時 | 2020-10-05 14:45:00 |
| 発表時間 | 25分 |
| 申込先研究会 | MRIS |
| 資料番号 | MRIS2020-4 |
| 巻番号（vol） | vol.120 |
| 号番号（no） | no.180 |
| ページ範囲 | pp.16-19 |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2020-09-28 (MRIS) |
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