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講演抄録/キーワード
講演名 2020-02-07 16:25
[招待講演]裏面照射型CMOSイメージセンサにおける光学機能拡張
横川創造ソニーセミコンダクタソリューションズSDM2019-97 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2019-97
抄録 (和) 裏面照射型CMOSイメージセンサにおいて波長程度もしくはサブ波長サイズスケールの構造体により光学視点で機能拡張する事例が増えている。本技報は2019 IEDMでの報告を基にそのような光学的な機能拡張の事例をレビューする。イメージセンサの基本性能の向上に加えて新たな機能価値を付与することで、将来の様々なセンシング用途へのアプリケーション拡大が期待される。 
(英) Recent progress of Back-illuminated CMOS image sensor (BI-CIS), focusing on their pixel improvements with design of optical properties using subwavelength sizescale structures and photonics technologies, are reviewed. These technologies contribute not only improving BI-CIS basic performances but also adding new functions for versatile sensing applications. The contents were presented as an invited talk at 2019 IEEE International Electron Device Meeting (IEDM).
キーワード (和) CMOS / イメージセンサ / 光学 / / / / /  
(英) CMOS / Image Sensor / Photonics / / / / /  
文献情報 信学技報, vol. 119, no. 410, SDM2019-97, pp. 39-43, 2020年2月.
資料番号 SDM2019-97 
発行日 2020-01-31 (SDM) 
ISSN Print edition: ISSN 0913-5685    Online edition: ISSN 2432-6380
著作権に
ついて
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034)
PDFダウンロード SDM2019-97 エレソ技報アーカイブへのリンク:SDM2019-97

研究会情報
研究会 SDM  
開催期間 2020-02-07 - 2020-02-07 
開催地(和) 東京大学/本郷キャンパス工学部4号館3階42講義室(419号室) 
開催地(英) Tokyo University-Hongo 
テーマ(和) 配線・実装技術と関連材料技術 
テーマ(英)  
講演論文情報の詳細
申込み研究会 SDM 
会議コード 2020-02-SDM 
本文の言語 日本語 
タイトル(和) 裏面照射型CMOSイメージセンサにおける光学機能拡張 
サブタイトル(和)  
タイトル(英) Nanophotonics contributions to state-of-the-art CMOS Image Sensors 
サブタイトル(英)  
キーワード(1)(和/英) CMOS / CMOS  
キーワード(2)(和/英) イメージセンサ / Image Sensor  
キーワード(3)(和/英) 光学 / Photonics  
キーワード(4)(和/英) /  
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第1著者 氏名(和/英/ヨミ) 横川 創造 / Sozo Yokogawa / ヨコガワ ソウゾウ
第1著者 所属(和/英) ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 (略称: ソニーセミコンダクタソリューションズ)
Sony Semiconductor Solutions Corporation (略称: SSS)
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講演者 第1著者 
発表日時 2020-02-07 16:25:00 
発表時間 35分 
申込先研究会 SDM 
資料番号 SDM2019-97 
巻番号(vol) vol.119 
号番号(no) no.410 
ページ範囲 pp.39-43 
ページ数
発行日 2020-01-31 (SDM) 


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