講演抄録/キーワード |
講演名 |
2019-12-26 11:05
ダイヤモンド電極の作製と電解硫酸技術 ○新藤恵美(千葉工大)・永井達夫(ミクロエース)・坂本幸弘(千葉工大) OME2019-50 エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2019-50 |
抄録 |
(和) |
ホウ酸トリメチルB(CH3O)3をホウ素源として用い,マイクロ波プラズマCVD装置を用いてボロンドープダイヤモンドを合成した.適切なキャリアガス流量に設定することでアモルファスカーボンの除去とホウ素のドーピングが同時に可能となり,良質かつ低抵抗なダイヤモンド膜の作製が可能であった.また,このダイヤモンド電極を用いて作製する電解硫酸溶液中の酸化剤濃度を測定できるよう,ラマン分光法による検討を行った.酸化剤濃度を調製した溶液をラマン分光分析した結果,硫酸濃度0-0.002mol/m3の範囲においては電解硫酸に存在する3種の酸化剤を同時に検知可能であり,定量分析の可能性が示唆された. |
(英) |
Boron-doped diamond was synthesized with trimethyl borate B(CH3O)3 as boron source using a microwave plasma CVD apparatus. By setting the appropriate flow rate of the carrier gas, it was possible to remove amorphous carbon and to dope boron at the same time, and the diamond film with high quality and low resistance was produced. In order to measure the concentrations of oxidizers in the electrolyzed sulfuric acid solution prepared using this diamond electrode, the method using Raman spectroscopy was discussed. As the result of Raman spectroscopic analysis of the solution prepared with oxidizing agents, three oxidizing agents existed in electrolyzed sulfuric acid could be detected simultaneously in the sulfuric acid concentration range of 0-0.002 mol/m3, and the possibility of quantitative analysis was suggested. |
キーワード |
(和) |
CVD / ダイヤモンド / 電極 / 電解硫酸 / ラマン分光分析 / / / |
(英) |
CVD / Diamond / electrode / electrolyzed sulfuric acid / Raman spectroscopy / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 119, no. 357, OME2019-50, pp. 9-12, 2019年12月. |
資料番号 |
OME2019-50 |
発行日 |
2019-12-19 (OME) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
PDFダウンロード |
OME2019-50 エレソ技報アーカイブへのリンク:OME2019-50 |
研究会情報 |
研究会 |
OME |
開催期間 |
2019-12-26 - 2019-12-27 |
開催地(和) |
沖縄県青年会館 |
開催地(英) |
Okinawaken Seinenkaikan |
テーマ(和) |
表面技術、薄膜、腐食、電気化学、エレクトロニクスデバイス、バイオテクノロジー、医工学 |
テーマ(英) |
surface technology, surface modification, thin film, corrosion, electrochrmistry, implementation technology |
講演論文情報の詳細 |
申込み研究会 |
OME |
会議コード |
2019-12-OME |
本文の言語 |
日本語 |
タイトル(和) |
ダイヤモンド電極の作製と電解硫酸技術 |
サブタイトル(和) |
|
タイトル(英) |
Preparation of diamond electrodes and electrolyzed sulfuric acid technology |
サブタイトル(英) |
|
キーワード(1)(和/英) |
CVD / CVD |
キーワード(2)(和/英) |
ダイヤモンド / Diamond |
キーワード(3)(和/英) |
電極 / electrode |
キーワード(4)(和/英) |
電解硫酸 / electrolyzed sulfuric acid |
キーワード(5)(和/英) |
ラマン分光分析 / Raman spectroscopy |
キーワード(6)(和/英) |
/ |
キーワード(7)(和/英) |
/ |
キーワード(8)(和/英) |
/ |
第1著者 氏名(和/英/ヨミ) |
新藤 恵美 / Emi Shindou / |
第1著者 所属(和/英) |
千葉工業大学 (略称: 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称: CIT) |
第2著者 氏名(和/英/ヨミ) |
永井 達夫 / Tatsuo Nagai / |
第2著者 所属(和/英) |
ミクロエース株式会社 (略称: ミクロエース)
Micro Ace Co., Ltd. (略称: Micro Ace) |
第3著者 氏名(和/英/ヨミ) |
坂本 幸弘 / Yukihiro Sakamoto / |
第3著者 所属(和/英) |
千葉工業大学 (略称: 千葉工大)
Chiba Institute of Technology (略称: CIT) |
第4著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第4著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第5著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第5著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第6著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第6著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第7著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第7著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第8著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第8著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第9著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第9著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第10著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第10著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第11著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第11著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第12著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第12著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第13著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第13著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第14著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第14著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第15著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第15著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第16著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第16著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第17著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第17著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第18著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第18著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第19著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第19著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
第20著者 氏名(和/英/ヨミ) |
/ / |
第20著者 所属(和/英) |
(略称: )
(略称: ) |
講演者 |
第1著者 |
発表日時 |
2019-12-26 11:05:00 |
発表時間 |
40分 |
申込先研究会 |
OME |
資料番号 |
OME2019-50 |
巻番号(vol) |
vol.119 |
号番号(no) |
no.357 |
ページ範囲 |
pp.9-12 |
ページ数 |
4 |
発行日 |
2019-12-19 (OME) |
|